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    • 4. 发明专利
    • 具有位阻胺化物的有機金屬化合物 ORGANOMETALLIC COMPOUNDS HAVING STERICALLY HINDERED AMIDES
    • 具有位阻胺化物的有机金属化合物 ORGANOMETALLIC COMPOUNDS HAVING STERICALLY HINDERED AMIDES
    • TW200813075A
    • 2008-03-16
    • TW096121368
    • 2007-06-13
    • 普雷瑟科技股份有限公司 PRAXAIR TECHNOLOGY, INC.
    • 史考特 梅爾 MEIERE, SCOTT HOUSTON
    • C07FC23CH01L
    • C07F5/003C07C211/65C07F7/10
    • 本發明係有關一種如化式M(NR1R2)x所示之有機金屬化合物,其中M是金屬或準金屬,R1相同或不同地為烴基或含雜原子的基團,R2相同或不同地為烴基或含雜原子的基團;R1和R2可組合形成經取代或未經取代之飽和或未飽和的環狀基團;其中一個(NR1R2)基之R1或R2可與另一個(NR1R2)基之R1或R2組合形成經取代或未經取代之飽和或未飽和的環狀基團;x等於M的氧化態;及其中該有機金屬化合物具有(i)足以維持單體結構及使陰離子配位基的配位數等於M氧化態之空間位阻,及(ii)足以產生適合於氣相沉積的揮發性之分子量;一種製備該有機金屬化合物之方法,及一種由有機金屬前驅化合物製備薄膜或塗層之方法。
    • 本发明系有关一种如化式M(NR1R2)x所示之有机金属化合物,其中M是金属或准金属,R1相同或不同地为烃基或含杂原子的基团,R2相同或不同地为烃基或含杂原子的基团;R1和R2可组合形成经取代或未经取代之饱和或未饱和的环状基团;其中一个(NR1R2)基之R1或R2可与另一个(NR1R2)基之R1或R2组合形成经取代或未经取代之饱和或未饱和的环状基团;x等于M的氧化态;及其中该有机金属化合物具有(i)足以维持单体结构及使阴离子配位基的配位数等于M氧化态之空间位阻,及(ii)足以产生适合于气相沉积的挥发性之分子量;一种制备该有机金属化合物之方法,及一种由有机金属前驱化合物制备薄膜或涂层之方法。
    • 8. 发明专利
    • 分配裝置及其使用方法 DISPENSING APPARATUS AND METHOD OF USE THEREOF
    • 分配设备及其使用方法 DISPENSING APPARATUS AND METHOD OF USE THEREOF
    • TW200624596A
    • 2006-07-16
    • TW094144337
    • 2005-12-14
    • 普雷瑟科技股份有限公司 PRAXAIR TECHNOLOGY, INC.
    • 大衛 彼得斯 PETERS, DAVID WALTER
    • C23C
    • C23C16/4481
    • 本發明係有關於一種氣相反應劑分配設備,其包含一圓柱形的容器其具有一底板及一用內壁及底板表面所界定出來的內部體積。容器(4)被提供有一液體反應劑水平面偵測器(2)用來偵測在該容器內部體積中之液體反應劑的水平面,及一溫度偵測器(1及11)用來偵測在該內部體積內之液體反應劑的溫度。該容器的底板具有一腔室(3)從該底板的表面向下延伸出,且該液體反應劑水平面偵測器(2)及該溫度偵測器(1及11)的下端被放置在該腔室內。該分配設備可被用來分配反應劑,譬如用於半導體物質及元件的製造中之物質的沉積上的前驅物。
    • 本发明系有关于一种气相反应剂分配设备,其包含一圆柱形的容器其具有一底板及一用内壁及底板表面所界定出来的内部体积。容器(4)被提供有一液体反应剂水平面侦测器(2)用来侦测在该容器内部体积中之液体反应剂的水平面,及一温度侦测器(1及11)用来侦测在该内部体积内之液体反应剂的温度。该容器的底板具有一腔室(3)从该底板的表面向下延伸出,且该液体反应剂水平面侦测器(2)及该温度侦测器(1及11)的下端被放置在该腔室内。该分配设备可被用来分配反应剂,譬如用于半导体物质及组件的制造中之物质的沉积上的前驱物。