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1. 发明专利

TWI236398B 研磨物失效
公开(公告)号：TWI236398B
公开(公告)日：2005-07-21
申请号：TW090113091
申请日：2001-05-30
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：長谷川亨 HASEGAWA, KUO , 佐藤穗積 , 石川理 , 保幸生 HOSAKA, YUKIO
IPC分类号： B24D
CPC分类号： B24B37/245 , B24B37/24 , B24D3/28 , B24D11/001 , B24D18/0009 , C09K3/1454
摘要：本發明，即使含有多量的研磨粒之情形，研磨粒之分散性特別優越，並發揮安定的研磨性，能提供降低刻痕之效果為目的。構成本發明之研磨物之研磨部，將所定量之丁二烯，苯乙烯，甲基丙烯酸酯，衣康酸，丙烯酸，α-〔甲基苯乙烯二聚物，t-十二(烷)基硫醇投入於高壓釜，以75℃16小時使反應，得到共聚物為分散之乳液，將此乳液調節成pH8.5後，投入一次平均粒徑0.3μm之氧化鈰粉末予以攪拌而得水系分散元件，再者將此水系分散元件於薄膜上薄薄的伸展使乾燥，所得乾燥物被模壓製(mold press)而可得到。又上述研磨部可具有交聯構造，本發明之研磨物，係將半導體晶圓等之表面研磨，可利用適當的研磨襯墊。
简体摘要：本发明，即使含有多量的研磨粒之情形，研磨粒之分散性特别优越，并发挥安定的研磨性，能提供降低刻痕之效果为目的。构成本发明之研磨物之研磨部，将所定量之丁二烯，苯乙烯，甲基丙烯酸酯，衣康酸，丙烯酸，α-〔甲基苯乙烯二聚物，t-十二(烷)基硫醇投入于高压釜，以75℃16小时使反应，得到共聚物为分散之乳液，将此乳液调节成pH8.5后，投入一次平均粒径0.3μm之氧化铈粉末予以搅拌而得水系分散组件，再者将此水系分散组件于薄膜上薄薄的伸展使干燥，所得干燥物被模压制(mold press)而可得到。又上述研磨部可具有交联构造，本发明之研磨物，系将半导体晶圆等之表面研磨，可利用适当的研磨衬垫。

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