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2. 发明专利

TW201638301A 銅鉬金屬積層膜蝕刻液組成物、使用該組成物之蝕刻方法及延長該組成物的壽命之方法审中-公开
简体标题：铜钼金属积层膜蚀刻液组成物、使用该组成物之蚀刻方法及延长该组成物的寿命之方法
公开(公告)号：TW201638301A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104138073
申请日：2015-11-18
申请人：關東化學股份有限公司 , KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA
发明人：高橋秀樹 , TAKAHASHI, HIDEKI , 廖本男 , LIAO, PEN NAN , 李盈壕 , LI, YING HAO
IPC分类号： C09K13/00 , C23F1/18 , C23F1/26 , H01L21/306
CPC分类号： C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/46
摘要：本發明提供一種金屬積層膜的蝕刻液組成物，該金屬積層膜包含由銅所構成之層及由鉬所構成之層；並且提供一種使用該組成物之蝕刻方法及延長該組成物的壽命之方法；該蝕刻液組成物，可以將金屬積層膜進行總括地蝕刻，並可防止鉬層的基蝕，且能夠容易地配合剖面形狀的控制和剖面來調整組成濃度，並具有穩定性；該金屬積層膜是包含由銅或將銅設為主成分的合金所構成之層、及由鉬或將鉬設為主成分的合金所構成之層。本發明的蝕刻液組成物，是一種用以將金屬積層膜進行總括地蝕刻的蝕刻液組成物，該金屬積層膜包含由銅或將銅設為主成分的合金所構成之層、及由鉬或將鉬設為主成分的合金所構成之層；並且，該蝕刻液組成物含有過氧化氫、有機酸、胺化合物、唑類及過氧化氫穩定劑，但是不包含無機酸。
简体摘要：本发明提供一种金属积层膜的蚀刻液组成物，该金属积层膜包含由铜所构成之层及由钼所构成之层；并且提供一种使用该组成物之蚀刻方法及延长该组成物的寿命之方法；该蚀刻液组成物，可以将金属积层膜进行总括地蚀刻，并可防止钼层的基蚀，且能够容易地配合剖面形状的控制和剖面来调整组成浓度，并具有稳定性；该金属积层膜是包含由铜或将铜设为主成分的合金所构成之层、及由钼或将钼设为主成分的合金所构成之层。本发明的蚀刻液组成物，是一种用以将金属积层膜进行总括地蚀刻的蚀刻液组成物，该金属积层膜包含由铜或将铜设为主成分的合金所构成之层、及由钼或将钼设为主成分的合金所构成之层；并且，该蚀刻液组成物含有过氧化氢、有机酸、胺化合物、唑类及过氧化氢稳定剂，但是不包含无机酸。

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