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3. 发明专利

TW201835691A 度量衡方法、電腦產品及系統审中-公开
简体标题：度量衡方法、电脑产品及系统
公开(公告)号：TW201835691A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107122833
申请日：2015-11-18
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF,ARIE JEFFREY , 巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA,KAUSTUVE
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一種方法包括：自目標之經量測值判定目標之結構不對稱性之類型；及執行目標之光學量測之模擬以判定與不對稱性類型相關聯的不對稱性參數之值。一種方法包括：執行目標之光學量測之模擬以判定與自目標之經量測值判定的目標之結構不對稱性之類型相關聯的不對稱性參數之值；及分析不對稱性參數對與目標相關聯的目標形成參數之改變之敏感度。一種方法包括：使用由目標繞射之輻射之經量測參數來判定目標之結構不對稱性參數；及基於對與目標相關聯之目標形成參數之改變最不敏感的結構不對稱性參數而判定目標之量測光束之屬性。
简体摘要：一种方法包括：自目标之经量测值判定目标之结构不对称性之类型；及运行目标之光学量测之仿真以判定与不对称性类型相关联的不对称性参数之值。一种方法包括：运行目标之光学量测之仿真以判定与自目标之经量测值判定的目标之结构不对称性之类型相关联的不对称性参数之值；及分析不对称性参数对与目标相关联的目标形成参数之改变之敏感度。一种方法包括：使用由目标绕射之辐射之经量测参数来判定目标之结构不对称性参数；及基于对与目标相关联之目标形成参数之改变最不敏感的结构不对称性参数而判定目标之量测光束之属性。

4. 发明专利

TWI683998B 用於調整度量衡設備及量測一目標之方法有权
简体标题：用于调整度量衡设备及量测一目标之方法
公开(公告)号：TWI683998B
公开(公告)日：2020-02-01
申请号：TW107118596
申请日：2016-12-15
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：蘇洽羅伯特約翰 , SOCHA,ROBERT JOHN , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF,ARIE JEFFREY , 帕迪尼特許 , PANDEY,NITESH
IPC分类号： G01N21/956 , G03F7/20

5. 发明专利

TW201816524A 用於量測微影裝置之聚焦效能之方法及圖案化器件及裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：用于量测微影设备之聚焦性能之方法及图案化器件及设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201816524A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW107104991
申请日：2016-12-20
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：希尼保羅克利絲丁安 , HINNEN,PAUL CHRISTIAAN , 麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN,SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 葛森邁可羅伯特 , GOOSEN,MAIKEL ROBERT , 凡德斯加毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR,MAURITS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF,ARIE JEFFREY
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一種微影裝置(LA)將產品特徵及至少一個聚焦度量衡圖案(T)印刷於一基板上。該聚焦度量衡圖案係由一反射倍縮光罩界定，且使用以一傾斜角(θ)入射之EUV輻射(404)來執行印刷。該聚焦度量衡圖案包含第一特徵(422)之群組之一週期性陣列。第一特徵之鄰近群組之間的一間隔(S1)比每一群組內之該等第一特徵之一尺寸(CD)大得多。歸因於傾斜照明，該等經印刷第一特徵依據聚焦誤差變化而變得失真及/或位移。可提供第二特徵424作為一參考，可對照該參考看到該等第一特徵之位移。此失真及/或位移之量測可藉由量測作為該經印刷圖案之一屬性之不對稱性。量測可在例如在350奈米至800奈米之範圍內的較長波長下完成。
简体摘要：一种微影设备(LA)将产品特征及至少一个聚焦度量衡图案(T)印刷于一基板上。该聚焦度量衡图案系由一反射倍缩光罩界定，且使用以一倾斜角(θ)入射之EUV辐射(404)来运行印刷。该聚焦度量衡图案包含第一特征(422)之群组之一周期性数组。第一特征之邻近群组之间的一间隔(S1)比每一群组内之该等第一特征之一尺寸(CD)大得多。归因于倾斜照明，该等经印刷第一特征依据聚焦误差变化而变得失真及/或位移。可提供第二特征424作为一参考，可对照该参考看到该等第一特征之位移。此失真及/或位移之量测可借由量测作为该经印刷图案之一属性之不对称性。量测可在例如在350奈米至800奈米之范围内的较长波长下完成。

6. 发明专利

TWI700555B 度量衡方法有权
公开(公告)号：TWI700555B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW107122833
申请日：2015-11-18
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF,ARIE JEFFREY , 巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA,KAUSTUVE
IPC分类号： G03F7/20

7. 发明专利

TW201830007A 用於調整度量衡設備、量測一目標與製造一目標之方法及電腦程式產品审中-公开
简体标题：用于调整度量衡设备、量测一目标与制造一目标之方法及电脑进程产品
公开(公告)号：TW201830007A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW107118596
申请日：2016-12-15
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：蘇洽羅伯特約翰 , SOCHA,ROBERT JOHN , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF,ARIE JEFFREY , 帕迪尼特許 , PANDEY,NITESH
IPC分类号： G01N21/956 , G03F7/20
摘要：本文中揭示一種調整一度量衡設備之方法，該方法包含：將該度量衡設備之一光瞳平面中之一強度分佈在空間上劃分成複數個像素；藉由使用一電腦調整該複數個像素之強度而縮減一目標中之一結構不對稱性對由該度量衡設備對該目標進行的一量測之一效應。
简体摘要：本文中揭示一种调整一度量衡设备之方法，该方法包含：将该度量衡设备之一光瞳平面中之一强度分布在空间上划分成复数个像素；借由使用一电脑调整该复数个像素之强度而缩减一目标中之一结构不对称性对由该度量衡设备对该目标进行的一量测之一效应。

8. 发明专利

TW201809903A 度量衡方法、標的及基板审中-公开
简体标题：度量衡方法、标的及基板
公开(公告)号：TW201809903A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106126229
申请日：2015-08-27
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA,KAUSTUVE , 范布爾亨利克斯威爾翰瑪斯瑪莉亞 , VAN BUEL,HENRICUS WILHELMUS MARIA , 佛奎特克里斯多菲大衛 , FOUQUET,CHRISTOPHE DAVID , 史密徳韓卓克真海德 , SMILDE,HENDRIK JAN HIDDE , 凡德斯加毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR,MAURITS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF,ARIE JEFFREY , 凡哈倫理查喬哈奈法蘭西卡斯 , VAN HAREN,RICHARD JOHANNES FRANCISCUS , 柳星蘭 , LIU,XING LAN , 貝特曼喬哈奈馬可斯瑪麗亞 , BELTMAN,JOHANNES MARCUS MARIA , 福克斯安迪亞司 , FUCHS,ANDREAS , 亞當歐瑪阿布貝克歐瑪 , ADAM,OMER ABUBAKER OMER , 庫必司麥可 , KUBIS,MICHAEL , 傑克馬丁賈庫伯斯喬漢 , JAK,MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01B11/14 , G03F7/70633 , G03F7/70683
摘要：一種繞射量測標的，其具有至少一第一子標的及至少一第二子標的，且其中(1)該第一子標的及該第二子標的各自包括一對週期性結構，且該第一子標的具有不同於該第二子標的的一設計，該不同設計包括該等第一子標的週期性結構具有不同於該第二子標的週期性結構的一間距、特徵寬度、間隔寬度及/或分段；或(2)該第一子標的及該第二子標的分別包括一第一層中之一第一週期性結構及一第二週期性結構，且一第三週期性結構在該第一層下方之一第二層中至少部分地位於該第一週期性結構下方，且在該第二層中在該第二週期性結構下方不存在週期性結構，且一第四週期性結構在該第二層下方之一第三層中至少部分地位於該第二週期性結構下方。設計此量測標的之一方法涉及在該等子標的之一周邊處定位一輔助特徵，該輔助特徵經組態以縮減該等子標的之該周邊處之測定強度峰值。
简体摘要：一种绕射量测标的，其具有至少一第一子标的及至少一第二子标的，且其中(1)该第一子标的及该第二子标的各自包括一对周期性结构，且该第一子标的具有不同于该第二子标的的一设计，该不同设计包括该等第一子标的周期性结构具有不同于该第二子标的周期性结构的一间距、特征宽度、间隔宽度及/或分段；或(2)该第一子标的及该第二子标的分别包括一第一层中之一第一周期性结构及一第二周期性结构，且一第三周期性结构在该第一层下方之一第二层中至少部分地位于该第一周期性结构下方，且在该第二层中在该第二周期性结构下方不存在周期性结构，且一第四周期性结构在该第二层下方之一第三层中至少部分地位于该第二周期性结构下方。设计此量测标的之一方法涉及在该等子标的之一周边处定位一辅助特征，该辅助特征经组态以缩减该等子标的之该周边处之测定强度峰值。

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