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1. 发明专利

TWI374199B 在通過設備中將平坦物作無接觸式處理的方法與裝置 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BERUEHRUNGSLOSEN BEHANDELN VON EBENEM GUT IN DURCHLAUFANLAGEN 失效
简体标题：在通过设备中将平坦物作无接触式处理的方法与设备 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BERUEHRUNGSLOSEN BEHANDELN VON EBENEM GUT IN DURCHLAUFANLAGEN
公开(公告)号：TWI374199B
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：TW093133721
申请日：2004-11-05
申请人：霍爾慕勒機械工程公司
发明人：托馬斯寇西可斯奇
IPC分类号： C25D
CPC分类号： C25D7/0685 , C25D5/08 , C25D7/0621 , H05K1/0393 , H05K3/0085 , H05K3/0088 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509
摘要：一種在濕化學通過設備中將平坦物--特別是電路板與導體膜作無接觸式運送及處理的方法與裝置，該平坦物作水平運送。略傾斜的運送滾子將該平坦物邊緣拿住，且在運送時將該平坦物張緊。在薄導體膜的場合，要作無礙的運送，所需的張力可能很大，使得細導線技術所需的尺寸準確度(MaBhaltigkeit)會喪失。在適當的張力的場合，依此方法，要達到所需的運送安全性，係將電解質流(8)呈鏡像對稱方式沿運送方向(3)朝向該平坦物(1)。在具有盲孔的電路板的結合，另外將電解質(11)以鏡像對稱方式近乎垂直地朝向該平坦物(1)。為了進一步使貫通孔流通，故使該平坦物的兩面在電解質中依板努力原理產生靜壓差。
简体摘要：一种在湿化学通过设备中将平坦物--特别是电路板与导体膜作无接触式运送及处理的方法与设备，该平坦物作水平运送。略倾斜的运送滚子将该平坦物边缘拿住，且在运送时将该平坦物张紧。在薄导体膜的场合，要作无碍的运送，所需的张力可能很大，使得细导线技术所需的尺寸准确度(MaBhaltigkeit)会丧失。在适当的张力的场合，依此方法，要达到所需的运送安全性，系将电解质流(8)呈镜像对称方式沿运送方向(3)朝向该平坦物(1)。在具有盲孔的电路板的结合，另外将电解质(11)以镜像对称方式近乎垂直地朝向该平坦物(1)。为了进一步使贯通孔流通，故使该平坦物的两面在电解质中依板努力原理产生静压差。

2. 发明专利

TWI374200B 在通過設備中將平坦物作處理的方法與裝置 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BEHANDELN VON EBENEM GUT IN DURCHLAUFANLAGEN 失效
简体标题：在通过设备中将平坦物作处理的方法与设备 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BEHANDELN VON EBENEM GUT IN DURCHLAUFANLAGEN
公开(公告)号：TWI374200B
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：TW093133723
申请日：2004-11-05
申请人：霍爾慕勒機械工程公司
发明人：托馬斯寇西可斯奇
IPC分类号： C25D
CPC分类号： C25D7/0685 , C25D5/08 , C25D7/0621 , H05K3/0085 , H05K3/0088 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509
摘要：一種將電路板與導體膜運送與處理的方法與裝置，在濕化學式通過設備中利用運送滾子作水平運送。在先前技術中，在薄導體膜的場合，如果在同樣的設備中也要生產電路板，而不作改裝，則不再可能達到所需的運送安全性。依本方法/裝置，該所需之運送安全性達成之道，係使電解質流(8)呈鏡像對稱略沿運送方向(3)朝向該平坦物(1)。當電路板具有盲孔時，為了提高孔中的物質交換作用，故使附加的電解質流(11)呈鏡像對稱近乎垂直朝向該平坦物(1)。為了進一步使電解質經貫通孔流過，故使該平坦物的兩面在電解質中依柏努力原理產生靜壓差。特別是在電解質的通過設備的場合。係選用「管中管」結構方式以當作電解質流(8)(11)的噴灑管，俾在設備總長度保持一樣的情形下，達成較大的活性(有效)設備長度。
简体摘要：一种将电路板与导体膜运送与处理的方法与设备，在湿化学式通过设备中利用运送滚子作水平运送。在先前技术中，在薄导体膜的场合，如果在同样的设备中也要生产电路板，而不作改装，则不再可能达到所需的运送安全性。依本方法/设备，该所需之运送安全性达成之道，系使电解质流(8)呈镜像对称略沿运送方向(3)朝向该平坦物(1)。当电路板具有盲孔时，为了提高孔中的物质交换作用，故使附加的电解质流(11)呈镜像对称近乎垂直朝向该平坦物(1)。为了进一步使电解质经贯通孔流过，故使该平坦物的两面在电解质中依柏努力原理产生静压差。特别是在电解质的通过设备的场合。系选用“管中管”结构方式以当作电解质流(8)(11)的喷洒管，俾在设备总长度保持一样的情形下，达成较大的活性(有效)设备长度。

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