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1. 发明专利

TW201823666A 線性運動平台之量測裝置审中-公开
简体标题：线性运动平台之量测设备
公开(公告)号：TW201823666A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105142382
申请日：2016-12-21
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH AND DEVELOPMENT CENTRE
发明人：蔡修安 , TSAI, HSIU-AN , 陳碩卿 , CHEN, SHUO-CHING , 簡國諭 , CHIEN, KUO-YU
IPC分类号： G01B9/02 , G02B5/18
摘要：一種線性運動平台之量測裝置，該線性運動平台包含一個可移動的第一乘載件，及一個可移動的第二乘載件。該量測裝置包含一個設置於該第一乘載件的二維光柵，及一個設置於該第二乘載件的量測單元。該量測單元包括一個光源、一個二維感測器及一個處理模組。該光源用以發射出一個入射光，當該入射光照射至該二維光柵時將轉變為一個反射光。該二維感測器用以接收該反射光，並轉換為一個反射訊號，該處理模組接收該反射訊號就可計算出該線性運動平台的多個動態資訊與誤差。
简体摘要：一种线性运动平台之量测设备，该线性运动平台包含一个可移动的第一乘载件，及一个可移动的第二乘载件。该量测设备包含一个设置于该第一乘载件的二维光栅，及一个设置于该第二乘载件的量测单元。该量测单元包括一个光源、一个二维传感器及一个处理模块。该光源用以发射出一个入射光，当该入射光照射至该二维光栅时将转变为一个反射光。该二维传感器用以接收该反射光，并转换为一个反射信号，该处理模块接收该反射信号就可计算出该线性运动平台的多个动态信息与误差。

2. 发明专利

TWI556899B 微孔開設裝置有权
简体标题：微孔开设设备
公开(公告)号：TWI556899B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW104141853
申请日：2015-12-14
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH AND DEVELOPMENT CENTRE
发明人：呂育廷 , LU, YU-TING , 葉昭永 , YEH, CHAO-YUNG , 簡國諭 , CHIEN, KUO-YU
IPC分类号： B23K26/382 , F16C32/06

3. 发明专利

TWI620917B 線性運動平台之量測裝置有权
简体标题：线性运动平台之量测设备
公开(公告)号：TWI620917B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW105142382
申请日：2016-12-21
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH AND DEVELOPMENT CENTRE
发明人：蔡修安 , TSAI, HSIU-AN , 陳碩卿 , CHEN, SHUO-CHING , 簡國諭 , CHIEN, KUO-YU
IPC分类号： G01B9/02 , G02B5/18

4. 发明专利

TW201720567A 微孔開設裝置审中-公开
简体标题：微孔开设设备
公开(公告)号：TW201720567A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW104141853
申请日：2015-12-14
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH AND DEVELOPMENT CENTRE
发明人：呂育廷 , LU, YU-TING , 葉昭永 , YEH, CHAO-YUNG , 簡國諭 , CHIEN, KUO-YU
IPC分类号： B23K26/382 , F16C32/06
摘要：一種微孔開設裝置，適用於一待加工件，該待加工件具有一環形內壁。該微孔開設裝置包含一用於固定並帶動該待加工件旋轉的治具單元，及一雷射單元。該雷射單元包括一具有高響應壓電性的偏折件，及一對應該偏折件設置的雷射源。該雷射源是以脈衝方式輸出光束，該偏折件是配合該雷射源的脈衝頻率產生形變，以導引該雷射源射出的光束，以在該環形內壁上開設出孔隙。本發明透過該偏折件導引該雷射源以開設孔隙，可不需使用刀具而不受刀具配置之限制。
简体摘要：一种微孔开设设备，适用于一待加工件，该待加工件具有一环形内壁。该微孔开设设备包含一用于固定并带动该待加工件旋转的治具单元，及一激光单元。该激光单元包括一具有高响应压电性的偏折件，及一对应该偏折件设置的激光源。该激光源是以脉冲方式输出光束，该偏折件是配合该激光源的脉冲频率产生形变，以导引该激光源射出的光束，以在该环形内壁上开设出孔隙。本发明透过该偏折件导引该激光源以开设孔隙，可不需使用刀具而不受刀具配置之限制。

5. 发明专利

TWI690663B 非接觸式流體軸承及其製造方法有权
简体标题：非接触式流体轴承及其制造方法
公开(公告)号：TWI690663B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW107139970
申请日：2018-11-09
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：簡國諭 , CHIEN, KUO-YU
IPC分类号： F16C32/06

6. 发明专利

TW201721032A 氣靜壓平台及其間隙調整方法审中-公开
简体标题：气静压平台及其间隙调整方法
公开(公告)号：TW201721032A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW104140871
申请日：2015-12-04
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：莊殷 , CHUANG, YIN , 簡國諭 , CHIEN, KUO-YU , 陳彥廷 , CHEN, YEN-TING
IPC分类号： F16C32/06
摘要：一種氣靜壓平台及其間隙調整方法，其中該氣靜壓平台包含一載台、一軌道及一電磁鐵，該載台設置於該軌道上，該載台的一氣靜壓軸承用以輸送一氣體吹向該軌道，以使該載台氣浮於該軌道上方，且使該載台的一載體與該軌道之間具有一縱向間距，該電磁鐵設置於該載體或該軌道的其中之一，藉由改變該電磁鐵的磁場強度，以縮小該載體與該軌道之間的該縱向間距，以達到提高該載台在該軌道上移動時的穩定性的目的。
简体摘要：一种气静压平台及其间隙调整方法，其中该气静压平台包含一载台、一轨道及一电磁铁，该载台设置于该轨道上，该载台的一气静压轴承用以输送一气体吹向该轨道，以使该载台气浮于该轨道上方，且使该载台的一载体与该轨道之间具有一纵向间距，该电磁铁设置于该载体或该轨道的其中之一，借由改变该电磁铁的磁场强度，以缩小该载体与该轨道之间的该纵向间距，以达到提高该载台在该轨道上移动时的稳定性的目的。

7. 发明专利

TWI599728B 多孔質氣靜壓載體及其多孔質本體有权
简体标题：多孔质气静压载体及其多孔质本体
公开(公告)号：TWI599728B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW104141211
申请日：2015-12-08
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：王祥賓 , WANG, HSIANG-PIN , 簡國諭 , CHIEN, KUO-YU , 許富銓 , HSU, FU-CHUAN
IPC分类号： F16C32/06 , B22F7/00
CPC分类号： B32B3/26 , B23K15/0086 , B23K26/342 , B32B1/08 , B32B3/266 , B32B15/08 , B32B15/092 , B32B15/18 , B32B15/20 , B32B27/06 , B32B27/281 , B32B27/38 , B32B2250/02 , B32B2307/724 , B32B2307/732 , B32B2457/00 , B32B2597/00 , B33Y10/00 , B33Y80/00

8. 发明专利

TWI595167B 多孔質氣靜壓軸承的製造方法有权
简体标题：多孔质气静压轴承的制造方法
公开(公告)号：TWI595167B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW104138716
申请日：2015-11-23
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：簡國諭 , CHIEN, KUO-YU , 呂育廷 , LU, YU-TING , 陳彥廷 , CHEN, YEN-TING
IPC分类号： F16C32/06

9. 发明专利

TW202018202A 非接觸式流體軸承及其製造方法审中-公开
简体标题：非接触式流体轴承及其制造方法
公开(公告)号：TW202018202A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW107139970
申请日：2018-11-09
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：簡國諭 , CHIEN, KUO-YU
IPC分类号： F16C32/06
摘要：一種非接觸式流體軸承及其製造方法，其將一流量控制件設置於一載體的一腔室，並使該腔室形成有一壓力室，該流量控制件的一密封層位於該流量控制件的一多孔質層與該壓力室之間，該密封層具有複數個微通孔，該微通孔連通該壓力室及該多孔質層的複數個孔隙，該殼體並顯露出該多孔質層的一表面，由於該密封層位於該壓力室中，且該表面顯露於該殼體，因此可對該多孔質層的該表面進行加工，以使該非接觸式流體軸承的厚度及平整度符合預定的標準值，且可避免該密封層脫離該流體軸承。
简体摘要：一种非接触式流体轴承及其制造方法，其将一流量控制件设置于一载体的一腔室，并使该腔室形成有一压力室，该流量控制件的一密封层位于该流量控制件的一多孔质层与该压力室之间，该密封层具有复数个微通孔，该微通孔连通该压力室及该多孔质层的复数个孔隙，该壳体并显露出该多孔质层的一表面，由于该密封层位于该压力室中，且该表面显露于该壳体，因此可对该多孔质层的该表面进行加工，以使该非接触式流体轴承的厚度及平整度符合预定的标准值，且可避免该密封层脱离该流体轴承。

10. 发明专利

TW201721033A 多孔質氣靜壓載體及其多孔質本體审中-公开
简体标题：多孔质气静压载体及其多孔质本体
公开(公告)号：TW201721033A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW104141211
申请日：2015-12-08
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：王祥賓 , WANG, HSIANG-PIN , 簡國諭 , CHIEN, KUO-YU , 許富銓 , HSU, FU-CHUAN
IPC分类号： F16C32/06 , B29C67/04 , B33Y80/00
CPC分类号： B32B3/26 , B23K15/0086 , B23K26/342 , B32B1/08 , B32B3/266 , B32B15/08 , B32B15/092 , B32B15/18 , B32B15/20 , B32B27/06 , B32B27/281 , B32B27/38 , B32B2250/02 , B32B2307/724 , B32B2307/732 , B32B2457/00 , B32B2597/00 , B33Y10/00 , B33Y80/00
摘要：一種多孔質氣靜壓載體，包含有一多孔質本體及一封孔層，該多孔質本體以一積層製造方法製造形成，該多孔質本體具有一第一通氣部及一第二通氣部，該第一通氣部的一第一孔隙率大於該第二通氣部的一第二孔隙率，藉由該積層製造方法製造控制該第一通氣部與該第二通氣部的孔隙的孔徑尺寸及孔隙率，以使通過該多孔質氣靜壓載體的流體壓力均勻。
简体摘要：一种多孔质气静压载体，包含有一多孔质本体及一封孔层，该多孔质本体以一积层制造方法制造形成，该多孔质本体具有一第一通气部及一第二通气部，该第一通气部的一第一孔隙率大于该第二通气部的一第二孔隙率，借由该积层制造方法制造控制该第一通气部与该第二通气部的孔隙的孔径尺寸及孔隙率，以使通过该多孔质气静压载体的流体压力均匀。

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