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1. 发明专利

TWI307662B 熱轉印遮片材料及其使用方法 HEAT TRANSFER MASKING SHEET MATERIALS AND METHODS OF USE THEREOF 失效
简体标题：热转印遮片材料及其使用方法 HEAT TRANSFER MASKING SHEET MATERIALS AND METHODS OF USE THEREOF
公开(公告)号：TWI307662B
公开(公告)日：2009-03-21
申请号：TW094117977
申请日：2005-06-01
申请人：里拿紙業有限公司 NEENAH PAPER, INC.
发明人：法蘭西斯‧J‧喀隆澤 FRANCIS JOSEPH KRONZER
IPC分类号： B41M
CPC分类号： B41M3/12
摘要：在一具體實施例中,將一圖樣應用到受印物的方法包括的步驟有:以一圖樣在可印製的表面上構成圖樣,來形成含有可印製區域和不可印製區域的圖樣表面;將一包含有外遮蔽層的遮蔽片定位鄰接在圖樣表面,使得外遮蔽層與圖樣表面接觸;轉印外側遮蔽層的對應部份到圖樣表面的受印區域,在遮蔽片上留下負片圖樣遮膜;轉印負片圖樣遮膜到熱轉印紙的轉印層,來形成一含有對應負片圖樣遮膜部份及非遮蔽部分的熱轉印紙;並且將對應於受印區域的非遮蔽部分轉印到受印物。其他製作和使用負片圖樣遮膜的方法也有所揭露。
简体摘要：在一具体实施例中,将一图样应用到受印物的方法包括的步骤有:以一图样在可印制的表面上构成图样,来形成含有可印制区域和不可印制区域的图样表面;将一包含有外屏蔽层的屏蔽片定位邻接在图样表面,使得外屏蔽层与图样表面接触;转印外侧屏蔽层的对应部份到图样表面的受印区域,在屏蔽片上留下负片图样遮膜;转印负片图样遮膜到热转印纸的转印层,来形成一含有对应负片图样遮膜部份及非屏蔽部分的热转印纸;并且将对应于受印区域的非屏蔽部分转印到受印物。其他制作和使用负片图样遮膜的方法也有所揭露。

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