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1. 发明专利

TWI577701B 光阻組成物有权
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TWI577701B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW101103517
申请日：2012-02-03
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：木神原宏和 , SAKAKIBARA, HIROKAZU , 宮田擴 , MIYATA, HIROMU , 古川泰一 , FURUKAWA, TAIICHI , 伊藤亘史 , ITOU, KOJI
IPC分类号： C08F220/18 , C08F220/22 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/038 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F224/00 , C08F2220/283 , C08F2220/382 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325

2. 发明专利

TWI474109B 圖型形成方法及顯像液有权
简体标题：图型形成方法及显像液
公开(公告)号：TWI474109B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW101104359
申请日：2012-02-10
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：古川泰一 , FURUKAWA, TAIICHI , 木神原宏和 , SAKAKIBARA, HIROKAZU
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , C08K5/16
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/095 , G03F7/325

3. 发明专利

TW201250380A 圖型形成方法及顯像液审中-公开
简体标题：图型形成方法及显像液
公开(公告)号：TW201250380A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101104359
申请日：2012-02-10
申请人： JSR股份有限公司
发明人：古川泰一 , 木神原宏和
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/095 , G03F7/325
摘要：本發明之目的係提供圖型形成方法，其可抑制光阻膜之圖型形成步驟中之膜減，同時可減低所得圖型之LWR，可形成以曝光寬容度(EL)、焦點深度(DOF)等為指標之微影特性優異的光阻圖型。本發明係一種圖型形成方法，其係包含下述步驟之圖型形成方法：(1)使用光阻組成物在基板上形成光阻膜之步驟，(2)使上述光阻膜曝光之步驟，及(3)以含有有機溶劑之負型顯像液使上述經曝光之光阻膜顯像之步驟，其特徵為上述光阻組成物含有[A]具有含有藉由酸之作用而解離之酸解離性基之構造單位(I)且藉由該酸解離性基之解離而減少對上述顯像液之溶解性之聚合物，及[B]感放射線性酸產生體，且上述顯像液含有含氮化合物。
简体摘要：本发明之目的系提供图型形成方法，其可抑制光阻膜之图型形成步骤中之膜减，同时可减低所得图型之LWR，可形成以曝光宽容度(EL)、焦点深度(DOF)等为指针之微影特性优异的光阻图型。本发明系一种图型形成方法，其系包含下述步骤之图型形成方法：(1)使用光阻组成物在基板上形成光阻膜之步骤，(2)使上述光阻膜曝光之步骤，及(3)以含有有机溶剂之负型显像液使上述经曝光之光阻膜显像之步骤，其特征为上述光阻组成物含有[A]具有含有借由酸之作用而解离之酸解离性基之构造单位(I)且借由该酸解离性基之解离而减少对上述显像液之溶解性之聚合物，及[B]感放射线性酸产生体，且上述显像液含有含氮化合物。

4. 发明专利

TW201238983A 光阻組成物审中-公开
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TW201238983A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW101103517
申请日：2012-02-03
申请人： JSR股份有限公司
发明人：木神原宏和 , 宮田擴 , 古川泰一 , 伊藤亘史
IPC分类号： C08F , G03F
CPC分类号： G03F7/038 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F224/00 , C08F2220/283 , C08F2220/382 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要：本發明之課題為提供一種顯像液中使用有機溶劑之圖型形成方法中,可抑制顯像後之誤接觸孔及曝光部表面之粗糙度之產生,同時解像度、圓形性等微影特性優異之光阻組成物。為解決上述課題之發明係一種有機溶劑顯像用之光阻組成物,且為含有[A]含有具有酸解離性基之構造單位(al)之基底聚合物,[B]含有具有酸解離性基之構造單位(bl),且氟原子含有率比[A]聚合物高之聚合物,以及[C]酸產生體,且上述構造單位(bl)係以下述式(1)或式(2)表示之光阻組成物。
简体摘要：本发明之课题为提供一种显像液中使用有机溶剂之图型形成方法中,可抑制显像后之误接触孔及曝光部表面之粗糙度之产生,同时解像度、圆形性等微影特性优异之光阻组成物。为解决上述课题之发明系一种有机溶剂显像用之光阻组成物,且为含有[A]含有具有酸解离性基之构造单位(al)之基底聚合物,[B]含有具有酸解离性基之构造单位(bl),且氟原子含有率比[A]聚合物高之聚合物,以及[C]酸产生体,且上述构造单位(bl)系以下述式(1)或式(2)表示之光阻组成物。

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