专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201220355A 製造微結構的方法 METHOD FOR MAKING MICROSTRUCTURES 审中-公开
简体标题：制造微结构的方法 METHOD FOR MAKING MICROSTRUCTURES
公开(公告)号：TW201220355A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：TW099138132
申请日：2010-11-05
申请人：遠東新世紀股份有限公司
发明人：邱大任 , 洪維澤 , 林士越 , 陳秋芳 , 陳姿穎
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/203 , G03F7/26
摘要：本發明主要提供一種製造微結構的方法。該方法包含:在一基材上形成一光固化材料層;提供一圖案化遮蔽層;使一第一光源通過該圖案化遮蔽層,用以圖案化地局部曝光該光固化材料層,使得該光固化材料層之曝光區產生固化反應,藉此使得該光固化材料層之未曝光區中的可光固化組成物朝該曝光區流動,進而使得該光固化材料層形成一具有一凸狀固化區與一凹狀未固化區的圖案化微結構;以及進一步固化該微結構,使該光固化材料層中之凹狀未固化區中的可光固化組成物固化,以使該凹狀未固化區形成凹狀固化區。
简体摘要：本发明主要提供一种制造微结构的方法。该方法包含:在一基材上形成一光固化材料层;提供一图案化屏蔽层;使一第一光源通过该图案化屏蔽层,用以图案化地局部曝光该光固化材料层,使得该光固化材料层之曝光区产生固化反应,借此使得该光固化材料层之未曝光区中的可光固化组成物朝该曝光区流动,进而使得该光固化材料层形成一具有一凸状固化区与一凹状未固化区的图案化微结构;以及进一步固化该微结构,使该光固化材料层中之凹状未固化区中的可光固化组成物固化,以使该凹状未固化区形成凹状固化区。

2. 发明专利

TWI447447B 製造位相差板的方法有权
简体标题：制造位相差板的方法
公开(公告)号：TWI447447B
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW101105812
申请日：2012-02-22
申请人：遠東新世紀股份有限公司 , FAR EASTERN NEW CENTURY CORPORATION
发明人：邱大任 , CHIOU, DA REN , 洪維澤 , HUNG, WEI CHE , 陳秋芳 , CHEN, CHIU FANG , 吳昱寯 , WU, YU JUNE
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/13363 , G02F1/1333

3. 发明专利

TWI425530B 具有高光穿透度之透明導電膜及其製備方法有权
简体标题：具有高光穿透度之透明导电膜及其制备方法
公开(公告)号：TWI425530B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW099133392
申请日：2010-09-30
申请人：遠東新世紀股份有限公司 , FAR EASTERN NEW CENTURY CORPORATION
发明人：邱大任 , CHIOU, DA REN , 洪維澤 , HUNG, WEI CHE , 林士越 , LIN, SHIH YUEH , 陳秋芳 , CHEN, CHIU FANG , 陳姿穎 , CHEN, TZU YING
IPC分类号： H01B5/14 , H01B13/00
CPC分类号： B82Y30/00 , G03F7/0048 , G03F7/027 , G03F7/2014 , G03F7/26

4. 发明专利

TWI423307B 製造微結構的方法有权
简体标题：制造微结构的方法
公开(公告)号：TWI423307B
公开(公告)日：2014-01-11
申请号：TW099138132
申请日：2010-11-05
申请人：遠東新世紀股份有限公司 , FAR EASTERN NEW CENTURY CORPORATION
发明人：邱大任 , CHIOU, DA REN , 洪維澤 , HUNG, WEI CHE , 林士越 , LIN, SHOH YUE , 陳秋芳 , CHEN, CHIU FANG , 陳姿穎 , CHEN, TZU YING
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/203 , G03F7/26

5. 发明专利

TW201335637A 製造位相差板的方法审中-公开
简体标题：制造位相差板的方法
公开(公告)号：TW201335637A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW101105812
申请日：2012-02-22
申请人：遠東新世紀股份有限公司 , FAR EASTERN NEW CENTURY CORPORATION
发明人：邱大任 , CHIOU, DA REN , 洪維澤 , HUNG, WEI CHE , 陳秋芳 , CHEN, CHIU FANG , 吳昱寯 , WU, YU JUNE
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/13363 , G02F1/1333
摘要：本發明提供一種製造位相差板的方法，包含：在一基材上形成一未固化之光固化材料層；提供一圖案化遮蔽層，以局部地遮蔽該未固化之光固化材料層表面；使一第一光源通過該圖案化遮蔽層，藉以形成一部分區域固化之光固化材料層；移除該圖案化遮蔽層；以一第二光源照射，藉此形成一具有微結構表面之結構化的光固化材料層；在該結構化的光固化材料層的微結構表面上形成一配向層；在該配向層上形成一液晶層，該液晶層具有至少一個厚層區與至少一個薄層區。
简体摘要：本发明提供一种制造位相差板的方法，包含：在一基材上形成一未固化之光固化材料层；提供一图案化屏蔽层，以局部地屏蔽该未固化之光固化材料层表面；使一第一光源通过该图案化屏蔽层，借以形成一部分区域固化之光固化材料层；移除该图案化屏蔽层；以一第二光源照射，借此形成一具有微结构表面之结构化的光固化材料层；在该结构化的光固化材料层的微结构表面上形成一配向层；在该配向层上形成一液晶层，该液晶层具有至少一个厚层区与至少一个薄层区。

6. 发明专利

TW201317687A 一種製備複合型位相差板之方法审中-公开
简体标题：一种制备复合型位相差板之方法
公开(公告)号：TW201317687A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW100139175
申请日：2011-10-27
申请人：遠東新世紀股份有限公司 , FAR EASTERN NEW CENTURY CORPORATION
发明人：邱大任 , CHIOU, DAREN , 陳姿穎 , CHEN, TZUYING , 洪維澤 , HUNG, WEICHE , 徐得玲 , HSU, DELING , 陳秋芳 , CHEN, CHOUFANG
IPC分类号： G02F1/1337 , G02F1/135
CPC分类号： B29D11/0074 , B32B33/00 , B32B2307/40 , G02B5/3016 , G02F1/133788
摘要：一種複合型位相差板之製備方法，包含，提供一第一支撐板，並於其表面上，形成一光配向膜，再於該光配向膜之第一表面塗佈一第一液晶塗佈材料，使其固化形成第一位相差板。將該第一位相差板之第一表面黏貼於一第二支撐板之上，接著使該光配向膜與該第一支撐板剝離，以使該光配向膜之第二表面曝露。最後，於該光配向膜之第二表面上塗佈一第二液晶塗佈材料，使其固化以形成第二位相差板。藉此，僅需使用單一光配向膜，即可製得兩個位相差板，故可有效減少配向膜的使用量，因此具有較低廉之製程成本，且可製得薄型化之複合型位相差板。
简体摘要：一种复合型位相差板之制备方法，包含，提供一第一支撑板，并于其表面上，形成一光配向膜，再于该光配向膜之第一表面涂布一第一液晶涂布材料，使其固化形成第一位相差板。将该第一位相差板之第一表面黏贴于一第二支撑板之上，接着使该光配向膜与该第一支撑板剥离，以使该光配向膜之第二表面曝露。最后，于该光配向膜之第二表面上涂布一第二液晶涂布材料，使其固化以形成第二位相差板。借此，仅需使用单一光配向膜，即可制得两个位相差板，故可有效减少配向膜的使用量，因此具有较低廉之制程成本，且可制得薄型化之复合型位相差板。

7. 发明专利

TWI437332B 一種製備複合型位相差板之方法有权
简体标题：一种制备复合型位相差板之方法
公开(公告)号：TWI437332B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW100139175
申请日：2011-10-27
申请人：遠東新世紀股份有限公司 , FAR EASTERN NEW CENTURY CORPORATION
发明人：邱大任 , CHIOU, DAREN , 陳姿穎 , CHEN, TZUYING , 洪維澤 , HUNG, WEICHE , 徐得玲 , HSU, DELING , 陳秋芳 , CHEN, CHOUFANG
IPC分类号： G02F1/1337 , G02F1/135
CPC分类号： B29D11/0074 , B32B33/00 , B32B2307/40 , G02B5/3016 , G02F1/133788

8. 发明专利

TW201326989A 位相差膜的製法审中-公开
简体标题：位相差膜的制法
公开(公告)号：TW201326989A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW100147715
申请日：2011-12-21
申请人：遠東新世紀股份有限公司 , FAR EASTERN NEW CENTURY CORPORATION
发明人：張建成 , CHANG, CHIEN CHENG , 陳秋芳 , CHEN, CHIU FANG , 邱大任 , CHIOU, DA REN , 洪維澤 , HUNG, WEI CHE
IPC分类号： G02F1/13363 , G02F1/1337 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3083 , G02B5/3016
摘要：本發明提供一種位相差膜的製法，其包含(a)在一基材上形成一光配向層，該光配向層具有一遠離該基材之配向面，該配向面具有欲配向的複數個第一區與複數個第二區；(b)將該光配向層曝露於一具有第一偏極方向的第一線性偏極紫外光下，使該光配向層具有一第一配向；(c)在一圖樣化光罩的遮蔽下，將該光配向層之該等第二區曝露於一具有第二偏極方向的第二線性偏極紫外光下，使該光配向層之該等第二區轉變為具有一第二配向，藉此，得到一具有二種配向之光配向層；及(d)將一液晶塗佈於該具有二種配向之光配向層上，再使該液晶固化。
简体摘要：本发明提供一种位相差膜的制法，其包含(a)在一基材上形成一光配向层，该光配向层具有一远离该基材之配向面，该配向面具有欲配向的复数个第一区与复数个第二区；(b)将该光配向层曝露于一具有第一偏极方向的第一线性偏极紫外光下，使该光配向层具有一第一配向；(c)在一图样化光罩的屏蔽下，将该光配向层之该等第二区曝露于一具有第二偏极方向的第二线性偏极紫外光下，使该光配向层之该等第二区转变为具有一第二配向，借此，得到一具有二种配向之光配向层；及(d)将一液晶涂布于该具有二种配向之光配向层上，再使该液晶固化。

9. 发明专利

TW201214470A 具有高光穿透度之透明導電膜及其製備方法 TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM HAVING HIGH OPTICAL TRANSMITTANCE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME 审中-公开
简体标题：具有高光穿透度之透明导电膜及其制备方法 TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM HAVING HIGH OPTICAL TRANSMITTANCE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
公开(公告)号：TW201214470A
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW099133392
申请日：2010-09-30
申请人：遠東新世紀股份有限公司
发明人：邱大任 , 洪維澤 , 林士越 , 陳秋芳 , 陳姿穎
IPC分类号： H01B
CPC分类号： B82Y30/00 , G03F7/0048 , G03F7/027 , G03F7/2014 , G03F7/26
摘要：本發明係關於一種透明導電膜，其包含厚度具有差異的導電層，可使透明導電膜在維持導電性不變的情況下提升其光穿透度。本發明亦關於一種製備上述透明導電膜之方法。
简体摘要：本发明系关于一种透明导电膜，其包含厚度具有差异的导电层，可使透明导电膜在维持导电性不变的情况下提升其光穿透度。本发明亦关于一种制备上述透明导电膜之方法。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式