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    • 1. 发明专利
    • 用於氣相/液相或氣相/液相/固相反應之反應器 Reactor for gas/liquid or gas/liquid/solid reactions
    • 用于气相/液相或气相/液相/固相反应之反应器 Reactor for gas/liquid or gas/liquid/solid reactions
    • TWI239860B
    • 2005-09-21
    • TW091108688
    • 2002-04-26
    • 巴地斯顏料化工廠 BASF AKTIENGESELLSCHAFT
    • 芮吉娜 班佛 REGINA BENFER麥可 米爾 MICHAEL NILLES瓦尼 衛尼 WERNER WEINLE彼德 茲尼 PETER ZEHNER
    • B01DB01J
    • B01J8/226B01D3/009B01D3/20B01J8/1818B01J8/34B01J47/00B01J2219/32296B01J2219/32466Y02P20/142
    • 本案係關於一種用於氣相/液相或氣相/液相/固相反應之反應器(1),其具有一直立縱軸及一位於反應器上方區域供液體或液體/固體進料流用之入口(2)和一位於反應器(1)下方區域供氣體流用之入口(3),其特徵在於:- 至少兩個沿縱軸方向上下排列放置之腔室(4),其中- 該腔室(4)係藉不透液體之底板將其彼此分開,- 各腔室係經由液體溢流(6)與位於正下方之腔室(4)連
      接,而且液體產物流係經由最底層之腔室(4)的液體溢
      流(6)取出,- 各腔室(4)液面上方的氣體空間(7)係藉由一或多個開放
      (各開放)深入氣體分布器(9)之導管(8)與位於正上方的
      腔室(4)相連,其中該氣體分布器上具有孔穴可使氣體
      從液面下離開,- 而且各腔室具有至少一個導板(12),該導板係直立放置
      在各類虹吸管氣體分布器(9)周圍,而且其上端係低於
      液面,其下端則高於腔室(4)之不透液體的底板(5),其
      將各腔室(4)分成一或多個氣體可流入之空間(13)及一或
      多個氣體無法流入之空間(14)。
    • 本案系关于一种用于气相/液相或气相/液相/固相反应之反应器(1),其具有一直立纵轴及一位于反应器上方区域供液体或液体/固体进料流用之入口(2)和一位于反应器(1)下方区域供气体流用之入口(3),其特征在于:- 至少两个沿纵轴方向上下排列放置之腔室(4),其中- 该腔室(4)系藉不透液体之底板将其彼此分开,- 各腔室系经由液体溢流(6)与位于正下方之腔室(4)连 接,而且液体产物流系经由最底层之腔室(4)的液体溢 流(6)取出,- 各腔室(4)液面上方的气体空间(7)系借由一或多个开放 (各开放)深入气体分布器(9)之导管(8)与位于正上方的 腔室(4)相连,其中该气体分布器上具有孔穴可使气体 从液面下离开,- 而且各腔室具有至少一个导板(12),该导板系直立放置 在各类虹吸管气体分布器(9)周围,而且其上端系低于 液面,其下端则高于腔室(4)之不透液体的底板(5),其 将各腔室(4)分成一或多个气体可流入之空间(13)及一或 多个气体无法流入之空间(14)。