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1. 发明专利

TWI553145B 化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置有权
简体标题：化学气相沉积镀膜连续镀制设备
公开(公告)号：TWI553145B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW104137699
申请日：2015-11-16
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCHAND DEVELOPMENT CENTRE
发明人：卓廷彬 , CHO, TING PIN , 郭文正 , KUO, WEN CHENG , 許恭銘 , HSU, KUNG MING , 楊景富 , YANG, CHING FU , 謝志男 , SHIEH, JYH NAN
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/458 , C23C16/54

2. 发明专利

TWI534292B 高均勻化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置有权
简体标题：高均匀化学气相沉积镀膜连续镀制设备
公开(公告)号：TWI534292B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW104110026
申请日：2015-03-27
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH AND DEVELOPMENT CENTRE
发明人：卓廷彬 , CHO, TING PIN , 郭文正 , KUO, WEN CHENG , 許恭銘 , HSU, KUNG MING , 楊濟華 , YANG, JI HUA , 伏和中 , FU, HO CHUNG
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/52

3. 发明专利

TWI495812B 高靈敏真空動力引入裝置及真空製程設備有权
简体标题：高灵敏真空动力引入设备及真空制程设备
公开(公告)号：TWI495812B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW101150886
申请日：2012-12-28
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：謝志男 , SHIEH, JYH NAN , 許恭銘 , HSU, KUNY MING , 張凱傑 , CHANG, KAI JEIH
IPC分类号： F16J15/16 , F16C3/00

4. 发明专利

TW201314085A 真空逆止閥結構审中-公开
简体标题：真空逆止阀结构
公开(公告)号：TW201314085A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW100135575
申请日：2011-09-30
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：謝志男 , 許恭銘 , 張凱傑
IPC分类号： F16K15/03 , F16K51/02
摘要：一種真空逆止閥結構，其主要包含有閥體及閥門組，該閥體上係設有供連通至真空腔體之第一通孔，以及供連通至真空幫浦之第二通孔，且於內部設有與該第一通孔及第二通孔相通之容室，以供裝設閥門組，該閥門組係於容室內以一樞軸樞設閥門，該閥門於該樞軸之一側設有可蓋合封閉第一通孔之閥片，以及於該樞軸之另側設有與該閥片相互連動樞轉之配重塊，並使該配重塊重量相對樞軸產生的力矩大於或等於閥片重量相對樞軸產生的力矩；藉此，於閥門組之閥片連接配重塊，以大幅提昇閥片啟閉之靈敏度，並於真空幫浦停止抽氣時，可立即蓋合封閉閥體之第一通孔，以阻斷氣體逆流，進而達到確保真空腔體真空度之實用效益。
简体摘要：一种真空逆止阀结构，其主要包含有阀体及阀门组，该阀体上系设有供连通至真空腔体之第一通孔，以及供连通至真空帮浦之第二通孔，且于内部设有与该第一通孔及第二通孔相通之容室，以供装设阀门组，该阀门组系于容室内以一枢轴枢设阀门，该阀门于该枢轴之一侧设有可盖合封闭第一通孔之阀片，以及于该枢轴之另侧设有与该阀片相互连动枢转之配重块，并使该配重块重量相对枢轴产生的力矩大于或等于阀片重量相对枢轴产生的力矩；借此，于阀门组之阀片连接配重块，以大幅提升阀片启闭之灵敏度，并于真空帮浦停止抽气时，可立即盖合封闭阀体之第一通孔，以阻断气体逆流，进而达到确保真空腔体真空度之实用效益。

5. 发明专利

TW202018215A 機械引入裝置审中-公开
简体标题：机械引入设备
公开(公告)号：TW202018215A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW107138935
申请日：2018-11-02
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：謝志男 , SHIEH, JYH-NAN , 楊景富 , YANG, CHING-FU , 許恭銘 , HSU, KUNG MING , 華振宇 , HUA, CHEN-YU , 何玫蓉 , HO, MEI-JUNG
IPC分类号： F16J15/16
摘要：本發明提出一種機械引入裝置。機械引入裝置包括固定座、中空轉軸、中空管、轉接法蘭、第一O型環以及環形壓板。固定座設置於真空腔體上。中空轉軸設置於固定座當中。中空管設置於中空轉軸中，並且穿設於真空腔體。轉接法蘭套設於中空管的真空側，並且貼設於中空轉軸。轉接法蘭與中空管之間具有環形槽孔。第一O型環套設於中空管的真空側。環形壓板套設於中空管的真空側。第一O型環設置於環形壓板與轉接法蘭之間。環形壓板與轉接法蘭貼合，以壓設第一O型環的至少一部分於環形槽孔之中，以密封中空轉軸與中空管之間的接縫處。
简体摘要：本发明提出一种机械引入设备。机械引入设备包括固定座、中空转轴、中空管、转接法兰、第一O型环以及环形压板。固定座设置于真空腔体上。中空转轴设置于固定座当中。中空管设置于中空转轴中，并且穿设于真空腔体。转接法兰套设于中空管的真空侧，并且贴设于中空转轴。转接法兰与中空管之间具有环形槽孔。第一O型环套设于中空管的真空侧。环形压板套设于中空管的真空侧。第一O型环设置于环形压板与转接法兰之间。环形压板与转接法兰贴合，以压设第一O型环的至少一部分于环形槽孔之中，以密封中空转轴与中空管之间的接缝处。

6. 发明专利

TWI636245B 金屬腐蝕監測系統及方法有权
简体标题：金属腐蚀监测系统及方法
公开(公告)号：TWI636245B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW106140362
申请日：2017-11-21
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：呂金原 , LU, CHIN YUAN , 謝志男 , SHIEH, JYH NAN , 張凱傑 , CHANG, KAI JEIH , 楊景富 , YANG, CHING FU , 許恭銘 , HSU, KUNY MING
IPC分类号： G01N17/00 , G01N33/20

7. 发明专利

TW201718924A 化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置审中-公开
简体标题：化学气相沉积镀膜连续镀制设备
公开(公告)号：TW201718924A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW104137699
申请日：2015-11-16
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCHAND DEVELOPMENT CENTRE
发明人：卓廷彬 , CHO, TING PIN , 郭文正 , KUO, WEN CHENG , 許恭銘 , HSU, KUNG MING , 楊景富 , YANG, CHING FU , 謝志男 , SHIEH, JYH NAN
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/458 , C23C16/54
摘要：一種化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，包含一用以輸送一待鍍物沿一預定路徑移動的輸送單元、一沉積單元，及一防鍍單元。該沉積單元包括一位於該預定路徑的沉積艙。該防鍍單元包括一與該輸送單元對應設置且維持在一防鍍溫度的防鍍加熱機構。利用維持在該防鍍溫度的防鍍加熱機構，使得該沉積艙在進行化學氣相沉積時，不會同時沉積於該輸送單元上，以減少清洗或更換該輸送單元的次數，進而以節省設備成本並提升產能。
简体摘要：一种化学气相沉积镀膜连续镀制设备，包含一用以输送一待镀物沿一预定路径移动的输送单元、一沉积单元，及一防镀单元。该沉积单元包括一位于该预定路径的沉积舱。该防镀单元包括一与该输送单元对应设置且维持在一防镀温度的防镀加热机构。利用维持在该防镀温度的防镀加热机构，使得该沉积舱在进行化学气相沉积时，不会同时沉积于该输送单元上，以减少清洗或更换该输送单元的次数，进而以节省设备成本并提升产能。

8. 发明专利

TWI495748B 鍍膜設備有权
简体标题：镀膜设备
公开(公告)号：TWI495748B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW102143481
申请日：2013-11-28
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：謝志男 , SHIEH, JYH NAN , 許恭銘 , HSU, KUNG MING , 張凱傑 , CHANG, KAI JEIH , 何玫蓉 , HO, MEI JUNG
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/56

9. 发明专利

TW201520355A 鍍膜設備及輸送模組审中-公开
简体标题：镀膜设备及输送模块
公开(公告)号：TW201520355A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW102143503
申请日：2013-11-28
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：謝志男 , SHIEH, JYH NAN , 許恭銘 , HSU, KUNG MING , 張凱傑 , CHANG, KAI JEIH , 何玫蓉 , HO, MEI JUNG
IPC分类号： C23C14/34
摘要：一種鍍膜設備，包括一輸送模組及一靶源。輸送模組包括一基座、多個第一輸送件及多個第二輸送件。各第一輸送件固定於基座且具有一第一斜面。各第二輸送件可動地配置於基座且具有一第二斜面。第二斜面分別對應於第一斜面。當第二輸送件位於第一位置時，工件適於被承載於第一斜面的其中任一。當第二輸送件從第一位置移動至第二位置時，工件被第二斜面推離第一斜面並沿第二斜面往相鄰的另一第一斜面滾動。當第二輸送件從第二位置移動至第一位置時，工件沿所述另一第一斜面滾動並被承載於所述另一第一斜面。靶源適於對工件進行鍍膜。
简体摘要：一种镀膜设备，包括一输送模块及一靶源。输送模块包括一基座、多个第一输送件及多个第二输送件。各第一输送件固定于基座且具有一第一斜面。各第二输送件可动地配置于基座且具有一第二斜面。第二斜面分别对应于第一斜面。当第二输送件位于第一位置时，工件适于被承载于第一斜面的其中任一。当第二输送件从第一位置移动至第二位置时，工件被第二斜面推离第一斜面并沿第二斜面往相邻的另一第一斜面滚动。当第二输送件从第二位置移动至第一位置时，工件沿所述另一第一斜面滚动并被承载于所述另一第一斜面。靶源适于对工件进行镀膜。

10. 发明专利

TW201425781A 高靈敏真空動力引入裝置及真空製程設備审中-公开
简体标题：高灵敏真空动力引入设备及真空制程设备
公开(公告)号：TW201425781A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW101150886
申请日：2012-12-28
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：謝志男 , SHIEH, JYH NAN , 許恭銘 , HSU, KUNY MING , 張凱傑 , CHANG, KAI JEIH
IPC分类号： F16J15/16 , F16C3/00
摘要：一種高靈敏真空動力引入裝置，包括有一殼體，係設置在真空製程設備內，在該殼體內設置有外軸，該外軸可相對該殼體進行旋轉，另在該外軸內設置有傳動軸，該傳動軸可相對於外軸進行旋轉，並在該殼體與外軸之間裝置有外軸密封件，該外軸與傳動軸之間則裝置有傳動軸密封間，以維持各裝置之間的氣密與真空度。藉由前述設置，該傳動軸可在真空環境下，減少構件之間的摩擦力，達到以小動力即可完成真空機械動力引入之目的。
简体摘要：一种高灵敏真空动力引入设备，包括有一壳体，系设置在真空制程设备内，在该壳体内设置有外轴，该外轴可相对该壳体进行旋转，另在该外轴内设置有传动轴，该传动轴可相对于外轴进行旋转，并在该壳体与外轴之间设备有外轴密封件，该外轴与传动轴之间则设备有传动轴密封间，以维持各设备之间的气密与真空度。借由前述设置，该传动轴可在真空环境下，减少构件之间的摩擦力，达到以小动力即可完成真空机械动力引入之目的。

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