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3. 发明专利

TWI322336B 微影裝置與以此裝置製造元件之方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备与以此设备制造组件之方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI322336B
公开(公告)日：2010-03-21
申请号：TW095101302
申请日：2006-01-13
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：尼可拉斯羅德夫坎博 , 史喬德尼可拉斯藍伯特斯當德斯 , 克里斯汀亞歷山大胡根登 , 尼可拉斯潭凱特 , 弗利斯凡德木連
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341
摘要：一種包圍裝滿液體之一空間之密封部件，其在較低表面具有一凹口，該凹口朝向一相對低的壓力源及一相對較高的壓力源，且經由該凹口自該密封部件與基板之間抽出液體及/或空氣。【創作特點】需要提供一配置，以自基板之附近有效移除液體。
依據本發明之一態樣，提供一種微影投影裝置，其經配置以使用一投影系統將圖案自圖案化器件投影至基板上，且具有一液體供應系統，該液體供應系統經配置以供應浸沒液體至投影系統之最終元件與基板之間的空間中；該液體供應系統包含：一密封部件，用於在其較低表面與基板之間形成密封，進而使液體大體限制於該空間中，其中在較低表面中有一凹口，該凹口朝向用以抽出液體及/或氣體之第一壓力源，且該凹口亦朝向第二壓力源，較之第二壓力源，第一壓力源之壓力較低，使得存在自第二壓力源流至第一壓力源之氣流。
依據本發明之一態樣，提供一種器件製造方法，其包含使用投影系統將圖案化輻射光束投影至基板上，同時，將浸沒液體供應至投影系統之最終元件與基板之間的空間中，且進一步包含：提供一密封部件，以藉由自該密封部件與該基板之一較低表面之間經由該較低表面中之一凹口移除液體及/或水而將液體限制於空間中，其中，凹口朝向第一及第二壓力源，較之該第二壓力源，該第一壓力源之壓力較低。
简体摘要：一种包围装满液体之一空间之密封部件，其在较低表面具有一凹口，该凹口朝向一相对低的压力源及一相对较高的压力源，且经由该凹口自该密封部件与基板之间抽出液体及/或空气。【创作特点】需要提供一配置，以自基板之附近有效移除液体。依据本发明之一态样，提供一种微影投影设备，其经配置以使用一投影系统将图案自图案化器件投影至基板上，且具有一液体供应系统，该液体供应系统经配置以供应浸没液体至投影系统之最终组件与基板之间的空间中；该液体供应系统包含：一密封部件，用于在其较低表面与基板之间形成密封，进而使液体大体限制于该空间中，其中在较低表面中有一凹口，该凹口朝向用以抽出液体及/或气体之第一压力源，且该凹口亦朝向第二压力源，较之第二压力源，第一压力源之压力较低，使得存在自第二压力源流至第一压力源之气流。依据本发明之一态样，提供一种器件制造方法，其包含使用投影系统将图案化辐射光束投影至基板上，同时，将浸没液体供应至投影系统之最终组件与基板之间的空间中，且进一步包含：提供一密封部件，以借由自该密封部件与该基板之一较低表面之间经由该较低表面中之一凹口移除液体及/或水而将液体限制于空间中，其中，凹口朝向第一及第二压力源，较之该第二压力源，该第一压力源之压力较低。

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