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    • 3. 发明专利
    • 用於重複缺陷分析之相對缺陷位置之高精準度
    • 用于重复缺陷分析之相对缺陷位置之高精准度
    • TW201907152A
    • 2019-02-16
    • TW107114041
    • 2018-04-25
    • 美商克萊譚克公司KLA-TENCOR CORPORATION
    • 蘇曼 徐徐爾SUMAN, SHISHIR吳 克農WU, KENONG
    • G01N21/95G06Q50/04
    • 本發明提供用於變換在一晶圓上偵測到的缺陷之定位之方法及系統。一種方法包含對準一檢測子系統針對印刷於該晶圓上之一多晶粒光罩之一第一例項中之一第一晶粒中之一第一掃描帶中之一第一圖框的輸出與印刷於該晶圓上之其他光罩例項中之對應圖框、掃描帶及晶粒之輸出。該方法亦包含:基於該等圖框及與其等對準之該等對應圖框的該輸出之掃描帶座標分別判定該等其他光罩例項中之該等圖框之各者的不同掃描帶座標偏移;及基於其中偵測到該等缺陷之該等其他光罩例項將該等不同掃描帶座標偏移之一者應用於針對該等缺陷報告之該等掃描帶座標,藉此將該等缺陷之該等掃描帶座標自該等其他光罩例項中之掃描帶座標變換為該第一光罩例項。
    • 本发明提供用于变换在一晶圆上侦测到的缺陷之定位之方法及系统。一种方法包含对准一检测子系统针对印刷于该晶圆上之一多晶粒光罩之一第一实例中之一第一晶粒中之一第一扫描带中之一第一图框的输出与印刷于该晶圆上之其他光罩实例中之对应图框、扫描带及晶粒之输出。该方法亦包含:基于该等图框及与其等对准之该等对应图框的该输出之扫描带座标分别判定该等其他光罩实例中之该等图框之各者的不同扫描带座标偏移;及基于其中侦测到该等缺陷之该等其他光罩实例将该等不同扫描带座标偏移之一者应用于针对该等缺陷报告之该等扫描带座标,借此将该等缺陷之该等扫描带座标自该等其他光罩实例中之扫描带座标变换为该第一光罩实例。