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    • 6. 发明专利
    • 改質羥基萘酚醛樹脂、改質羥基萘酚醛樹脂的製造方法、感光性組成物、抗蝕劑材料及塗膜
    • 改质羟基萘酚醛树脂、改质羟基萘酚醛树脂的制造方法、感光性组成物、抗蚀剂材料及涂膜
    • TW201518387A
    • 2015-05-16
    • TW103131836
    • 2014-09-16
    • DIC股份有限公司DIC CORPORATION
    • 今田知之IMADA, TOMOYUKI佐藤勇介SATO, YUSUKE
    • C08L61/14C08G8/28C09D161/14G03F7/004H01L21/027H01L21/312
    • C08G8/28C08G8/36C08L61/14C09D161/14G03F7/039G03F7/0392G03F7/0758
    • 本發明的目的在於提供一種光感度、解析度及鹼顯影性高,且耐熱性及耐吸濕性亦優異的感光性組成物、抗蝕劑材料、其塗膜、以及最適合於該些用途的改質羥基萘酚醛樹脂,本發明所提供的改質羥基萘酚醛樹脂為將由下述結構式(1)所表示的結構部位(I)作為重複單元的酚醛樹脂,且樹脂中所存在的R1中的至少一個為三級烷基、烷氧基烷基、醯基、烷氧基羰基、含有雜原子的環狀烴基、三烷基矽烷基的任一者。 (式中,R1為氫原子、三級烷基、烷氧基烷基、醯基、烷氧基羰基、含有雜原子的環狀烴基、三烷基矽烷基的任一者,m為1或2。當m為2時,2個R1相互可相同,亦可不同。R2分別獨立地為氫原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、鹵素原子的任一者)
    • 本发明的目的在于提供一种光感度、分辨率及碱显影性高,且耐热性及耐吸湿性亦优异的感光性组成物、抗蚀剂材料、其涂膜、以及最适合于该些用途的改质羟基萘酚醛树脂,本发明所提供的改质羟基萘酚醛树脂为将由下述结构式(1)所表示的结构部位(I)作为重复单元的酚醛树脂,且树脂中所存在的R1中的至少一个为三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含有杂原子的环状烃基、三烷基硅烷基的任一者。 (式中,R1为氢原子、三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含有杂原子的环状烃基、三烷基硅烷基的任一者,m为1或2。当m为2时,2个R1相互可相同,亦可不同。R2分别独立地为氢原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素原子的任一者)
    • 9. 发明专利
    • 含酚性羥基之樹脂及抗蝕劑材料
    • 含酚性羟基之树脂及抗蚀剂材料
    • TW201833161A
    • 2018-09-16
    • TW106136496
    • 2017-10-24
    • 日商迪愛生股份有限公司DIC CORPORATION
    • 今田知之IMADA, TOMOYUKI佐藤勇介SATO, YUSUKE
    • C08G8/04G03F7/004G03F7/023H01L21/027
    • 本發明提供一種流動性及耐熱性較高,且用作抗蝕劑材料之情形時之顯影性或耐乾式蝕刻性亦優異的含酚性羥基之樹脂、含有其之感光性組成物、硬化性組成物、及抗蝕劑材料。具體而言,使用作為下述結構式(1)所表示之化合物(A)與醛化合物(B)之反應物即含酚性羥基之樹脂。 [式中,Ar1分別獨立地為可具有取代基之芳基,Ar1中之至少一者於芳香環上具有羥基。R1為氫原子或脂肪族烴基。R2係可具有取代基之脂肪族烴基、烷氧基、鹵素原子中之任一者,n為0或1~4之整數]
    • 本发明提供一种流动性及耐热性较高,且用作抗蚀剂材料之情形时之显影性或耐干式蚀刻性亦优异的含酚性羟基之树脂、含有其之感光性组成物、硬化性组成物、及抗蚀剂材料。具体而言,使用作为下述结构式(1)所表示之化合物(A)与醛化合物(B)之反应物即含酚性羟基之树脂。 [式中,Ar1分别独立地为可具有取代基之芳基,Ar1中之至少一者于芳香环上具有羟基。R1为氢原子或脂肪族烃基。R2系可具有取代基之脂肪族烃基、烷氧基、卤素原子中之任一者,n为0或1~4之整数]