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1. 发明专利

TWI630769B 高功率雷射系統有权
简体标题：高功率激光系统
公开(公告)号：TWI630769B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW106138772
申请日：2017-11-09
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林士廷 , LIN, SHIH TING , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI , 林盈佐 , LIN, YING TSO , 李姿儀 , LI, ZIH YI
IPC分类号： H01S3/067 , H01S3/091 , H01S3/1055 , G02B6/02

2. 发明专利

TW202021707A 雷射刻印製程审中-公开
简体标题：激光刻印制程
公开(公告)号：TW202021707A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW107144645
申请日：2018-12-11
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：李姿儀 , LI, ZIH-YI , 楊映暉 , YANG, YING-HUI , 曹宏熙 , TSAU, HONG-XI , 林盈佐 , LIN, YING-TSO , 陳智禮 , CHEN, CHIH-LI
IPC分类号： B23K26/32 , B23K26/50
摘要：一種雷射刻印製程，其步驟包括如下：提供雷射光源，且此雷射光源適於發出雷射光束。提供目標層，目標層具有彼此相對的第一表面以及第二表面，其中目標層對於雷射光束的吸收率小於等於1%。設置犧牲層於目標層上，且犧牲層與第一表面與第二表面的其中之一者接觸，其中犧牲層對於雷射光束的吸收率大於等於5%，且犧牲層的汽化溫度大於目標層的熔點溫度。開啟雷射光源，發出雷射光束並使雷射光束沿著一行進路徑照射犧牲層，以將在行進路徑上的犧牲層汽化而將一圖案刻印至目標層上，在照射的過程中雷射光束的平均功率大於15瓦特。
简体摘要：一种激光刻印制程，其步骤包括如下：提供激光光源，且此激光光源适于发出激光光束。提供目标层，目标层具有彼此相对的第一表面以及第二表面，其中目标层对于激光光束的吸收率小于等于1%。设置牺牲层于目标层上，且牺牲层与第一表面与第二表面的其中之一者接触，其中牺牲层对于激光光束的吸收率大于等于5%，且牺牲层的汽化温度大于目标层的熔点温度。打开激光光源，发出激光光束并使激光光束沿着一行进路径照射牺牲层，以将在行进路径上的牺牲层汽化而将一图案刻印至目标层上，在照射的过程中激光光束的平均功率大于15瓦特。

3. 发明专利

TW201919293A 高功率雷射系統审中-公开
简体标题：高功率激光系统
公开(公告)号：TW201919293A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106138772
申请日：2017-11-09
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林士廷 , LIN, SHIH TING , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI , 林盈佐 , LIN, YING TSO , 李姿儀 , LI, ZIH YI
IPC分类号： H01S3/067 , H01S3/091 , H01S3/1055 , G02B6/02
摘要：本發明為一種高功率雷射系統，包括：用以輸出泵浦光能量的泵浦；用以吸收該泵浦光能量並輸出雷射訊號的增益光纖；連接於該泵浦且用以將泵浦光能量導入該增益光纖中的光耦合器；結合於該增益光纖且一端耦接該光耦合器的第一光纖光柵；結合於該增益光纖且用以反射該增益光纖未完全吸收之該泵浦光能量的第二光纖光柵；以及結合於該增益光纖且與該第一光纖光柵構成一共振腔的第三光纖光柵。本發明利用第二光纖光柵反射泵浦光能量，進而減少能量之損耗。
简体摘要：本发明为一种高功率激光系统，包括：用以输出泵浦光能量的泵浦；用以吸收该泵浦光能量并输出激光信号的增益光纤；连接于该泵浦且用以将泵浦光能量导入该增益光纤中的光耦合器；结合于该增益光纤且一端耦接该光耦合器的第一光纤光栅；结合于该增益光纤且用以反射该增益光纤未完全吸收之该泵浦光能量的第二光纤光栅；以及结合于该增益光纤且与该第一光纤光栅构成一共振腔的第三光纤光栅。本发明利用第二光纤光栅反射泵浦光能量，进而减少能量之损耗。

4. 发明专利

TW201918312A 雷射清潔裝置及其方法审中-公开
简体标题：激光清洁设备及其方法
公开(公告)号：TW201918312A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106138501
申请日：2017-11-07
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊映暉 , YANG, YING HUI , 林盈佐 , LIN, YING TSO , 陳智禮 , CHEN, CHIH LI , 李姿儀 , LI, ZIH YI , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI
IPC分类号： B23K26/062 , B23K26/04 , B23K26/352 , B23K26/36
摘要：一種雷射清潔裝置，其包含有：一光源，其係提供一清潔光束；一能量調配單元，其係接收該清潔光束，以調變該清潔光束之不同焦平面間的能量比例；以及一焦平面調變單元，其係接受已調變能量之該清潔光束，以形成複數個焦平面，並透過調整該些焦平面的距離，延伸或壓縮該清潔光束之有效清潔作用區域。
简体摘要：一种激光清洁设备，其包含有：一光源，其系提供一清洁光束；一能量调配单元，其系接收该清洁光束，以调制该清洁光束之不同焦平面间的能量比例；以及一焦平面调制单元，其系接受已调制能量之该清洁光束，以形成复数个焦平面，并透过调整该些焦平面的距离，延伸或压缩该清洁光束之有效清洁作用区域。

5. 发明专利

TWI651146B 雷射清潔裝置及其方法有权
简体标题：激光清洁设备及其方法
公开(公告)号：TWI651146B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW106138501
申请日：2017-11-07
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊映暉 , YANG, YING HUI , 林盈佐 , LIN, YING TSO , 陳智禮 , CHEN, CHIH LI , 李姿儀 , LI, ZIH YI , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI
IPC分类号： B23K26/062 , B23K26/04 , B23K26/352 , B23K26/36

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