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2. 发明专利

TWI322929B 微影裝置及設備製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备及设备制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI322929B
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW094127593
申请日：2005-08-12
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：傑倫喬漢那蘇菲亞瑪利亞摩頓 , 克斯汀那斯傑若德瑪利亞迪莫 , 瑪歇喬漢那斯伊莉沙白胡伯特穆特珍 , 安東尼奧斯喬漢那斯凡德涅 , 宙斯特傑倫奧登斯 , 喬漢那安娜魁德克斯 , 瑪利亞伊莉沙白瑞曼惠斯坎 , 馬可寇特史帝芬格 , 派翠西斯阿若瑟斯約克伯提那曼斯 , 馬提那斯康納斯瑪利亞微哈珍 , 約克伯喬漢那斯李奧那多漢德瑞可微斯派 , 費德瑞可艾德華迪瓊 , 可恩古曼 , 伯瑞斯曼徹奇可夫 , 賀曼布恩 , 史多元耐田諾 , 理查莫爾曼 , 馬汀法蘭斯皮爾史密特 , 巴特李奧納德皮特史古德馬克 , 法蘭西瑟斯喬漢那斯約瑟夫簡森 , 米歇爾瑞潘 , 賽多斯皮特斯瑪里亞凱德 , 喬漢斯亨利哈斯威廉瑪斯賈庫博 , 尼可拉斯譚凱特 , 艾瑞克羅勒夫洛卜史塔 , 愛恩羅德克亨利卡斯喬漢斯范密爾
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
摘要：本發明提供一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及若干元件，其用以控制及/或補償浸液自該基板之蒸發。【創作特點】需要提供一種能降低由浸液引起之微影誤差的系統。
根據本發明之一態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及一液體蒸發控制器，其經配置以控制該液體供應系統所供應之液體的淨蒸發速率。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及一基板台掃描系統，其經配置以沿一相對於該密封構件之預定掃描路徑移動該基板台，藉此掃描該基板表面上之該目標部分；及一基板加熱器，其經組態以根據該基板台相對於該密封構件之位置、速度、加速度及掃描路徑、局部基板溫度及局部基板台溫度中之至少一者來加熱該基板之至少一部分。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及一氣體密封，其經組態以控制自該密封構件逃逸穿過一由該密封構件之一邊界而被定界於一側上且由該基板而被定界於第二側上之間隙的液體的量，該氣體密封包含一氣體出口(經由該氣體出口將氣體供應至該間隙內之區域)及一真空排氣入口(由該氣體出口供應之氣體經由該真空排氣入口而得以自該間隙內之區域移除)，該氣體出口及該真空排氣入口分別連接至嵌入於該密封構件中之一氣體出口管及一真空排氣入口管，其中該密封構件進一步包含一密封構件溫度穩定器。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；一基板台熱交換流體控制器，其用於控制經配置以流經嵌入於該基板台中之一通道網路的熱交換流體之溫度及流動速率。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該基板台包含至少一整合之局部溫度控制系統，該局部溫度控制系統包含：一與一加熱器耦接之溫度感應器，該加熱器經組態以當如由該溫度感應器所量測之局部溫度落至一預定參考值以下時產生熱，且當該局部溫度升至該預定參考值以上時停止產生熱。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；至少一溫度感應器，其經組態以量測該基板、該基板台及一基板固持器中之至少一者的至少一部分的溫度；及一投影系統控制器，其經組態以調整該圖案化之輻射光束的特性以回應於由該至少一溫度感應器所量測之該(等)溫度。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及一基板台移位系統，其經配置以沿一相對於該密封構件之預定路徑移動該基板台，藉此在該基板表面上移動該目標部分；及一微波源及微波封鎖設備，其經共同組態以向該基板表面上之液體供應熱。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；及控制該液體供應系統所供應之液體的淨蒸發速率。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；及提供一基板台移位系統，其經配置以沿一相對於該密封構件之預定路徑移動該基板台，藉此在該基板表面上移動該目標部分；及根據該基板台相對於該密封構件之位置、速度、加速度及預定路徑、局部基板溫度及局部基板台溫度中之至少一者來加熱該基板之至少一部分。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；及提供一氣體密封，其經組態以控制自該密封構件逃逸穿過一由該密封構件之一邊界而被定界於一側上且由該基板而被定界於第二側上之間隙的液體的量，提供一包含一氣體入口(經由該氣體入口可將氣體供應至該間隙內之區域)及一真空排氣入口(由該氣體入口供應之氣體經由該真空排氣入口而得以自該間隙內之該區域移除)的氣體密封，該氣體入口及該真空排氣出口分別連接至嵌入於該密封構件中之一氣體入口管及一真空排氣出口管，且穩定該密封構件之溫度。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；提供被嵌入於該基板台中的一通道網路，及控制經配置以流經該通道網路之熱交換流體的溫度及流動速率。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統，其中該基板台包含至少一整合之局部溫度控制系統，該局部溫度控制系統包含：一與一加熱器耦接之溫度感應器，該加熱器經組態以當如由該溫度感應器所量測之局部溫度落至一預定參考值以下時產生熱，且當該局部溫度升至該預定參考值以上時停止產生熱。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供經組態以量測該基板、該基板台及一基板固持器中之至少一者的至少一部分的溫度的至少一溫度感應器；及調整該圖案化之輻射光束的特性以回應於由該至少一溫度感應器所量測之該(等)溫度。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；及提供一基板台移位系統，其經配置以沿一相對於該密封構件之預定路徑移動該基板台，藉此在該基板表面上移動該目標部分；及使用一微波源及微波封鎖設備以向該基板表面上之液體供應熱。
简体摘要：本发明提供一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及若干组件，其用以控制及/或补偿浸液自该基板之蒸发。【创作特点】需要提供一种能降低由浸液引起之微影误差的系统。根据本发明之一态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及一液体蒸发控制器，其经配置以控制该液体供应系统所供应之液体的净蒸发速率。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及一基板台扫描系统，其经配置以沿一相对于该密封构件之预定扫描路径移动该基板台，借此扫描该基板表面上之该目标部分；及一基板加热器，其经组态以根据该基板台相对于该密封构件之位置、速度、加速度及扫描路径、局部基板温度及局部基板台温度中之至少一者来加热该基板之至少一部分。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及一气体密封，其经组态以控制自该密封构件逃逸穿过一由该密封构件之一边界而被定界于一侧上且由该基板而被定界于第二侧上之间隙的液体的量，该气体密封包含一气体出口(经由该气体出口将气体供应至该间隙内之区域)及一真空排气入口(由该气体出口供应之气体经由该真空排气入口而得以自该间隙内之区域移除)，该气体出口及该真空排气入口分别连接至嵌入于该密封构件中之一气体出口管及一真空排气入口管，其中该密封构件进一步包含一密封构件温度稳定器。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；一基板台热交换流体控制器，其用于控制经配置以流经嵌入于该基板台中之一信道网络的热交换流体之温度及流动速率。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上，其中该基板台包含至少一集成之局部温度控制系统，该局部温度控制系统包含：一与一加热器耦接之温度感应器，该加热器经组态以当如由该温度感应器所量测之局部温度落至一预定参考值以下时产生热，且当该局部温度升至该预定参考值以上时停止产生热。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；至少一温度感应器，其经组态以量测该基板、该基板台及一基板固持器中之至少一者的至少一部分的温度；及一投影系统控制器，其经组态以调整该图案化之辐射光束的特性以回应于由该至少一温度感应器所量测之该(等)温度。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及一基板台移位系统，其经配置以沿一相对于该密封构件之预定路径移动该基板台，借此在该基板表面上移动该目标部分；及一微波源及微波封锁设备，其经共同组态以向该基板表面上之液体供应热。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；及控制该液体供应系统所供应之液体的净蒸发速率。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；及提供一基板台移位系统，其经配置以沿一相对于该密封构件之预定路径移动该基板台，借此在该基板表面上移动该目标部分；及根据该基板台相对于该密封构件之位置、速度、加速度及预定路径、局部基板温度及局部基板台温度中之至少一者来加热该基板之至少一部分。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；及提供一气体密封，其经组态以控制自该密封构件逃逸穿过一由该密封构件之一边界而被定界于一侧上且由该基板而被定界于第二侧上之间隙的液体的量，提供一包含一气体入口(经由该气体入口可将气体供应至该间隙内之区域)及一真空排气入口(由该气体入口供应之气体经由该真空排气入口而得以自该间隙内之该区域移除)的气体密封，该气体入口及该真空排气出口分别连接至嵌入于该密封构件中之一气体入口管及一真空排气出口管，且稳定该密封构件之温度。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；提供被嵌入于该基板台中的一信道网络，及控制经配置以流经该信道网络之热交换流体的温度及流动速率。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统，其中该基板台包含至少一集成之局部温度控制系统，该局部温度控制系统包含：一与一加热器耦接之温度感应器，该加热器经组态以当如由该温度感应器所量测之局部温度落至一预定参考值以下时产生热，且当该局部温度升至该预定参考值以上时停止产生热。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供经组态以量测该基板、该基板台及一基板固持器中之至少一者的至少一部分的温度的至少一温度感应器；及调整该图案化之辐射光束的特性以回应于由该至少一温度感应器所量测之该(等)温度。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；及提供一基板台移位系统，其经配置以沿一相对于该密封构件之预定路径移动该基板台，借此在该基板表面上移动该目标部分；及使用一微波源及微波封锁设备以向该基板表面上之液体供应热。

4. 发明专利

TWI326004B 微影裝置及元件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备及组件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI326004B
公开(公告)日：2010-06-11
申请号：TW095114175
申请日：2006-04-20
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：包伯史翠卡克 , 史喬德尼可拉斯萊伯特斯當德斯 , 丹葛瑞夫羅芙佛德瑞克 , 亞歷山大克里斯汀恩胡格丹 , 馬汀斯漢德利克斯安東尼斯里恩德斯 , 喬洛恩喬恩斯蘇菲亞馬莉亞馬丁斯 , 米歇爾瑞潘
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70341
摘要：本發明揭示一種浸沒式微影裝置，其具有藉由防止氣泡自隙縫中逃逸至光束路徑及/或提取可在該隙縫中形成之氣泡來防止或減少在基板台中的一或多個隙縫中形成氣泡的適應性。【創作特點】使用浸沒式微影裝置製造之元件中的缺陷的主要原因可為浸液中的氣泡，視氣泡之尺寸及位置而定，此可導致劑量變化及影像失真。因此，高度需要防止氣泡進入投影束之路徑。氣泡之主要來源可為(例如)圍繞感應器單元、基準板及基板之基板台(鏡面區塊)之平坦上表面中的隙縫。由於該等隙縫穿過液體供應系統(液體限制結構)，因此其可不完全填充且所遺留的氣體可形成氣泡。彼等氣泡可既而上升離開隙縫且進入投影系統與基板之間的空間。
因此，舉例而言，提供一或多個配置以防止基板台之上表面中之隙縫上所形成之氣泡造成元件生產中的成像缺陷將係有利的。
根據本發明之一態樣，提供一種微影裝置，其經組態以經由一液體將一所要圖案之一影像投影至一固持於一基板臺上之基板上，在該基板台與該基板之一外部邊緣之間或在該基板台與該基板臺上安裝之在正常使用中該液體可與之相接觸的另一部件之間，在該基板台之一表面上存在一隙縫，該隙縫具備一經組態以將可發生之任何氣泡保持於該隙縫中的氣泡保持元件。
根據本發明之另一態樣，提供一種微影裝置，其經組態以經由一液體將一所要圖案之一影像投影至一固持於一基板臺上之基板上，在該基板台與該基板之一外部邊緣之間或在該基板台與該基板臺上安裝之在正常使用中該液體可與之相接觸的另一部件之間，在該基板台之一表面上存在一隙縫，該隙縫沿其長度分為複數個區段。
根據本發明之再一態樣，提供一種微影裝置，其經組態以經由一液體將一所要圖案之一影像投影至一固持於一基板臺上之基板上，在該基板台與該基板之一外部邊緣之間或在該基板台與該基板臺上安裝之在正常使用中該液體可與之相接觸的另一部件之間，在該基板台之一表面上存在一隙縫，該裝置包含一經組態以自該隙縫中提取液體、氣體或其兩者的元件。
根據本發明之再一態樣，提供一種微影裝置，其經組態以經由一液體將一所要圖案之一影像投影至一固持於一基板臺上之基板上，在該基板台與該基板之一外部邊緣之間或在該基板台與該基板臺上安裝之在正常使用中該液體可與之相接觸的另一部件之間，在該基板台之一表面上存在一隙縫，該裝置包含一經組態以供應液體至該隙縫的元件。
根據本發明之再一態樣，提供一種元件製造方法，其中經由一液體將一所要圖案之一影像投影至一固持於一基板臺上之基板上，在該基板台與該基板之一外部邊緣之間或在該基板台與該基板臺上安裝之在正常使用中該液體可與之相接觸的另一部件之間，在該基板台之一表面上存在一隙縫，該方法包含自該隙縫提取液體、氣體或其兩者且藉由一氣泡保持元件將該隙縫中之氣泡保持在該隙縫中。
简体摘要：本发明揭示一种浸没式微影设备，其具有借由防止气泡自隙缝中逃逸至光束路径及/或提取可在该隙缝中形成之气泡来防止或减少在基板台中的一或多个隙缝中形成气泡的适应性。【创作特点】使用浸没式微影设备制造之组件中的缺陷的主要原因可为浸液中的气泡，视气泡之尺寸及位置而定，此可导致剂量变化及影像失真。因此，高度需要防止气泡进入投影束之路径。气泡之主要来源可为(例如)围绕感应器单元、基准板及基板之基板台(镜面区块)之平坦上表面中的隙缝。由于该等隙缝穿过液体供应系统(液体限制结构)，因此其可不完全填充且所遗留的气体可形成气泡。彼等气泡可既而上升离开隙缝且进入投影系统与基板之间的空间。因此，举例而言，提供一或多个配置以防止基板台之上表面中之隙缝上所形成之气泡造成组件生产中的成像缺陷将系有利的。根据本发明之一态样，提供一种微影设备，其经组态以经由一液体将一所要图案之一影像投影至一固持于一基板台上之基板上，在该基板台与该基板之一外部边缘之间或在该基板台与该基板台上安装之在正常使用中该液体可与之相接触的另一部件之间，在该基板台之一表面上存在一隙缝，该隙缝具备一经组态以将可发生之任何气泡保持于该隙缝中的气泡保持组件。根据本发明之另一态样，提供一种微影设备，其经组态以经由一液体将一所要图案之一影像投影至一固持于一基板台上之基板上，在该基板台与该基板之一外部边缘之间或在该基板台与该基板台上安装之在正常使用中该液体可与之相接触的另一部件之间，在该基板台之一表面上存在一隙缝，该隙缝沿其长度分为复数个区段。根据本发明之再一态样，提供一种微影设备，其经组态以经由一液体将一所要图案之一影像投影至一固持于一基板台上之基板上，在该基板台与该基板之一外部边缘之间或在该基板台与该基板台上安装之在正常使用中该液体可与之相接触的另一部件之间，在该基板台之一表面上存在一隙缝，该设备包含一经组态以自该隙缝中提取液体、气体或其两者的组件。根据本发明之再一态样，提供一种微影设备，其经组态以经由一液体将一所要图案之一影像投影至一固持于一基板台上之基板上，在该基板台与该基板之一外部边缘之间或在该基板台与该基板台上安装之在正常使用中该液体可与之相接触的另一部件之间，在该基板台之一表面上存在一隙缝，该设备包含一经组态以供应液体至该隙缝的组件。根据本发明之再一态样，提供一种组件制造方法，其中经由一液体将一所要图案之一影像投影至一固持于一基板台上之基板上，在该基板台与该基板之一外部边缘之间或在该基板台与该基板台上安装之在正常使用中该液体可与之相接触的另一部件之间，在该基板台之一表面上存在一隙缝，该方法包含自该隙缝提取液体、气体或其两者且借由一气泡保持组件将该隙缝中之气泡保持在该隙缝中。

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