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3. 发明专利

TW201921144A 基板、度量衡設備及用於微影製程的相關方法审中-公开
简体标题：基板、度量衡设备及用于微影制程的相关方法
公开(公告)号：TW201921144A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129883
申请日：2018-08-28
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：沃馬艾羅克 , VERMA, ALOK , 克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 休威斯湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 凡斯崔登伯特 , VERSTRAETEN, BERT
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本發明提供一種包含複數個特徵以供用於量測一器件製造程序之一參數的基板，及相關方法及設備。該量測藉由利用來自一光學設備之量測輻射照射該等特徵並且偵測由該量測輻射與該等特徵之間的相互作用產生的一信號進行，其中該複數個特徵包含按週期性方式以一第一節距分佈的第一特徵，及按週期性方式以一第二節距分佈的第二特徵，且其中該第一節距及第二節距使得該等第一及第二特徵之一組合節距恆定，而不管該複數個特徵中是否存在節距遊動。
简体摘要：本发明提供一种包含复数个特征以供用于量测一器件制造进程之一参数的基板，及相关方法及设备。该量测借由利用来自一光学设备之量测辐射照射该等特征并且侦测由该量测辐射与该等特征之间的相互作用产生的一信号进行，其中该复数个特征包含按周期性方式以一第一节距分布的第一特征，及按周期性方式以一第二节距分布的第二特征，且其中该第一节距及第二节距使得该等第一及第二特征之一组合节距恒定，而不管该复数个特征中是否存在节距游动。

5. 发明专利

TW201830160A 量測器件製程參數的方法、度量衡設備、基板、目標、器件製造系統及器件製造方法审中-公开
简体标题：量测器件制程参数的方法、度量衡设备、基板、目标、器件制造系统及器件制造方法
公开(公告)号：TW201830160A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106138705
申请日：2017-11-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 沃馬艾羅克 , VERMA, ALOK , 凡斯崔登伯特 , VERSTRAETEN, BERT
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本發明揭示一種量測一器件製程之一參數之方法。該方法包含藉由運用量測輻射照明一基板上之一目標且使用一光學設備以偵測由該目標散射之該量測輻射來量測該目標。該目標包含具有一第一週期性組件及一第二週期性組件之一目標結構。該光學設備接收由該量測輻射自該目標結構繞射產生的輻射。該所接收輻射包含將自該量測輻射自該第一週期性組件單獨繞射未接收到且自該量測輻射自該第二週期性組件單獨繞射亦未接收到的至少一個繞射階。
简体摘要：本发明揭示一种量测一器件制程之一参数之方法。该方法包含借由运用量测辐射照明一基板上之一目标且使用一光学设备以侦测由该目标散射之该量测辐射来量测该目标。该目标包含具有一第一周期性组件及一第二周期性组件之一目标结构。该光学设备接收由该量测辐射自该目标结构绕射产生的辐射。该所接收辐射包含将自该量测辐射自该第一周期性组件单独绕射未接收到且自该量测辐射自该第二周期性组件单独绕射亦未接收到的至少一个绕射阶。

6. 发明专利

TWI684073B 基板、度量衡設備及用於微影製程的相關方法有权
简体标题：基板、度量衡设备及用于微影制程的相关方法
公开(公告)号：TWI684073B
公开(公告)日：2020-02-01
申请号：TW107129883
申请日：2018-08-28
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：沃馬艾羅克 , VERMA, ALOK , 克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 休威斯湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 凡斯崔登伯特 , VERSTRAETEN, BERT
IPC分类号： G03F7/20

7. 发明专利

TW201921136A 判定圖案化製程參數之方法與裝置审中-公开
简体标题：判定图案化制程参数之方法与设备
公开(公告)号：TW201921136A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107128276
申请日：2018-08-14
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一種方法，其包括：使用一第一度量衡配方量測使用一圖案化製程所處理的一基板上之一度量衡目標之第一複數個例項以判定該圖案化製程之至少一個參數之值，該第一度量衡配方用於將輻射施加至該度量衡目標之例項並偵測來自該度量衡目標之該等例項之輻射；及使用一第二度量衡配方量測該同一基板上之該度量衡目標之第二不同複數個例項以判定該圖案化製程之該至少一個參數之值，該第二度量衡配方用於將輻射施加至該度量衡目標之例項並偵測來自該度量衡目標之該等例項之輻射，其中該第二度量衡配方在該將輻射施加至該度量衡目標之例項並偵測來自該度量衡目標之該等例項之輻射的至少一個特性方面與該第一度量衡配方不同。
简体摘要：一种方法，其包括：使用一第一度量衡配方量测使用一图案化制程所处理的一基板上之一度量衡目标之第一复数个实例以判定该图案化制程之至少一个参数之值，该第一度量衡配方用于将辐射施加至该度量衡目标之实例并侦测来自该度量衡目标之该等实例之辐射；及使用一第二度量衡配方量测该同一基板上之该度量衡目标之第二不同复数个实例以判定该图案化制程之该至少一个参数之值，该第二度量衡配方用于将辐射施加至该度量衡目标之实例并侦测来自该度量衡目标之该等实例之辐射，其中该第二度量衡配方在该将辐射施加至该度量衡目标之实例并侦测来自该度量衡目标之该等实例之辐射的至少一个特性方面与该第一度量衡配方不同。

9. 发明专利

TWI686677B 用於判定圖案化製程之參數之方法有权
简体标题：用于判定图案化制程之参数之方法
公开(公告)号：TWI686677B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107128276
申请日：2018-08-14
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD
IPC分类号： G03F7/20

10. 发明专利

TWI665529B 量測器件製程參數的方法、度量衡設備、基板、目標、器件製造系統及器件製造方法有权
简体标题：量测器件制程参数的方法、度量衡设备、基板、目标、器件制造系统及器件制造方法
公开(公告)号：TWI665529B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW106138705
申请日：2017-11-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 沃馬艾羅克 , VERMA, ALOK , 凡斯崔登伯特 , VERSTRAETEN, BERT
IPC分类号： G03F7/20

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