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1. 发明专利

TW202030225A 聚醯亞胺膜、使用其之積層體以及包括此聚醯亞胺膜及此積層體之可撓性顯示器审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜、使用其之积层体以及包括此聚酰亚胺膜及此积层体之可挠性显示器
公开(公告)号：TW202030225A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108139027
申请日：2019-10-29
申请人：南韓商LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：尹哲民 , YUN, CHEOLMIN , 申寶拉 , SHIN, BORA , 催丹碧 , CHOI, DANBI
IPC分类号： C08G73/10 , C08J5/18
摘要：根據本發明，藉由使用在膜的厚度為5 μm～10 μm、模數為3 GPa～8 GPa、厚度方向相位差（Rth）的絕對值為200 nm～600 nm、拉伸力（tensile force）為100 MPa時變形率（應變（strain））為10%以下的聚醯亞胺膜作為可撓性顯示器的基板，從而可減少在輥壓製程時膜的如撕裂等損傷問題。另外，聚醯亞胺膜對無機基板的殘留應力低，因此減少在TFT製程時不良的產生。其結果，可提高可撓性顯示器的製程上的可靠度。另外，藉由將聚醯亞胺膜的飽和帶電電壓半衰期調節為250秒以上，從而可將飽和帶電電壓的電壓損失率最小化，改善在TFT驅動時電流下降（drop）的現象，其結果可提供一種視覺感受性進一步得到提高的顯示器。
简体摘要：根据本发明，借由使用在膜的厚度为5 μm～10 μm、模数为3 GPa～8 GPa、厚度方向相位差（Rth）的绝对值为200 nm～600 nm、拉伸力（tensile force）为100 MPa时变形率（应变（strain））为10%以下的聚酰亚胺膜作为可挠性显示器的基板，从而可减少在辊压制程时膜的如撕裂等损伤问题。另外，聚酰亚胺膜对无机基板的残留应力低，因此减少在TFT制程时不良的产生。其结果，可提高可挠性显示器的制程上的可靠度。另外，借由将聚酰亚胺膜的饱和带电电压半衰期调节为250秒以上，从而可将饱和带电电压的电压损失率最小化，改善在TFT驱动时电流下降（drop）的现象，其结果可提供一种视觉感受性进一步得到提高的显示器。

2. 发明专利

TWI638844B 高強度透明聚醯胺醯亞胺及其製備程序有权
简体标题：高强度透明聚酰胺酰亚胺及其制备进程
公开(公告)号：TWI638844B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW106102328
申请日：2017-01-23
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：尹哲民 , YUN, CHEOLMIN , 徐浚植 , SUH, JUNSIK , 金璟晙 , KIM, KYUNGJUN
IPC分类号： C08G73/14 , C08J5/18 , B29D7/01 , B29K79/00

3. 发明专利

TWI637979B 改性的聚醯亞胺及含有其的固化樹脂組合物、聚醯亞胺膜及製備其的方法有权
简体标题：改性的聚酰亚胺及含有其的固化树脂组合物、聚酰亚胺膜及制备其的方法
公开(公告)号：TWI637979B
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：TW105129018
申请日：2016-09-08
申请人：南韓商LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：尹哲民 , YUN, CHEOLMIN , 金璟晙 , KIM, KYUNGJUN
IPC分类号： C08G73/10 , C08J5/18 , C08L79/08

4. 发明专利

TW201813992A 聚醯亞胺前驅物溶液、聚醯亞胺膜及其製備方法以及透明聚醯亞胺基板审中-公开
简体标题：聚酰亚胺前驱物溶液、聚酰亚胺膜及其制备方法以及透明聚酰亚胺基板
公开(公告)号：TW201813992A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106128095
申请日：2017-08-18
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：尹哲民 , YUN, CHEOLMIN , 申靌拉 , SHIN, BORA , 金璟晙 , KIM, KYUNGJUN , 徐浚植 , SUH, JUNSIK
IPC分类号： C08G73/10 , C09D179/08 , C08J5/18
CPC分类号： C08G73/1007 , C08G73/1014 , C08G73/1032 , C08G73/1075 , C08J5/18 , G02F1/133305
摘要：本發明提供一種聚醯亞胺膜，其於堅固的聚醯亞胺鏈中導入芴結構，藉此表現出優異的耐熱性及光學特性。再者，本發明的聚醯亞胺因包括特定的結構而具有優異的透明性、耐熱性、機械強度及柔軟性，因此可使用於如元件用基板、顯示器用覆蓋基板、光學膜、積體電路封裝體、黏合膜、多層可撓性印刷電路、膠帶、觸控面板、光碟用保護膜等的各種領域。
简体摘要：本发明提供一种聚酰亚胺膜，其于坚固的聚酰亚胺链中导入芴结构，借此表现出优异的耐热性及光学特性。再者，本发明的聚酰亚胺因包括特定的结构而具有优异的透明性、耐热性、机械强度及柔软性，因此可使用于如组件用基板、显示器用覆盖基板、光学膜、集成电路封装体、黏合膜、多层可挠性印刷电路、胶带、触摸皮肤、光盘用保护膜等的各种领域。

5. 发明专利

TW201741373A 聚醯胺醯亞胺及其製備製程及包含其的聚醯胺醯亞胺膜审中-公开
简体标题：聚酰胺酰亚胺及其制备制程及包含其的聚酰胺酰亚胺膜
公开(公告)号：TW201741373A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106105849
申请日：2017-02-22
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：尹哲民 , YUN, CHEOLMIN , 徐浚植 , SUH, JUNSIK , 金璟晙 , KIM, KYUNGJUN
IPC分类号： C08G73/14 , C08J5/18
CPC分类号： C08G73/10 , C08G73/14 , C08J5/18 , C08L79/08
摘要：本發明提供一種聚醯胺膜，其具有大幅提高的機械物性與耐熱性，同時保持透明性。上述聚醯胺醯亞胺具有優異的透明性、耐熱性、機械強度及柔軟性，因此可使用於如元件用基板、顯示器用覆蓋基板、光學膜、積體電路封裝體、黏合膜、多層可撓性印刷電路、膠帶、觸控面板、光碟用保護膜等的各種領域。
简体摘要：本发明提供一种聚酰胺膜，其具有大幅提高的机械物性与耐热性，同时保持透明性。上述聚酰胺酰亚胺具有优异的透明性、耐热性、机械强度及柔软性，因此可使用于如组件用基板、显示器用覆盖基板、光学膜、集成电路封装体、黏合膜、多层可挠性印刷电路、胶带、触摸皮肤、光盘用保护膜等的各种领域。

6. 发明专利

TW202017978A 聚醯亞胺膜、使用其的可撓性裝置以及其製備製程审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜、使用其的可挠性设备以及其制备制程
公开(公告)号：TW202017978A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108129444
申请日：2019-08-19
申请人：南韓商LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：尹哲民 , YUN, CHEOLMIN
IPC分类号： C08G77/455 , C08J5/18
摘要：本發明藉由聚醯胺酸製備聚醯亞胺膜，所述聚醯胺酸藉由將包含二胺基二苯基碸（diaminodiphenyl sulfone）與胺封端的甲基苯基矽氧烷低聚物的二胺以及兩種以上的四羧酸二酐作為聚合成分製備而成，並藉由將聚醯亞胺膜內氣孔的分佈率調節至1%以下，並且/或者將相分離域的平均大小調節至10 nm以下，從而可提供一種可撓性裝置，於如低溫多晶矽製程的高溫製程下在低溫多晶矽薄膜層亦不產生如龜裂般的機械性缺陷。
简体摘要：本发明借由聚酰胺酸制备聚酰亚胺膜，所述聚酰胺酸借由将包含二胺基二苯基砜（diaminodiphenyl sulfone）与胺封端的甲基苯基硅氧烷低聚物的二胺以及两种以上的四羧酸二酐作为聚合成分制备而成，并借由将聚酰亚胺膜内气孔的分布率调节至1%以下，并且/或者将相分离域的平均大小调节至10 nm以下，从而可提供一种可挠性设备，于如低温多晶硅制程的高温制程下在低温多晶硅薄膜层亦不产生如龟裂般的机械性缺陷。

7. 发明专利

TWI691528B 矽氧烷化合物及其製備方法、包括其的聚醯亞胺前驅物組成物、包括此前驅物組成物的聚醯亞胺膜、包括此聚醯亞胺膜的顯示器基板有权
简体标题：硅氧烷化合物及其制备方法、包括其的聚酰亚胺前驱物组成物、包括此前驱物组成物的聚酰亚胺膜、包括此聚酰亚胺膜的显示器基板
公开(公告)号：TWI691528B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW107145788
申请日：2018-12-19
申请人：南韓商LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：尹哲民 , YUN, CHEOLMIN
IPC分类号： C08G77/38 , C08L79/08 , C08L83/04 , C08J5/18

8. 发明专利

TW201817777A 聚醯亞胺膜形成用組成物及其製備方法以及聚醯亞胺膜及其製備方法审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜形成用组成物及其制备方法以及聚酰亚胺膜及其制备方法
公开(公告)号：TW201817777A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106136806
申请日：2017-10-26
申请人：南韓商LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：申靌拉 , SHIN, BORA , 鄭惠元 , JEONG, HYEWON , 尹哲民 , YUN, CHEOLMIN , 徐浚植 , SUH, JUNSIK , 金璟晙 , KIM, KYUNGJUN
IPC分类号： C08G73/10 , C08J5/18 , C08L79/08
摘要：本發明提供一種聚醯亞胺膜形成用組成物，其包括藉由包含醯亞胺基的二胺製備的低聚物或低分子量聚合物的形態的聚醯胺酸或聚醯亞胺，藉此可提供一種保持光學特性，並且膜的耐熱性提高的聚醯亞胺膜。再者，本發明的聚醯亞胺膜不僅可減小於進行雷射剝離製程時所需的雷射能量密度，而且明顯地減少因剝離製程而產生的灰塵，從而可進一步提高顯示器製造製程中的元件的可靠性。
简体摘要：本发明提供一种聚酰亚胺膜形成用组成物，其包括借由包含酰亚胺基的二胺制备的低聚物或低分子量聚合物的形态的聚酰胺酸或聚酰亚胺，借此可提供一种保持光学特性，并且膜的耐热性提高的聚酰亚胺膜。再者，本发明的聚酰亚胺膜不仅可减小于进行激光剥离制程时所需的激光能量密度，而且明显地减少因剥离制程而产生的灰尘，从而可进一步提高显示器制造制程中的组件的可靠性。

9. 发明专利

TW201803917A 聚醯亞胺前驅物溶液、聚醯亞胺膜及其製備方法和透明聚醯亞胺基板审中-公开
简体标题：聚酰亚胺前驱物溶液、聚酰亚胺膜及其制备方法和透明聚酰亚胺基板
公开(公告)号：TW201803917A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106122994
申请日：2017-07-10
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：尹哲民 , YUN, CHEOLMIN , 金璟晙 , KIM, KYUNGJUN
IPC分类号： C08G73/10
摘要：本發明提供一種聚醯亞胺前驅物溶液，其改善聚醯亞胺前驅物溶液的塗覆製程中的不被覆（dewetting）特性，藉此不僅提高聚醯亞胺膜的均勻度，而且可改善製程的效率。再者，本發明的聚醯亞胺因包括特定的結構而具有優異的透明性、耐熱性、機械強度及柔軟性，因此可使用於如元件用基板、顯示器用覆蓋基板、光學膜、積體電路封裝體、黏合膜、多層可撓性印刷電路、膠帶、觸控面板、光碟用保護膜等的各種領域。
简体摘要：本发明提供一种聚酰亚胺前驱物溶液，其改善聚酰亚胺前驱物溶液的涂覆制程中的不被覆（dewetting）特性，借此不仅提高聚酰亚胺膜的均匀度，而且可改善制程的效率。再者，本发明的聚酰亚胺因包括特定的结构而具有优异的透明性、耐热性、机械强度及柔软性，因此可使用于如组件用基板、显示器用覆盖基板、光学膜、集成电路封装体、黏合膜、多层可挠性印刷电路、胶带、触摸皮肤、光盘用保护膜等的各种领域。

10. 发明专利

TW201638158A 聚醯亞胺前驅組成物、聚醯亞胺薄膜及其應用审中-公开
简体标题：聚酰亚胺前驱组成物、聚酰亚胺薄膜及其应用
公开(公告)号：TW201638158A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105106844
申请日：2016-03-07
申请人： LG 化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：尹哲民 , YUN, CHEOLMIN , 鄭惠元 , JEONG, HYEWON , 申靌拉 , SHIN, BORA , 金璟晙 , KIM, KYUNGJUN
IPC分类号： C08G77/455 , C08G73/10 , C08K3/36 , C08L79/08 , C03C17/30 , H01L51/52 , H01L27/12 , H05K1/03
CPC分类号： C08G73/125 , B32B27/281 , B32B27/283 , B32B27/34 , C03C17/30 , C08G73/10 , C08G73/106 , C08G73/12 , C08G77/04 , C08G77/455 , C08J5/18 , C08J2379/08 , C08K3/36 , C09D179/08 , C09D183/10 , G02F1/133305 , G02F1/167 , G02F2201/54 , H01L23/145 , H01L31/03926 , H01L31/042 , H01L51/0097
摘要：揭露一種用於產生光電元件之柔性基板的聚醯亞胺前驅組成物。聚醯亞胺前驅組成物包含衍生自二胺或酸二酐之包含式1之結構的聚醯亞胺前驅物：（1）其中R1 至R8 、m1、m2以及m3如本說明書中所定義。亦揭露一種由聚醯亞胺前驅組成物產生之聚醯亞胺薄膜。聚醯亞胺薄膜藉由將前驅組成物塗覆至基板且固化組成物來獲得。聚醯亞胺薄膜具有高透明度及優良耐熱性。另外，聚醯亞胺薄膜顯示優良尺寸穩定性，因為基板即使在高溫熱處理期間亦未經歷應力增加。
简体摘要：揭露一种用于产生光电组件之柔性基板的聚酰亚胺前驱组成物。聚酰亚胺前驱组成物包含衍生自二胺或酸二酐之包含式1之结构的聚酰亚胺前驱物：（1）其中R1 至R8 、m1、m2以及m3如本说明书中所定义。亦揭露一种由聚酰亚胺前驱组成物产生之聚酰亚胺薄膜。聚酰亚胺薄膜借由将前驱组成物涂覆至基板且固化组成物来获得。聚酰亚胺薄膜具有高透明度及优良耐热性。另外，聚酰亚胺薄膜显示优良尺寸稳定性，因为基板即使在高温热处理期间亦未经历应力增加。

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