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1. 发明专利

TWI244881B 形成配線及電極之方法 METHODS FOR FORMING WIRING AND ELECTRODE 有权
简体标题：形成配线及电极之方法 METHODS FOR FORMING WIRING AND ELECTRODE
公开(公告)号：TWI244881B
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：TW093108339
申请日：2004-03-26
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION , 夏普股份有限公司 SHARP KABUSHIKI KAISHA , 國際基盤材料研究所股份有限公司 INTERNATIONAL CENTER FOR MATERIALS RESEARCH
发明人：橫山泰明 YOKOYAMA, YASUAKI , 米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 佐藤崇 SATOH, TAKASHI , 若崎環樹 WAKASAKI, TAMAKI , 竹內安正 TAKEUCHI, YASUMASA , 遠藤昌之 ENDO, MASAYUKI
IPC分类号： H05K
CPC分类号： H01L21/288 , C23C18/02 , C23C18/06 , C23C18/08 , C23C18/14 , Y10T428/24917
摘要：本發明提供一種形成配線或電極之方法，其包括將基材塗布包含(A)胺化合物及氫化鋁化合物之錯合物及(B)鈦化合物之組合物，或包含錯合物及(C)金屬顆粒之組合物，及使製得之塗層薄膜進行加熱及/或光處理。藉此方法，可使用導電性薄膜形成組合物形成薄膜，藉此可容易且廉價地形成可適用於電子裝置之配線及電極。
简体摘要：本发明提供一种形成配线或电极之方法，其包括将基材涂布包含(A)胺化合物及氢化铝化合物之错合物及(B)钛化合物之组合物，或包含错合物及(C)金属颗粒之组合物，及使制得之涂层薄膜进行加热及/或光处理。借此方法，可使用导电性薄膜形成组合物形成薄膜，借此可容易且廉价地形成可适用于电子设备之配线及电极。

2. 发明专利

TW200722920A 聚合物、輻射敏感性樹脂組成物及液晶顯示元件用間隔物审中-公开
简体标题：聚合物、辐射敏感性树脂组成物及液晶显示组件用间隔物
公开(公告)号：TW200722920A
公开(公告)日：2007-06-16
申请号：TW095128002
申请日：2006-07-31
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：一戶大吾 ICHINOHE, DAIGO , 米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 志保浩司 SHIHO, HIROSHI
IPC分类号： G03F , G02F
摘要：本發明提供一種可形成在曝光量之下也可以得到充分的間隔物形狀,並且具有優良之彈性回復性、耐研磨性、與透明基板之密著性、耐熱性等,並且於定向膜剝離時可充分地顯示其耐剝離液性的液晶顯示元件用間隔物之輻射敏感性樹脂組成物。上述輻射敏感性樹脂組成物,含有,(a1)不飽和羧酸以及/或不飽和羧酸酐,與(a2)1分子中至少包含1個以上羥基的不飽和化合物,與(a3)其他不飽和化合物所得的共聚物,與下式(1)所示的異氰酸酯(isocyanate)化合物反應所得到的聚合物,再與特定的異氰酸酯化合物反應而得到的聚合物;(B)聚合性不飽和化合物;與(C)輻射敏感性聚合起始劑。
简体摘要：本发明提供一种可形成在曝光量之下也可以得到充分的间隔物形状,并且具有优良之弹性回复性、耐研磨性、与透明基板之密着性、耐热性等,并且于定向膜剥离时可充分地显示其耐剥离液性的液晶显示组件用间隔物之辐射敏感性树脂组成物。上述辐射敏感性树脂组成物,含有,(a1)不饱和羧酸以及/或不饱和羧酸酐,与(a2)1分子中至少包含1个以上羟基的不饱和化合物,与(a3)其他不饱和化合物所得的共聚物,与下式(1)所示的异氰酸酯(isocyanate)化合物反应所得到的聚合物,再与特定的异氰酸酯化合物反应而得到的聚合物;(B)聚合性不饱和化合物;与(C)辐射敏感性聚合起始剂。

3. 发明专利

TW200612196A 支鏈不飽和聚合物、感放射線性樹脂組成物及液晶顯示元件用間隔件审中-公开
简体标题：支链不饱和聚合物、感放射线性树脂组成物及液晶显示组件用间隔件
公开(公告)号：TW200612196A
公开(公告)日：2006-04-16
申请号：TW094124367
申请日：2005-07-19
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：一戶大吾 ICHINOHE, DAIGO , 米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 西尾壽浩 NISHIO, TOSHIHIRO , 田徹 KAJITA, TORU
IPC分类号： G03F , G02F
摘要：本發明係提供(a1)不飽和羧酸及／或不飽和羧酸酐、(a2)含環氧基不飽和化合物、(a3)含羥基不飽和化合物及(a4)其他不飽和化合物之共聚物，與下列式(1)(式中，R^1為氫原子或甲基，R^2為伸烷基)所示異氰酸酯化合物反應而得之聚合物、聚合性不飽和化合物及含有感放射線性聚合引發劑之感放射線性樹脂組成物。又，係提供可形成高敏感度及高解像度下既使以1,200J／cm^2以下之曝光量也能得到充分間隔件形狀，且具有優良彈性回復性、耐刷洗性、對透明基板之密合性、耐熱性等液晶顯示元件用之間隔件的感放射線性樹脂組成物。
简体摘要：本发明系提供(a1)不饱和羧酸及／或不饱和羧酸酐、(a2)含环氧基不饱和化合物、(a3)含羟基不饱和化合物及(a4)其他不饱和化合物之共聚物，与下列式(1)(式中，R^1为氢原子或甲基，R^2为伸烷基)所示异氰酸酯化合物反应而得之聚合物、聚合性不饱和化合物及含有感放射线性聚合引发剂之感放射线性树脂组成物。又，系提供可形成高敏感度及高解像度下既使以1,200J／cm^2以下之曝光量也能得到充分间隔件形状，且具有优良弹性回复性、耐刷洗性、对透明基板之密合性、耐热性等液晶显示组件用之间隔件的感放射线性树脂组成物。

4. 发明专利

TW200925170A 光阻用樹脂之製造方法审中-公开
简体标题：光阻用树脂之制造方法
公开(公告)号：TW200925170A
公开(公告)日：2009-06-16
申请号：TW097143372
申请日：2008-11-10
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 本多史惠 HONDA, FUMIE , 伊藤泰弘 ITO, YASUHIRO , 新美優嗣 NIIMI, MASATSUGU
IPC分类号： C08F , G03F
CPC分类号： G03F7/26 , C08F6/003 , C08F6/02 , C08F220/18 , C08F220/30 , G03F7/0397
摘要：本發明之目的係提供一種光阻用樹脂之製造方法,該方法可使用少量溶劑,有效的去除雜質之低分子成分或金屬成分,且可容易製造分子量分布狹窄之樹脂。本光阻用樹脂之製造方法係在溶劑存在下使聚合性化合物聚合,藉此製造光阻用樹脂之方法,該方法具備有(1)調製含有光阻用樹脂之樹脂溶液之樹脂溶液調製步驟,及(2)使用超過濾膜使上述樹脂溶液純化之純化步驟。
简体摘要：本发明之目的系提供一种光阻用树脂之制造方法,该方法可使用少量溶剂,有效的去除杂质之低分子成分或金属成分,且可容易制造分子量分布狭窄之树脂。本光阻用树脂之制造方法系在溶剂存在下使聚合性化合物聚合,借此制造光阻用树脂之方法,该方法具备有(1)调制含有光阻用树脂之树脂溶液之树脂溶液调制步骤,及(2)使用超过滤膜使上述树脂溶液纯化之纯化步骤。

5. 发明专利

TW200643614A 敏輻射線性樹脂組成物、由其所形成之凸起物與間隔物、以及具備此等之液晶顯示元件审中-公开
简体标题：敏辐射线性树脂组成物、由其所形成之凸起物与间隔物、以及具备此等之液晶显示组件
公开(公告)号：TW200643614A
公开(公告)日：2006-12-16
申请号：TW095108991
申请日：2006-03-16
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：一戶大吾 ICHINOHE, DAIGO , 濱口仁 HAMAGUCHI, HITOSHI , 米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 久間俊平 KUMA, SHUNPEI , 西尾壽浩 NISHIO, TOSHIHIRO , 志保浩司 SHIHO, HIROSHI , 田徹 KAJITA, TORU
IPC分类号： G03F , G02F , H01L , C08F
摘要：本發明係高感度且高解像度，即使顯像時間短，低曝光量，也可得到充分之間隔物形狀，可形成彈性回復性、耐摩擦性、與透明基板之密著性、耐熱性等優異之液晶顯示元件用之間隔物的敏輻射線性樹脂組成物。本發明係一種敏輻射線性樹脂組成物，其係含有：(a1)不飽和羧酸及／或不飽和羧酸酐，(a2)下述式(1)表示之不飽和化合物，及(a3)該(a1)～(a2)成分以外之其他不飽和化合物進行共聚所得之(A)共聚物、〔B〕聚合性不飽和化合物及〔C〕敏輻射線性聚合引發劑，095108991-p01.bmp式中，R1係氫原子或甲基，R2、R3係R4係彼此獨立之氫原子、羥基、碳數1～6之烷基或碳數1～6之烷氧基，n為0～6之整數。
简体摘要：本发明系高感度且高解像度，即使显像时间短，低曝光量，也可得到充分之间隔物形状，可形成弹性回复性、耐摩擦性、与透明基板之密着性、耐热性等优异之液晶显示组件用之间隔物的敏辐射线性树脂组成物。本发明系一种敏辐射线性树脂组成物，其系含有：(a1)不饱和羧酸及／或不饱和羧酸酐，(a2)下述式(1)表示之不饱和化合物，及(a3)该(a1)～(a2)成分以外之其他不饱和化合物进行共聚所得之(A)共聚物、〔B〕聚合性不饱和化合物及〔C〕敏辐射线性聚合引发剂，095108991-p01.bmp式中，R1系氢原子或甲基，R2、R3系R4系彼此独立之氢原子、羟基、碳数1～6之烷基或碳数1～6之烷氧基，n为0～6之整数。

6. 发明专利

TW200503956A 塗膜形成用組合物、該組合物之製造方法、氧化鉭膜及該氧化鉭膜之製造方法 COMPOSITION FOR FORMING A COATING FILM, METHOD OF PREPARING THE COMPOSITION, TANTALUM OXIDE FILM AND METHOD OF FORMING THE TANTALUM OXIDE FILM 审中-公开
简体标题：涂膜形成用组合物、该组合物之制造方法、氧化钽膜及该氧化钽膜之制造方法 COMPOSITION FOR FORMING A COATING FILM, METHOD OF PREPARING THE COMPOSITION, TANTALUM OXIDE FILM AND METHOD OF FORMING THE TANTALUM OXIDE FILM
公开(公告)号：TW200503956A
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：TW093109775
申请日：2004-04-08
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 橋本幸子 HASHIMOTO, SACHIKO , 加藤仁史 KATO, HITOSHI , 酒井達也 SAKAI, TATSUYA
IPC分类号： C01G
CPC分类号： H01L21/02183 , C23C18/1216 , C23C18/14 , H01L21/02282 , H01L21/316 , H01L21/31637
摘要：本發明揭示一種供形成塗膜用組合物，其包含由烷氧基鉭與自胺基甲酸、羧酸、羧酸酐中選出之至少一種化合物之反應物及一溶劑。藉由形成該組合物之塗膜、並隨後熱處理及／或光學處理該塗膜即獲致一種氧化鉭膜，該氧化鉭膜具有一大介電常數及一小泄漏電流。
简体摘要：本发明揭示一种供形成涂膜用组合物，其包含由烷氧基钽与自胺基甲酸、羧酸、羧酸酐中选出之至少一种化合物之反应物及一溶剂。借由形成该组合物之涂膜、并随后热处理及／或光学处理该涂膜即获致一种氧化钽膜，该氧化钽膜具有一大介电常数及一小泄漏电流。

7. 发明专利

TW200728333A 側鏈不飽和聚合物,輻射敏感性樹脂組成物及液晶顯示元件用間隔物审中-公开
简体标题：侧链不饱和聚合物,辐射敏感性树脂组成物及液晶显示组件用间隔物
公开(公告)号：TW200728333A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：TW095127315
申请日：2006-07-26
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 一戶大吾 ICHINOHE, DAIGO , 西尾壽浩 NISHIO, TOSHIHIRO , 志保浩司 SHIHO, HIROSHI , 田徹 KAJITA, TORU
IPC分类号： C08F , G02F , G03F
摘要：本發明係提供一種輻射敏感性樹脂組成物,其特徵為含有於(a1)不飽和羧酸以及/或不飽和羧酸酐、(a2)下述式(1)表示的含2個以上的羥基的不飽和化合物以及(a3)其他不飽和化合物的共聚合物上,使下述式(2)表示的異氰酸酯化合物與其反應所得的聚合物;
095127315-p01.bmp
(式中,R1表示氫原子或甲基,p為0~3的整數,q為1~12的整數)
095127315-p02.bmp
(式中,R2表示氫原子或甲基,n為1~12的整數)因高感度且高解像度,即使是低曝光量可得充分的間隔物的形狀,可形成彈性恢復性、耐摩擦性、與透明基板的密合性、耐熱性、耐剝離液性等優異之液晶顯示元件用間隔物。
简体摘要：本发明系提供一种辐射敏感性树脂组成物,其特征为含有于(a1)不饱和羧酸以及/或不饱和羧酸酐、(a2)下述式(1)表示的含2个以上的羟基的不饱和化合物以及(a3)其他不饱和化合物的共聚合物上,使下述式(2)表示的异氰酸酯化合物与其反应所得的聚合物; 095127315-p01.bmp (式中,R1表示氢原子或甲基,p为0~3的整数,q为1~12的整数) 095127315-p02.bmp (式中,R2表示氢原子或甲基,n为1~12的整数)因高感度且高解像度,即使是低曝光量可得充分的间隔物的形状,可形成弹性恢复性、耐摩擦性、与透明基板的密合性、耐热性、耐剥离液性等优异之液晶显示组件用间隔物。

8. 发明专利

TW200714622A 側鏈不飽和聚合物、輻射敏感性樹脂組成物及液晶顯示元件用間隔物审中-公开
简体标题：侧链不饱和聚合物、辐射敏感性树脂组成物及液晶显示组件用间隔物
公开(公告)号：TW200714622A
公开(公告)日：2007-04-16
申请号：TW095131002
申请日：2006-08-23
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：一戶大吾 ICHINOHE, DAIGO , 米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 西尾壽浩 NISHIO, TOSHIHIRO , 志保浩司 SHIHO, HIROSHI
IPC分类号： C08F , G03F , G02F
摘要：輻射敏感性樹脂組成物,其含有由(a1)不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐、(a2)在分子內具有1個羥基的含羥基之不飽和化合物、(a3)(a1)和(a2)以外的其它不飽和化合物之共聚物,與異氰酸酯化合物反應而得的聚合物。提供一種輻射敏感性樹脂組成物,其為高感度,即使在1,200J/m@#2以下的曝光量也能得到充分的間隔物形狀,可形成柔軟性和高回復率、耐摩擦性、與透明基板的密接性、耐熱性等優良的液晶顯示元件用間隔物。
简体摘要：辐射敏感性树脂组成物,其含有由(a1)不饱和羧酸及/或不饱和羧酸酐、(a2)在分子内具有1个羟基的含羟基之不饱和化合物、(a3)(a1)和(a2)以外的其它不饱和化合物之共聚物,与异氰酸酯化合物反应而得的聚合物。提供一种辐射敏感性树脂组成物,其为高感度,即使在1,200J/m@#2以下的曝光量也能得到充分的间隔物形状,可形成柔软性和高回复率、耐摩擦性、与透明基板的密接性、耐热性等优良的液晶显示组件用间隔物。

9. 发明专利

TW200634433A 感光性樹脂組成物、顯示面板用間隔物及顯示面板审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、显示皮肤用间隔物及显示皮肤
公开(公告)号：TW200634433A
公开(公告)日：2006-10-01
申请号：TW094138879
申请日：2005-11-04
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：一戶大吾 ICHINOHE, DAIGO , 西尾壽浩 NISHIO, TOSHIHIRO , 濱口仁 HAMAGUCHI, HITOSHI , 岩智子 IWABUCHI, TOMOKO , 米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 田徹 KAJITA, TORU
IPC分类号： G03F , G02F
摘要：本發明係一種感光性樹脂組成物，其特徵為含有：〔A〕(a1)乙烯性不飽和羧酸及／或乙烯性不飽和羧酸酐與(a2)其他乙烯性不飽和化合物之共聚物，〔B〕具有乙烯性不飽和鍵之聚合性化合物及〔C〕O–醯基型光聚合引發劑。高感度，且可忠實實現光罩圖案之設計尺寸，且與基板之密著性優，在1500J／m^2以下之曝光量可得到充分之間隔物形狀及膜厚，可形成強度、耐熱性優異，另外在低曝光區域之間隔物形狀及膜厚之抑制性優異，保存期間中，使用中不易產生異物，製程安定性、經過時間之安定性優異之顯示面板用間隔物的感光性樹脂組成物。
简体摘要：本发明系一种感光性树脂组成物，其特征为含有：〔A〕(a1)乙烯性不饱和羧酸及／或乙烯性不饱和羧酸酐与(a2)其他乙烯性不饱和化合物之共聚物，〔B〕具有乙烯性不饱和键之聚合性化合物及〔C〕O–酰基型光聚合引发剂。高感度，且可忠实实现光罩图案之设计尺寸，且与基板之密着性优，在1500J／m^2以下之曝光量可得到充分之间隔物形状及膜厚，可形成强度、耐热性优异，另外在低曝光区域之间隔物形状及膜厚之抑制性优异，保存期间中，使用中不易产生异物，制程安定性、经过时间之安定性优异之显示皮肤用间隔物的感光性树脂组成物。

10. 发明专利

TW200501847A 形成配線及電極之方法 METHODS FOR FORMING WIRING AND ELECTRODE 审中-公开
简体标题：形成配线及电极之方法 METHODS FOR FORMING WIRING AND ELECTRODE
公开(公告)号：TW200501847A
公开(公告)日：2005-01-01
申请号：TW093108339
申请日：2004-03-26
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION , 夏普股份有限公司 SHARP KABUSHIKI KAISHA , 國際基盤材料研究所股份有限公司 INTERNATIONAL CENTER FOR MATERIALS RESEARCH
发明人：橫山泰明 YOKOYAMA, YASUAKI , 米倉勇 YONEKURA, ISAMU , 佐藤崇 SATOH, TAKASHI , 若崎環樹 WAKASAKI, TAMAKI , 竹內安正 TAKEUCHI, YASUMASA , 遠藤昌之 ENDO, MASAYUKI
IPC分类号： H05K
CPC分类号： H01L21/288 , C23C18/02 , C23C18/06 , C23C18/08 , C23C18/14 , Y10T428/24917
摘要：本發明提供一種形成配線或電極之方法，其包括將基材塗布包含(A)胺化合物及氫化鋁化合物之錯合物及(B)鈦化合物之組合物，或包含錯合物及(C)金屬顆粒之組合物，及使製得之塗層薄膜進行加熱及／或光處理。藉此方法，可使用導電性薄膜形成組合物形成薄膜，藉此可容易且廉價地形成可適用於電子裝置之配線及電極。
简体摘要：本发明提供一种形成配线或电极之方法，其包括将基材涂布包含(A)胺化合物及氢化铝化合物之错合物及(B)钛化合物之组合物，或包含错合物及(C)金属颗粒之组合物，及使制得之涂层薄膜进行加热及／或光处理。借此方法，可使用导电性薄膜形成组合物形成薄膜，借此可容易且廉价地形成可适用于电子设备之配线及电极。

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