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1. 发明专利

TWI278056B 微影裝置及器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备及器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI278056B
公开(公告)日：2007-04-01
申请号：TW094135615
申请日：2005-10-13
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：喬斯特喬洛恩奧汀斯 OTTENS, JOOST JEROEN , 傑倫喬漢那蘇菲亞瑪利亞摩頓 MERTENS, JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA , 費德瑞可艾德華迪瓊 DE JONG, FREDERIK EDUARD , 可恩古曼 GOORMAN, KOEN , 伯瑞斯曼徹奇可夫 MENCHTCHIKOV, BORIS , 愛德恩奧古斯丁瑪修司凡葛貝爾 VAN GOMPEL, EDWIN AUGUSTINUS MATHEUS
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： H01L21/67109 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70875
摘要：本發明揭示一種微影裝置，其包括一經構造以支撐一基板之基板支撐件，及一經組態以將一圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統。排列該基板支撐件以沿著該基板之隨後靶向目標部分的預定軌跡來移動該基板。該基板支撐件包括一用於為該基板提供熱穩定性之管道組態。排列該管道組態以在該支撐件中管道輸送熱穩定介質，及大體經由支撐該基板之先前靶向部分之基板支撐件的部分，來將該介質輸送遠離支撐該目標部分之基板支撐件的一部分，以使隨後靶向目標部分保持熱穩定。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备，其包括一经构造以支撑一基板之基板支撑件，及一经组态以将一图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统。排列该基板支撑件以沿着该基板之随后靶向目标部分的预定轨迹来移动该基板。该基板支撑件包括一用于为该基板提供热稳定性之管道组态。排列该管道组态以在该支撑件中管道输送热稳定介质，及大体经由支撑该基板之先前靶向部分之基板支撑件的部分，来将该介质输送远离支撑该目标部分之基板支撑件的一部分，以使随后靶向目标部分保持热稳定。

2. 发明专利

TW200633112A 微影裝置及器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200633112A
公开(公告)日：2006-09-16
申请号：TW094135615
申请日：2005-10-13
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：喬斯特喬洛恩奧汀斯 OTTENS, JOOST JEROEN , 傑倫喬漢那蘇菲亞瑪利亞摩頓 MERTENS, JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA , 費德瑞可艾德華迪瓊 DE JONG, FREDERIK EDUARD , 可恩古曼 GOORMAN, KOEN , 伯瑞斯曼徹奇可夫 MENCHTCHIKOV, BORIS , 愛德恩奧古斯丁瑪修司凡葛貝爾 VAN GOMPEL, EDWIN AUGUSTINUS MATHEUS
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： H01L21/67109 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70875
摘要：本發明揭示一種微影裝置，其包括一經構造以支撐一基板之基板支撐件，及一經組態以將一圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統。排列該基板支撐件以沿著該基板之隨後靶向目標部分的預定軌跡來移動該基板。該基板支撐件包括一用於為該基板提供熱穩定性之管道組態。排列該管道組態以在該支撐件中管道輸送熱穩定介質，及大體經由支撐該基板之先前靶向部分之基板支撐件的部分，來將該介質輸送遠離支撐該目標部分之基板支撐件的一部分，以使隨後靶向目標部分保持熱穩定。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备，其包括一经构造以支撑一基板之基板支撑件，及一经组态以将一图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统。排列该基板支撑件以沿着该基板之随后靶向目标部分的预定轨迹来移动该基板。该基板支撑件包括一用于为该基板提供热稳定性之管道组态。排列该管道组态以在该支撑件中管道输送热稳定介质，及大体经由支撑该基板之先前靶向部分之基板支撑件的部分，来将该介质输送远离支撑该目标部分之基板支撑件的一部分，以使随后靶向目标部分保持热稳定。

3. 发明专利

TW200627079A 支撐及/或加熱調適一基板,一支撐桌,及一夾頭之裝置及方法 APPARATUS, METHOD FOR SUPPORTING AND/OR THERMALLY CONDITIONING A SUBSTRATE, A SUPPORT TABLE, AND A CHUCK 审中-公开
简体标题：支撑及/或加热调适一基板,一支撑桌,及一夹头之设备及方法 APPARATUS, METHOD FOR SUPPORTING AND/OR THERMALLY CONDITIONING A SUBSTRATE, A SUPPORT TABLE, AND A CHUCK
公开(公告)号：TW200627079A
公开(公告)日：2006-08-01
申请号：TW094135419
申请日：2005-10-11
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：喬洛恩喬恩斯蘇菲亞馬莉亞馬丁斯 MERTENS, JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA , 愛恩羅德克亨利卡斯喬漢斯范密爾 VAN MEER, ASCHWIN LODEWIJK HENDRICUS JOHANNES , 喬斯特喬洛恩奧汀斯 OTTENS, JOOST JEROEN , 愛德恩奧古斯丁瑪修司凡葛貝爾 VAN GOMPEL, EDWIN AUGUSTINUS MATHEUS
IPC分类号： G03F
CPC分类号： H01L21/67109 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70875
摘要：本發明揭示一種包括一用於支撐一基板之支撐桌的裝置。該支撐桌包括在用於支撐該基板期間與該基板接觸的複數個支撐突起。該支撐桌包括複數個熱傳遞突起，其當該基板係由該等支撐突起支撐時，在使用期間向該基板延伸而不接觸該基板。用於與該基板進行熱交換之含氣體熱交換間隙在該等熱傳遞突起與該基板之間延伸。
简体摘要：本发明揭示一种包括一用于支撑一基板之支撑桌的设备。该支撑桌包括在用于支撑该基板期间与该基板接触的复数个支撑突起。该支撑桌包括复数个热传递突起，其当该基板系由该等支撑突起支撑时，在使用期间向该基板延伸而不接触该基板。用于与该基板进行热交换之含气体热交换间隙在该等热传递突起与该基板之间延伸。

4. 发明专利

TW200736858A 用於微影裝置之靜電鉗的製造方法及微影裝置 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTROSTATIC CLAMP FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
简体标题：用于微影设备之静电钳的制造方法及微影设备 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTROSTATIC CLAMP FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS
公开(公告)号：TW200736858A
公开(公告)日：2007-10-01
申请号：TW095145895
申请日：2006-12-08
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：賀伯特亞德烈凡米羅 VAN MIERLO, HUBERT ADRIAAN , 愛立克里諾達斯漢姆 HAM, ERIK LEONARDUS , 亨利卡斯喬漢斯馬里亞梅捷 MEIJER, HENDRICUS JOHANNES MARIA , 强尼斯賀伯特斯莎菲納摩斯 MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA , 漢德利克安東尼喬漢納尼豪夫 NEERHOF, HENDRIK ANTONY JOHANNES , 喬斯特喬洛恩奧汀斯 OTTENS, JOOST JEROEN , 喬和納亞德烈佩特斯理丁 LEIJTENS, JOHANNES ADRIANUS PETRUS , 馬可李克斯 LE KLUSE, MARCO , 貞霍普曼 HOPMAN, JAN
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H01L21/6831 , G03F7/70708 , Y10T29/49117
摘要：本發明係關於一種製造一靜電鉗之方法,該靜電鉗經組態以在一微影裝置中將一物品靜電夾持至一物品支撐件。該方法包括:提供一第一材料層;在該第一材料層中蝕刻一凹槽;及將一電極安置在該第一材料層之該凹槽中。
简体摘要：本发明系关于一种制造一静电钳之方法,该静电钳经组态以在一微影设备中将一物品静电夹持至一物品支撑件。该方法包括:提供一第一材料层;在该第一材料层中蚀刻一凹槽;及将一电极安置在该第一材料层之该凹槽中。

5. 发明专利

TW200725162A 微影裝置及元件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备及组件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200725162A
公开(公告)日：2007-07-01
申请号：TW095141078
申请日：2006-11-07
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：喬斯特喬洛恩奧汀斯 OTTENS, JOOST JEROEN , 馬可思艾米喬安波曼 BOONMAN, MARCUS EMILE JOANNES , 湯瑪士喬瑟夫瑪利亞凱斯特米勒 CASTENMILLER, THOMAS JOSEPHUS MARIA , 安德貝那多裘尼克 JEUNINK, ANDRE BERNARDUS
IPC分类号： G03B , G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/707 , H01L21/682 , Y10S269/903
摘要：本發明揭示一種微影裝置,其包括:一物品支撐件,其經建構以支撐一輻射光束之一光束路徑中的一能夠賦予該輻射光束其橫截面中之一圖案以形成一圖案化輻射光束之第一物品或一待置放於該圖案化輻射光束之一光束路徑中之第二物品,該物品支撐件具有在其上於使用中安置該第一物品或該第二物品之複數個支撐突起,其中該複數個支撐突起經建構以界定一支撐區用以為該第一物品或該第二物品提供一支撐平面,使得當該第一物品或該第二物品受到一熱負荷時,該支撐區允許該第一物品或該第二物品之至少一部分膨脹或收縮以減少一機械應力分別在該第一物品或該第二物品中的累積,同時保持該第一物品或該第二物品大體固定至該物品支撐件;及一位置感測器,其經組態以判定在一時間週期內該第一物品或該第二物品在一位於該支撐區之平面中之方向上的一位置偏移;及一投影系統,其經組態以將一圖案化輻射光束投影於一第二物品之一目標部分上。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备,其包括:一物品支撑件,其经建构以支撑一辐射光束之一光束路径中的一能够赋予该辐射光束其横截面中之一图案以形成一图案化辐射光束之第一物品或一待置放于该图案化辐射光束之一光束路径中之第二物品,该物品支撑件具有在其上于使用中安置该第一物品或该第二物品之复数个支撑突起,其中该复数个支撑突起经建构以界定一支撑区用以为该第一物品或该第二物品提供一支撑平面,使得当该第一物品或该第二物品受到一热负荷时,该支撑区允许该第一物品或该第二物品之至少一部分膨胀或收缩以减少一机械应力分别在该第一物品或该第二物品中的累积,同时保持该第一物品或该第二物品大体固定至该物品支撑件;及一位置传感器,其经组态以判定在一时间周期内该第一物品或该第二物品在一位于该支撑区之平面中之方向上的一位置偏移;及一投影系统,其经组态以将一图案化辐射光束投影于一第二物品之一目标部分上。

6. 发明专利

TW200720863A 微影裝置及元件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备及组件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200720863A
公开(公告)日：2007-06-01
申请号：TW095138459
申请日：2006-10-18
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：高恩捷克巴斯喬恩斯馬里亞柴爾 ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA , 喬斯特喬洛恩奧汀斯 OTTENS, JOOST JEROEN , 凡丹亞克賈倫 VAN DEN AKKER, JEROEN
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/707 , C04B35/195 , C04B2235/3203 , C04B2235/3244 , C04B2235/3255 , G03F7/70858
摘要：本發明揭示微影裝置及元件製造方法。本發明關於一物品支撐部件,其於該物品支撐上經配置以支撐欲置放於一微影裝置之輻射光束之光束路徑中的物品;該物品支撐部件包括:一第一材料之一基底板;以及一第二材料之複數個凸節,其接合至該第一材料之該基底板。
简体摘要：本发明揭示微影设备及组件制造方法。本发明关于一物品支撑部件,其于该物品支撑上经配置以支撑欲置放于一微影设备之辐射光束之光束路径中的物品;该物品支撑部件包括:一第一材料之一基底板;以及一第二材料之复数个凸节,其接合至该第一材料之该基底板。

7. 发明专利

TW200604754A 微影裝置與器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备与器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200604754A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：TW094110313
申请日：2005-03-31
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：高恩捷克巴斯喬恩斯馬里亞柴爾 ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA , 喬洛恩喬恩斯蘇菲亞馬莉亞馬丁斯 MERTENS, JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA , 喬斯特喬洛恩奧汀斯 OTTENS, JOOST JEROEN
IPC分类号： G03F , H01L , G03B
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70691
摘要：本發明揭示一種使用於沉浸式微影術中之凸瘤板，其在一周緣部分中具有一高於在一中間部分中的凸瘤密度，使得當一較高之壓力差被施加在該周緣部分時，該等凸瘤之壓縮量仍大致相同於在該中間部分中之凸瘤壓縮量。
简体摘要：本发明揭示一种使用于沉浸式微影术中之凸瘤板，其在一周缘部分中具有一高于在一中间部分中的凸瘤密度，使得当一较高之压力差被施加在该周缘部分时，该等凸瘤之压缩量仍大致相同于在该中间部分中之凸瘤压缩量。

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