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    • 5. 发明专利
    • 磁性記錄媒體用濺鍍靶
    • 磁性记录媒体用溅镀靶
    • TW201819659A
    • 2018-06-01
    • TW106136120
    • 2017-10-20
    • 日商田中貴金屬工業股份有限公司TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.國立大學法人東北大學TOHOKU UNIVERSITY
    • 譚 金光THAM, KIM KONG櫛引了輔KUSHIBIKI, RYOUSUKE山本俊哉YAMAMOTO, TOSHIYA齊藤伸SAITO, SHIN日向慎太朗HINATA, SHINTARO
    • C23C14/34
    • 本發明係一種磁性記錄媒體用濺鍍靶,其中,提供:維持良好的磁性特性同時,可製作進行磁性結晶粒的微細化及磁性結晶粒的中心間距離的降低之磁性薄膜的磁性記錄媒體用濺鍍靶者。   {0>金属Ptおよび酸化物を含有し、残部が金属Coおよび不可避的不純物からなる磁気記録媒体用スパッタリングターゲットであって、前記磁気記録媒体用スパッタリングターゲットの金属成分の合計に対して、金属Coを70at%以上90at%以下含有し、金属Ptを10at%以上30at%以下含有し、前記磁気記録媒体用スパッタリングターゲットの全体に対して前記酸化物を26vol%以上40vol%以下含有し、さらに、前記酸化物は、B2O3と、融点が1470℃以上2800℃以下の1種以上の高融点酸化物とからなる。<}82{>係含有金屬Pt及氧化物,殘留部則為金屬Co及不可避的雜質所成之磁性記錄媒體用濺鍍靶,其中,對於前述磁性記錄媒體用濺鍍靶之金屬成分的合計而言,含有70at%以上90at%以下金屬Co,含有10at%以上30at%以下金屬Pt,而對於前述磁性記錄媒體用濺鍍靶之全體而言,含有26vol%以上40vol%以下前述氧化物,更且,前述氧化物係由B2O3,和熔點為1470℃以上2800℃以下之1種以上的高熔點氧化物所成者。<0}
    • 本发明系一种磁性记录媒体用溅镀靶,其中,提供:维持良好的磁性特性同时,可制作进行磁性结晶粒的微细化及磁性结晶粒的中心间距离的降低之磁性薄膜的磁性记录媒体用溅镀靶者。   {0>金属Ptおよび酸化物を含有し、残部が金属Coおよび不可避的不纯物からなる磁気记录媒体用スパッタリングターゲットであって、前记磁気记录媒体用スパッタリングターゲットの金属成分の合计に対して、金属Coを70at%以上90at%以下含有し、金属Ptを10at%以上30at%以下含有し、前记磁気记录媒体用スパッタリングターゲットの全体に対して前记酸化物を26vol%以上40vol%以下含有し、さらに、前记酸化物は、B2O3と、融点が1470℃以上2800℃以下の1种以上の高融点酸化物とからなる。<}82{>系含有金属Pt及氧化物,残留部则为金属Co及不可避的杂质所成之磁性记录媒体用溅镀靶,其中,对于前述磁性记录媒体用溅镀靶之金属成分的合计而言,含有70at%以上90at%以下金属Co,含有10at%以上30at%以下金属Pt,而对于前述磁性记录媒体用溅镀靶之全体而言,含有26vol%以上40vol%以下前述氧化物,更且,前述氧化物系由B2O3,和熔点为1470℃以上2800℃以下之1种以上的高熔点氧化物所成者。<0}