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1. 发明专利

TWI586439B 靜態噴灑混合裝置有权
简体标题：静态喷洒混合设备
公开(公告)号：TWI586439B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW101117810
申请日：2012-05-18
申请人：素路彩米克斯派克股份有限公司 , SULZER MIXPAC AG
发明人：海梅爾安卓斯 , HIEMER, ANDREAS
IPC分类号： B05B17/04 , B05B1/02
CPC分类号： B01F5/0641 , B05B7/0408 , B05B7/062 , B05B7/066 , B05B7/0861 , B05B7/10 , B05B15/658

2. 发明专利

TW201600175A 用於把一種從噴射裝置的給出裝置的給出開口出來的黏性介質聚焦的裝置，噴射系統及生產設備审中-公开
简体标题：用于把一种从喷射设备的给出设备的给出开口出来的黏性介质聚焦的设备，喷射系统及生产设备
公开(公告)号：TW201600175A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104115155
申请日：2015-05-13
申请人：羅伯特博斯奇股份有限公司 , ROBERT BOSCH GMBH
发明人：法爾魯本 , WAHL, RUBEN
IPC分类号： B05B1/34 , B05B1/26 , B05C5/02
CPC分类号： B05B7/066 , B05B3/06 , B05B7/0815 , B05B7/083 , B05B7/0861 , B05C5/02
摘要：本發明係有關於一種用於把從噴射裝置的給出裝置的給出開口出來的黏性介質聚焦的裝置，其特徵在於若干用於產生氣流的構件以及一噴嘴裝置，該噴嘴裝置包含至少一氣體出口及一用於該黏性介質之開口。
简体摘要：本发明系有关于一种用于把从喷射设备的给出设备的给出开口出来的黏性介质聚焦的设备，其特征在于若干用于产生气流的构件以及一喷嘴设备，该喷嘴设备包含至少一气体出口及一用于该黏性介质之开口。

3. 发明专利

TW201210655A 具有多劑排放能力之雙模用劑排放系統 DUAL MODE AGENT DISCHARGE SYSTEM WITH MULTIPLE AGENT DISCHARGE CAPABILITY 审中-公开
简体标题：具有多剂排放能力之双模用剂排放系统 DUAL MODE AGENT DISCHARGE SYSTEM WITH MULTIPLE AGENT DISCHARGE CAPABILITY
公开(公告)号：TW201210655A
公开(公告)日：2012-03-16
申请号：TW100128049
申请日：2011-08-05
申请人：韋克陶立公司
发明人：雷利威廉J , 陶勞倫斯W 二世
IPC分类号： A62C
CPC分类号： A62C99/0072 , A62C31/03 , A62C31/07 , B05B1/265 , B05B7/066
摘要：本發明係關於一種可排放霧化液-氣流或霧化成噴霧之液流的排放系統，其具有加壓氣體源及一或多個加壓液體源。流入排放器之液體及氣體係藉由閥門控制，及該排放器可用於排放霧化液-氣流或液流。該排放系統可用於滅火。
简体摘要：本发明系关于一种可排放雾化液-气流或雾化成喷雾之液流的排放系统，其具有加压气体源及一或多个加压液体源。流入排放器之液体及气体系借由阀门控制，及该排放器可用于排放雾化液-气流或液流。该排放系统可用于灭火。

4. 发明专利

TW200924852A 用於各異向性聚焦之裝置 APPARATUS FOR ANISOTROPIC FOCUSING 审中-公开
简体标题：用于各异向性聚焦之设备 APPARATUS FOR ANISOTROPIC FOCUSING
公开(公告)号：TW200924852A
公开(公告)日：2009-06-16
申请号：TW097133425
申请日：2008-09-01
申请人：阿普托麥克股份有限公司 OPTOMEC, INC.
发明人：金布魯斯H KING, BRUCE H. , 沃夫森史蒂芬B WOOLFSON, STEVEN BARRY , 羅麥西大衛H RAMAHI, DAVID H.
IPC分类号： B05B
CPC分类号： H05K3/125 , B05B7/025 , B05B7/0416 , B05B7/0441 , B05B7/0475 , B05B7/066 , B05B7/0807 , B05B7/0884 , B05B12/18 , H05K3/12 , H05K2203/013
摘要：一種用於沈積材料的實質上平面總成。該總成包含數板,其當組合時會界定至少一氣懸體通道,一鞘氣容腔,及一噴嘴。該等構件較好是各異向性的,且較好為矩形。該氣懸體通道可被進一步細分來改良氣懸體流的均一性。
简体摘要：一种用于沉积材料的实质上平面总成。该总成包含数板,其当组合时会界定至少一气悬体信道,一鞘气容腔,及一喷嘴。该等构件较好是各异向性的,且较好为矩形。该气悬体信道可被进一步细分来改良气悬体流的均一性。

5. 发明专利

TW200833425A 二流體噴嘴,基板處理裝置及基板處理方法 TWO-FLUID NOZZLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD 审中-公开
简体标题：二流体喷嘴,基板处理设备及基板处理方法 TWO-FLUID NOZZLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
公开(公告)号：TW200833425A
公开(公告)日：2008-08-16
申请号：TW096146983
申请日：2007-12-10
申请人：大日本斯克琳製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：宮城雅宏 MASAHIRO MIYAGI
IPC分类号： B05B , B08B , H01L
CPC分类号： B05B7/0433 , B05B5/03 , B05B5/0533 , B05B7/066 , H01L21/67051
摘要：基板處理裝置係具備有朝基板噴出作為處理液之純水液滴的二流體噴嘴3,噴嘴3係具備有內筒構件32與外筒構件33。氣體係在作為氣體流路的內筒構件32內流動,而處理液則在由內筒構件32與外筒構件33構成的處理液流路中,朝下方流動。內筒構件32的下端部321下方成為混合區域302,在混合區域302中進行氣體與處理液的混合並生成細微液滴,且從外筒構件33下端的噴出口31噴出。在氣體流路內設有第1電極61,在處理液流路內設有第2電極62,藉由對第1電極61與第2電極62間賦予電位差,便對處理液進行電荷感應,而生成帶電液滴。在噴嘴3中可在依簡單構造將第1電極61隔離開於處理液之情況下,效率佳地使液滴帶電。
简体摘要：基板处理设备系具备有朝基板喷出作为处理液之纯水液滴的二流体喷嘴3,喷嘴3系具备有内筒构件32与外筒构件33。气体系在作为气体流路的内筒构件32内流动,而处理液则在由内筒构件32与外筒构件33构成的处理液流路中,朝下方流动。内筒构件32的下端部321下方成为混合区域302,在混合区域302中进行气体与处理液的混合并生成细微液滴,且从外筒构件33下端的喷出口31喷出。在气体流路内设有第1电极61,在处理液流路内设有第2电极62,借由对第1电极61与第2电极62间赋予电位差,便对处理液进行电荷感应,而生成带电液滴。在喷嘴3中可在依简单构造将第1电极61隔离开于处理液之情况下,效率佳地使液滴带电。

6. 发明专利

TWI523696B 噴霧嘴及具有該噴霧嘴的塗敷系統有权
简体标题：喷雾嘴及具有该喷雾嘴的涂敷系统
公开(公告)号：TWI523696B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW103111675
申请日：2014-03-28
申请人：恩傑特股份有限公司 , ENJET CO., LTD.
发明人：邊渡泳 , BYUN, DO-YOUNG , 恩古耶武達特 , NGUYEN, VU-DAT , 成百訓 , SEONG, BAEK-HOON
IPC分类号： B05B17/04
CPC分类号： B05B5/03 , B05B5/08 , B05B7/0458 , B05B7/066 , B05B7/0861 , B05B12/12

7. 发明专利

TWI496620B 具備調整構件之噴霧裝置有权
简体标题：具备调整构件之喷雾设备
公开(公告)号：TWI496620B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW099101399
申请日：2010-01-19
申请人：博蘭智塗裝控股公司 , FINISHING BRANDS HOLDINGS INC.
发明人：橋本成史 , HASHIMOTO, SHIGEFUMI , 西川俊博 , NISHIKAWA, TOSHIHIRO
IPC分类号： B05B7/08
CPC分类号： B05B1/306 , B05B7/066 , B05B7/0815 , B05B12/14 , B05B15/55 , B05B15/58 , B05B15/65

8. 发明专利

TWI494168B 少量液體噴霧裝置失效
简体标题：少量液体喷雾设备
公开(公告)号：TWI494168B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW097128180
申请日：2008-07-24
申请人：能多順股份有限公司 , NORDSON CORPORATION
发明人：島田隆治 , SHIMADA, TAKAJI
IPC分类号： B05B1/34 , B05B1/14 , B05C11/02
CPC分类号： B05B7/066 , B05B7/0861

9. 发明专利

TWI488667B 具有多劑排放能力之雙模用劑排放系統有权
简体标题：具有多剂排放能力之双模用剂排放系统
公开(公告)号：TWI488667B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW100128049
申请日：2011-08-05
申请人：韋克陶立公司 , VICTAULIC COMPANY
发明人：雷利威廉J , REILLY, WILLIAM J. , 陶勞倫斯W 二世 , THAU, LAWRENCE W. JR.
IPC分类号： A62C35/64 , A62C35/00
CPC分类号： A62C99/0072 , A62C31/03 , A62C31/07 , B05B1/265 , B05B7/066

10. 发明专利

TW201039924A 具備調整構件之噴霧裝置 SPRAY DEVICE HAVING ADJUSTING MEMBER 审中-公开
简体标题：具备调整构件之喷雾设备 SPRAY DEVICE HAVING ADJUSTING MEMBER
公开(公告)号：TW201039924A
公开(公告)日：2010-11-16
申请号：TW099101399
申请日：2010-01-19
申请人：伊利諾工具工程公司
发明人：橋本成史 , 西川俊博
IPC分类号： B05B
CPC分类号： B05B1/306 , B05B7/066 , B05B7/0815 , B05B12/14 , B05B15/55 , B05B15/58 , B05B15/65
摘要：本發明係提供一種可容易地調整塗料的吐出量，並能效率良好地進行噴嘴的清洗之噴霧裝置。本發明之噴霧裝置400，具備噴嘴122、用於打開/關閉塗料噴出孔之針頭150、被固定於針頭上之前活塞170、及按壓前活塞之針頭彈簧174。進而，設有針頭位置調整機構，用於在沿噴嘴的中心軸線的方向，調整針頭150的位置。針頭位置調整機構，包含以噴嘴122的中心軸線為中心而可旋轉的調整構件430、及旋轉位置設定構件450，該旋轉位置設定構件，用於對應上述調整構件的旋轉角度，來設定沿噴嘴的中心軸線之前活塞170的位置。
简体摘要：本发明系提供一种可容易地调整涂料的吐出量，并能效率良好地进行喷嘴的清洗之喷雾设备。本发明之喷雾设备400，具备喷嘴122、用于打开/关闭涂料喷出孔之针头150、被固定于针头上之前活塞170、及按压前活塞之针头弹簧174。进而，设有针头位置调整机构，用于在沿喷嘴的中心轴线的方向，调整针头150的位置。针头位置调整机构，包含以喷嘴122的中心轴线为中心而可旋转的调整构件430、及旋转位置设置构件450，该旋转位置设置构件，用于对应上述调整构件的旋转角度，来设置沿喷嘴的中心轴线之前活塞170的位置。

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