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2. 发明专利

TWI327682B 微影裝置及使用資料濾波之元件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARAUTS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD UTILIZING DATA FILTERING 有权
简体标题：微影设备及使用数据滤波之组件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARAUTS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD UTILIZING DATA FILTERING
公开(公告)号：TWI327682B
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：TW095109109
申请日：2006-03-17
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：派翠西斯阿若瑟斯約克伯提那曼斯 , 喬納斯喬可巴斯麥修斯巴賽曼
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70291 , G03F7/70433 , G03F7/70508
摘要：本發明係關於一種用於在一基板上形成圖案之裝置與方法。該裝置包含一投影系統、一圖案化元件、一低通濾波器及一資料調處元件。該投影系統將一輻射光束投射至該基板上作為一輻射子光束陣列。該圖案化元件調變該等輻射子光束以在該基板上大體上產生一所要之劑量圖案。該低通濾波器操作得自該所要之劑量圖案的圖案資料以形成一僅包含低於一選定之臨限頻率之空間頻率成分的限幅頻率目標劑量圖案。該資料調處元件產生一包含待由該圖案化元件而產生之光點曝光強度的控制訊號，此係基於該等光點曝光強度與該限幅頻率目標劑量圖案之一直接代數最小平方擬合的。在多種實例中，亦可利用用於圖案銳化、影像對數斜率控制及/或CD(臨界尺寸)偏置之濾波器。
简体摘要：本发明系关于一种用于在一基板上形成图案之设备与方法。该设备包含一投影系统、一图案化组件、一低通滤波器及一数据调处组件。该投影系统将一辐射光束投射至该基板上作为一辐射子光束数组。该图案化组件调制该等辐射子光束以在该基板上大体上产生一所要之剂量图案。该低通滤波器操作得自该所要之剂量图案的图案数据以形成一仅包含低于一选定之临限频率之空间频率成分的限幅频率目标剂量图案。该数据调处组件产生一包含待由该图案化组件而产生之光点曝光强度的控制信号，此系基于该等光点曝光强度与该限幅频率目标剂量图案之一直接代数最小平方拟合的。在多种实例中，亦可利用用于图案锐化、影像对数斜率控制及/或CD(临界尺寸)偏置之滤波器。

3. 发明专利

TWI342468B 微影裝置及器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备及器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI342468B
公开(公告)日：2011-05-21
申请号：TW094145387
申请日：2005-12-20
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：喬納斯喬可巴斯麥修斯巴賽曼 , 史喬德尼可拉斯藍伯特斯當德斯 , 克里斯汀亞歷山大胡根登 , 喬翁喬納斯蘇菲亞馬莉亞馬汀斯 , 喬納斯凱瑟尼斯哈伯特斯馬肯斯 , 包伯史崔弗科
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F9/7023 , G03F7/70341 , G03F7/70883
摘要：本發明提供一種用於校正一浸沒微影裝置之一曝光參數的方法，在該方法中，使用一量測射束量測一曝光參數，該量測射束經投影而穿過該浸沒微影裝置之投影系統與一基板台之間的一液體，且基於影響一使用該量測射束進行之量測的一物理性質之一變化而確定偏移以至少部分校正該量測曝光參數。又，提供一種量測一光學元件之一高度的裝置及方法，該光學元件連接至該浸沒微影裝置之該投影系統與該基板台之間的液體。
简体摘要：本发明提供一种用于校正一浸没微影设备之一曝光参数的方法，在该方法中，使用一量测射束量测一曝光参数，该量测射束经投影而穿过该浸没微影设备之投影系统与一基板台之间的一液体，且基于影响一使用该量测射束进行之量测的一物理性质之一变化而确定偏移以至少部分校正该量测曝光参数。又，提供一种量测一光学组件之一高度的设备及方法，该光学组件连接至该浸没微影设备之该投影系统与该基板台之间的液体。

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