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    • 2. 发明专利
    • 微型TAS用基板的表面處理方法及裝置以及微型TAS用基板的表面處理用遮罩
    • 微型TAS用基板的表面处理方法及设备以及微型TAS用基板的表面处理用遮罩
    • TW201143886A
    • 2011-12-16
    • TW100105647
    • 2011-02-21
    • 牛尾電機股份有限公司
    • 鈴木信二關匡平藤次英樹
    • B01JB81CG01N
    • B01L3/502707B01L2300/0816B01L2300/161
    • [課題]實現對微型晶片用基板照射紫外光,不使檢查體變質,可良好地重組基板表面。[解決手段]使載置檢查體(31)之基板(工件)(30)保持於工件台(40)上,於其上載置遮罩(20),從光照射單元(10)照射紫外光而使基板表面活性化。於遮罩(20)形成凹部,於其內面設置有遮光手段(20c),利用此凹部與基板(30)形成關閉空間,檢查體(31)被配置於關閉空間中。為此,紫外光不會照射到檢查體(31),又,前述檢查體(31)也不會暴露至將紫外光照射至工件(30)時所產生之臭氧及氧原子。為此,檢查體(31)不會產生變質之問題。
    • [课题]实现对微型芯片用基板照射紫外光,不使检查体变质,可良好地重组基板表面。[解决手段]使载置检查体(31)之基板(工件)(30)保持于工件台(40)上,于其上载置遮罩(20),从光照射单元(10)照射紫外光而使基板表面活性化。于遮罩(20)形成凹部,于其内面设置有遮光手段(20c),利用此凹部与基板(30)形成关闭空间,检查体(31)被配置于关闭空间中。为此,紫外光不会照射到检查体(31),又,前述检查体(31)也不会暴露至将紫外光照射至工件(30)时所产生之臭氧及氧原子。为此,检查体(31)不会产生变质之问题。