专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201520066A 記錄裝置审中-公开
简体标题：记录设备
公开(公告)号：TW201520066A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103140675
申请日：2014-11-24
申请人：精工愛普生股份有限公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：鷲尾裕一 , WASHIO, YUICHI , 宮崎堅太郎 , MIYAZAKI, KENTARO , 櫻田和昭 , SAKURADA, KAZUAKI , 片上悟 , KATAGAMI, SATORU , 田島和也 , TAJIMA, KAZUYA
IPC分类号： B41J2/01 , B41M5/00
CPC分类号： B41J11/0015 , B41J2/155 , B41J2/17596 , B41J2/2114
摘要：本發明提供一種可將對記錄介質賦予之反應液自複數種中區別使用之記錄裝置。上述記錄裝置包括：饋送部2，其饋送記錄介質；反應液賦予部3，其對記錄介質S選擇性地賦予與墨水反應之第1反應液及與墨水反應且與第1反應液不同之第2反應液中之任一種；及墨水噴出部5，其較反應液賦予部3位於記錄介質S之饋送方向之更下游，且對記錄介質S噴出墨水。較佳為反應液賦予部3包含噴出第1反應液之第1反應液噴出單元31a、及噴出第2反應液之第2反應液噴出單元31b。
简体摘要：本发明提供一种可将对记录介质赋予之反应液自复数种中区别使用之记录设备。上述记录设备包括：馈送部2，其馈送记录介质；反应液赋予部3，其对记录介质S选择性地赋予与墨水反应之第1反应液及与墨水反应且与第1反应液不同之第2反应液中之任一种；及墨水喷出部5，其较反应液赋予部3位于记录介质S之馈送方向之更下游，且对记录介质S喷出墨水。较佳为反应液赋予部3包含喷出第1反应液之第1反应液喷出单元31a、及喷出第2反应液之第2反应液喷出单元31b。

2. 发明专利

TWI615281B 記錄裝置及記錄方法有权
简体标题：记录设备及记录方法
公开(公告)号：TWI615281B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW103140675
申请日：2014-11-24
申请人：精工愛普生股份有限公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：鷲尾裕一 , WASHIO, YUICHI , 宮崎堅太郎 , MIYAZAKI, KENTARO , 櫻田和昭 , SAKURADA, KAZUAKI , 片上悟 , KATAGAMI, SATORU , 田島和也 , TAJIMA, KAZUYA
IPC分类号： B41J2/01 , B41M5/00
CPC分类号： B41J11/0015 , B41J2/155 , B41J2/17596 , B41J2/2114

3. 发明专利

TW200304168A 薄膜形成裝置和薄膜形成方法、液晶裝置之製造裝置和液晶裝置之製造方法和液晶裝置、及薄膜構造體之製造裝置和薄膜構造體之製造方法和薄膜構造體及電子機器失效
简体标题：薄膜形成设备和薄膜形成方法、液晶设备之制造设备和液晶设备之制造方法和液晶设备、及薄膜构造体之制造设备和薄膜构造体之制造方法和薄膜构造体及电子机器
公开(公告)号：TW200304168A
公开(公告)日：2003-09-16
申请号：TW092103557
申请日：2003-02-20
申请人：精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：櫻田和昭
IPC分类号： H01L , B05C , G03F
CPC分类号： B05B12/122 , B05B13/0447 , B05B17/0607 , H01L51/0004 , Y02P80/30
摘要：本發明係有關薄膜形成裝置和薄膜形成方法、液晶裝置之製造裝置和液晶裝置之製造方法和液晶裝置、及薄膜構造體之製造裝置和薄膜構造體之製造方法和薄膜構造體，及電子機器，其課題乃提供抑制採用液滴吐出噴頭所造成之材料之浪費，而且可使形成之膜整體之厚度均勻，之薄膜形成裝置和薄膜形成方法、液晶裝置之製造裝置和液晶裝置之製造方法和液晶裝置、及薄膜構造體之製造裝置和薄膜構造體之製造方法和薄膜構造體。其解決手段為在於溶劑中，將膜材料被溶解或分散所成之塗佈液L，塗佈於基板SUB上，形成薄膜之薄膜形成裝置1。於基板SUB上具備具有吐出前述塗佈液L之液滴吐出噴頭2的吐出機構，和可相對移動該液滴吐出噴頭2和基板SUB之位置的移動機構4，和控制吐出機構及移動機構4之至少一方的控制部C。在塗佈於基板SUB上之塗佈液之附近，具有供給溶劑蒸氣的溶劑蒸氣供給機構5。
简体摘要：本发明系有关薄膜形成设备和薄膜形成方法、液晶设备之制造设备和液晶设备之制造方法和液晶设备、及薄膜构造体之制造设备和薄膜构造体之制造方法和薄膜构造体，及电子机器，其课题乃提供抑制采用液滴吐出喷头所造成之材料之浪费，而且可使形成之膜整体之厚度均匀，之薄膜形成设备和薄膜形成方法、液晶设备之制造设备和液晶设备之制造方法和液晶设备、及薄膜构造体之制造设备和薄膜构造体之制造方法和薄膜构造体。其解决手段为在于溶剂中，将膜材料被溶解或分散所成之涂布液L，涂布于基板SUB上，形成薄膜之薄膜形成设备1。于基板SUB上具备具有吐出前述涂布液L之液滴吐出喷头2的吐出机构，和可相对移动该液滴吐出喷头2和基板SUB之位置的移动机构4，和控制吐出机构及移动机构4之至少一方的控制部C。在涂布于基板SUB上之涂布液之附近，具有供给溶剂蒸气的溶剂蒸气供给机构5。

4. 发明专利

TWI325341B 層形成方法、主動型矩陣基板之製造方法及多層配線基板之製造方法 METHOD FOR FORMING A LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING AN ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING A MULTILAYERED WIRING SUBSTRATE 失效
简体标题：层形成方法、主动型矩阵基板之制造方法及多层配线基板之制造方法 METHOD FOR FORMING A LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING AN ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING A MULTILAYERED WIRING SUBSTRATE
公开(公告)号：TWI325341B
公开(公告)日：2010-06-01
申请号：TW095130523
申请日：2006-08-18
申请人：精工愛普生股份有限公司
发明人：新館剛 , 水垣浩一 , 櫻田和昭 , 和田健嗣
IPC分类号： B05D , H05K
CPC分类号： H05K3/125 , G02F1/133711 , G02F2001/136295 , H01L21/288 , H01L21/76838 , H01L27/1214 , H01L27/1292 , H05K2203/013 , H05K2203/095 , H05K2203/1173 , H05K2203/1476
摘要：本發明之目的在於提供在底層表面配置液滴而設置良好之實心狀圖案之方法。本發明之層形成方法係包含：第1步驟，其係在前述底層表面之2個部位之各部位配置第1液滴，以在底層表面上獲得互相孤立之2個點狀圖案；第2步驟，其係使前述2個點狀圖案固定於前述底層表面；第3步驟，其係至少使前述2個點狀圖案間之前述底層表面對第2液滴親液化；及第4步驟，其係在前述第3步驟之後，在前述2個點狀圖案間之前述底層表面，配置連結前述2個點狀圖案之前述第2液滴。 A method for forming a layer comprises (a) disposing a first droplet to two parts on an underlayer surface so as to form two dot patterns isolated each other on the underlayer surface, (b) fixing the two dot patterns to the underlayer surface, (c) giving lyophilicity with respect to a second droplet to at least the underlayer surface between the two dot patterns, and (d) disposing the second droplet to the underlayer surface between the two dot patterns so as to join the two dot patterns after the step (c). 【創作特點】本發明之層形成方法係包含：第1步驟，其係在前述底層表面之2個部位之各部位配置第1液滴，以在底層表面上獲得互相孤立之2個點狀圖案；第2步驟，其係使前述2個點狀圖案固定於前述底層表面；第3步驟，其係至少使前述2個點狀圖案間之前述底層表面對第2液滴親液化；及第4步驟，其係在前述第3步驟之後，在前述2個點狀圖案間之前述底層表面，配置連結前述2個點狀圖案之前述第2液滴。在此，前述第3步驟亦可包含在經固定之前述2個點狀圖案之各圖案上分別配置第3液滴之步驟。又，前述第3步驟亦可包含在前述底層表面照射紫外線之步驟或使前述底層表面曝露於電漿中之步驟。
依據第2步驟，可使2個點狀圖案固定於底層表面。因此，可藉第2步驟，在底層表面上可使2個點狀圖案難以移動。
另外，依據第3步驟，在配置連結2個點狀圖案之第2液滴之前，使2個點狀圖案間之底層表面對第2液滴親液化。藉此第3步驟，使第2液滴難以對底層表面移動。
由以上，依據第2步驟與第3步驟，在底層表面上，及使在第4步驟之際，2個點狀圖案與第2液滴互相連結，點狀圖案與第2液滴也都難以對底層表面移動。因此，難以發生功能液之局部的集中，其結果，在底層表面上所得之層產生孔之可能性會降低。
在本發明之另一態樣中，上述層形成方法進一步包含：第5步驟，其係在前述第4步驟之後，使所連結之前述2個點狀圖案活化或乾燥。
依據上述特徵，由藉液滴之配置所生之點狀圖案最終所得之層產生孔之可能性相當少。
又，在上述層形成方法中，前述第2液滴之每1滴之體積與前述第3液滴之每1滴之體積之至少1者，也可異於前述第1液滴之每1滴之體積。
本發明之層形成方法係包含：第1步驟，其係在前述底層表面之多數部位分別配置第1液滴，以在底層表面上獲得排列成決定於第1方向與異於前述第1方向之第2方向之陣列狀之多數點狀圖案；第2步驟，其係使前述多數點狀圖案固定於前述底層表面；第3步驟，其係在前述第2步驟之後，在排列於前述第1方向之前述多數點狀圖案之各圖案間分別配置第2液滴而將前述多數點狀圖案連結於前述第1方向；第4步驟，其係在前述第3步驟之後，在排列於前述第2方向之前述多數點狀圖案之各圖案間分別配置第3液滴而將前述多數點狀圖案連結於前述第2方向；及第5步驟，其係在前述第4步驟之後，在排列於前述第1方向與前述第2方向之合成方向之前述多數點狀圖案之各圖案間分別配置第4液滴。
依據上述特徵，配置第1液滴所得之多數點狀圖案之各圖案分別被固定於底層表面之多數部位。此結果，縱使底層表面對第1液滴具有撥液性，第2液滴及第3液滴重疊於第1液滴之際，第1液滴也不會移動。
最好，上述層形成方法係進一步包含：第6步驟，其係在前述第2步驟與前述第3步驟之間使前述底層表面親液化。在此，前述第6步驟也可包含在前述多數點狀圖案之各圖案上分別配置第5液滴之步驟。或者，前述第6步驟也可包含在前述底層表面照射紫外線之步驟或使前述底層表面曝露於電漿中之步驟。
依據上述特徵所得之效果之一在於即使第2液滴重疊於已形成之多數點狀圖案，第2液滴不會被拉向多數點狀圖案側。
在本發明之又另一態樣中，上述層形成方法係進一步包含：第7步驟，其係在前述第5步驟之後，使前述多數點狀圖案活化或乾燥。
依據上述特徵，由藉液滴之配置所生之點狀圖案最終所得之層產生孔之可能性相當少。
又，在上述層形成方法中，前述第2液滴之每1滴之體積、前述第3液滴之每1滴之體積、前述第4液滴之每1滴之體積及前述第5液滴之每1滴之體積之至少1者，也可異於前述第1液滴之每1滴之體積。
本發明之主動型矩陣基板之製造方法係包含：第1步驟，其係在前述底層表面之2個部位之各部位配置第1液滴，以在底層表面上獲得互相孤立之2個點狀圖案；第2步驟，其係使前述2個點狀圖案固定於前述底層表面；第3步驟，其係至少使前述2個點狀圖案間之前述底層表面對第2液滴親液化；及第4步驟，其係在前述第3步驟之後，在前述2個點狀圖案間之前述底層表面，配置連結前述2個點狀圖案之前述第2液滴。
本發明之多層配線基板之製造方法係包含：第1步驟，其係在前述底層表面之2個部位之各部位配置第1液滴，以在底層表面上獲得互相孤立之2個點狀圖案；第2步驟，其係使前述2個點狀圖案固定於前述底層表面；第3步驟，其係至少使前述2個點狀圖案間之前述底層表面對第2液滴親液化；及第4步驟，其係在前述第3步驟之後，在前述2個點狀圖案間之前述底層表面，配置連結前述2個點狀圖案之前述第2液滴。
简体摘要：本发明之目的在于提供在底层表面配置液滴而设置良好之实心状图案之方法。本发明之层形成方法系包含：第1步骤，其系在前述底层表面之2个部位之各部位配置第1液滴，以在底层表面上获得互相孤立之2个点状图案；第2步骤，其系使前述2个点状图案固定于前述底层表面；第3步骤，其系至少使前述2个点状图案间之前述底层表面对第2液滴亲液化；及第4步骤，其系在前述第3步骤之后，在前述2个点状图案间之前述底层表面，配置链接前述2个点状图案之前述第2液滴。 A method for forming a layer comprises (a) disposing a first droplet to two parts on an underlayer surface so as to form two dot patterns isolated each other on the underlayer surface, (b) fixing the two dot patterns to the underlayer surface, (c) giving lyophilicity with respect to a second droplet to at least the underlayer surface between the two dot patterns, and (d) disposing the second droplet to the underlayer surface between the two dot patterns so as to join the two dot patterns after the step (c). 【创作特点】本发明之层形成方法系包含：第1步骤，其系在前述底层表面之2个部位之各部位配置第1液滴，以在底层表面上获得互相孤立之2个点状图案；第2步骤，其系使前述2个点状图案固定于前述底层表面；第3步骤，其系至少使前述2个点状图案间之前述底层表面对第2液滴亲液化；及第4步骤，其系在前述第3步骤之后，在前述2个点状图案间之前述底层表面，配置链接前述2个点状图案之前述第2液滴。在此，前述第3步骤亦可包含在经固定之前述2个点状图案之各图案上分别配置第3液滴之步骤。又，前述第3步骤亦可包含在前述底层表面照射紫外线之步骤或使前述底层表面曝露于等离子中之步骤。依据第2步骤，可使2个点状图案固定于底层表面。因此，可藉第2步骤，在底层表面上可使2个点状图案难以移动。另外，依据第3步骤，在配置链接2个点状图案之第2液滴之前，使2个点状图案间之底层表面对第2液滴亲液化。借此第3步骤，使第2液滴难以对底层表面移动。由以上，依据第2步骤与第3步骤，在底层表面上，及使在第4步骤之际，2个点状图案与第2液滴互相链接，点状图案与第2液滴也都难以对底层表面移动。因此，难以发生功能液之局部的集中，其结果，在底层表面上所得之层产生孔之可能性会降低。在本发明之另一态样中，上述层形成方法进一步包含：第5步骤，其系在前述第4步骤之后，使所链接之前述2个点状图案活化或干燥。依据上述特征，由藉液滴之配置所生之点状图案最终所得之层产生孔之可能性相当少。又，在上述层形成方法中，前述第2液滴之每1滴之体积与前述第3液滴之每1滴之体积之至少1者，也可异于前述第1液滴之每1滴之体积。本发明之层形成方法系包含：第1步骤，其系在前述底层表面之多数部位分别配置第1液滴，以在底层表面上获得排列成决定于第1方向与异于前述第1方向之第2方向之数组状之多数点状图案；第2步骤，其系使前述多数点状图案固定于前述底层表面；第3步骤，其系在前述第2步骤之后，在排列于前述第1方向之前述多数点状图案之各图案间分别配置第2液滴而将前述多数点状图案链接于前述第1方向；第4步骤，其系在前述第3步骤之后，在排列于前述第2方向之前述多数点状图案之各图案间分别配置第3液滴而将前述多数点状图案链接于前述第2方向；及第5步骤，其系在前述第4步骤之后，在排列于前述第1方向与前述第2方向之合成方向之前述多数点状图案之各图案间分别配置第4液滴。依据上述特征，配置第1液滴所得之多数点状图案之各图案分别被固定于底层表面之多数部位。此结果，纵使底层表面对第1液滴具有拨液性，第2液滴及第3液滴重叠于第1液滴之际，第1液滴也不会移动。最好，上述层形成方法系进一步包含：第6步骤，其系在前述第2步骤与前述第3步骤之间使前述底层表面亲液化。在此，前述第6步骤也可包含在前述多数点状图案之各图案上分别配置第5液滴之步骤。或者，前述第6步骤也可包含在前述底层表面照射紫外线之步骤或使前述底层表面曝露于等离子中之步骤。依据上述特征所得之效果之一在于即使第2液滴重叠于已形成之多数点状图案，第2液滴不会被拉向多数点状图案侧。在本发明之又另一态样中，上述层形成方法系进一步包含：第7步骤，其系在前述第5步骤之后，使前述多数点状图案活化或干燥。依据上述特征，由藉液滴之配置所生之点状图案最终所得之层产生孔之可能性相当少。又，在上述层形成方法中，前述第2液滴之每1滴之体积、前述第3液滴之每1滴之体积、前述第4液滴之每1滴之体积及前述第5液滴之每1滴之体积之至少1者，也可异于前述第1液滴之每1滴之体积。本发明之主动型矩阵基板之制造方法系包含：第1步骤，其系在前述底层表面之2个部位之各部位配置第1液滴，以在底层表面上获得互相孤立之2个点状图案；第2步骤，其系使前述2个点状图案固定于前述底层表面；第3步骤，其系至少使前述2个点状图案间之前述底层表面对第2液滴亲液化；及第4步骤，其系在前述第3步骤之后，在前述2个点状图案间之前述底层表面，配置链接前述2个点状图案之前述第2液滴。本发明之多层配线基板之制造方法系包含：第1步骤，其系在前述底层表面之2个部位之各部位配置第1液滴，以在底层表面上获得互相孤立之2个点状图案；第2步骤，其系使前述2个点状图案固定于前述底层表面；第3步骤，其系至少使前述2个点状图案间之前述底层表面对第2液滴亲液化；及第4步骤，其系在前述第3步骤之后，在前述2个点状图案间之前述底层表面，配置链接前述2个点状图案之前述第2液滴。

5. 发明专利

TW200303239A 薄膜形成裝置及薄膜形成方法及液晶裝置之製造裝置及液晶裝置之製造方法、薄膜構造體之製造裝置及薄膜構造體之製造方法及液晶裝置及薄膜構造體及電子機器失效
简体标题：薄膜形成设备及薄膜形成方法及液晶设备之制造设备及液晶设备之制造方法、薄膜构造体之制造设备及薄膜构造体之制造方法及液晶设备及薄膜构造体及电子机器
公开(公告)号：TW200303239A
公开(公告)日：2003-09-01
申请号：TW092103440
申请日：2003-02-19
申请人：精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATOIN
发明人：櫻田和昭
IPC分类号： B05C , B05D
CPC分类号： H01L21/6715 , Y10T428/10 , Y10T428/1023
摘要：於薄膜形成裝置及薄膜形成方法及液晶裝置之製造裝置及液晶裝置之製造方法，薄膜構造體之製造裝置及薄膜構造體之製造方法及液晶裝置及薄膜構造體及電子機器中，不必使用旋轉機構等，容易、且可以高精確度控制薄膜之膜厚，同時可達成裝置小型化及低成本化。解決手段為：於基板SUB上塗敷塗敷液L而形成薄膜之薄膜形成裝置，該薄膜形成裝置具備：噴出機構2，其具備液滴噴出頭1用於噴出塗敷液至基板上；及移動機構3，可移動該液滴噴出頭與基板之間之相對位置；及控制部C，其控制噴出機構及移動機構之至少一方，該控制部，係控制噴出機構之噴出動作及移動機構之移動動作之至少一方據以變化塗敷液之塗數條件而控制膜厚。
简体摘要：于薄膜形成设备及薄膜形成方法及液晶设备之制造设备及液晶设备之制造方法，薄膜构造体之制造设备及薄膜构造体之制造方法及液晶设备及薄膜构造体及电子机器中，不必使用旋转机构等，容易、且可以高精确度控制薄膜之膜厚，同时可达成设备小型化及低成本化。解决手段为：于基板SUB上涂敷涂敷液L而形成薄膜之薄膜形成设备，该薄膜形成设备具备：喷出机构2，其具备液滴喷出头1用于喷出涂敷液至基板上；及移动机构3，可移动该液滴喷出头与基板之间之相对位置；及控制部C，其控制喷出机构及移动机构之至少一方，该控制部，系控制喷出机构之喷出动作及移动机构之移动动作之至少一方据以变化涂敷液之涂数条件而控制膜厚。

6. 发明专利

TW536477B 彩色濾光片,顯示裝置及電子機器,及此等之製造方法,以及顯示裝置之製造裝置失效
简体标题：彩色滤光片,显示设备及电子机器,及此等之制造方法,以及显示设备之制造设备
公开(公告)号：TW536477B
公开(公告)日：2003-06-11
申请号：TW091111901
申请日：2002-06-03
申请人：精工愛普生股份有限公司
发明人：櫻田和昭
IPC分类号： B41J , H05B , G02B , G09F
CPC分类号： G02B5/201 , G02F1/133504 , G02F1/133514 , G02F1/133553 , H01L27/3244
摘要：一種於基板上具有由反射層及色層所構成之多數的畫素的顯示裝置用彩色濾光片的製造方法，其具有將上述各個畫素所配置的各個畫素區域加以隔開之區隔加以形成的工程，以及藉由液滴吐出法將第1液狀材料注入於各個畫素區域內以形成反射層的工程，以及將上述色層形成於各個畫素區域內的工程。藉由此，可以不需要採用如光平版印刷工程等複雜的工程，可以達到省時、低耗能、低成本之彩色濾光片的製造。
简体摘要：一种于基板上具有由反射层及色层所构成之多数的像素的显示设备用彩色滤光片的制造方法，其具有将上述各个像素所配置的各个像素区域加以隔开之区隔加以形成的工程，以及借由液滴吐出法将第1液状材料注入于各个像素区域内以形成反射层的工程，以及将上述色层形成于各个像素区域内的工程。借由此，可以不需要采用如光平版印刷工程等复杂的工程，可以达到省时、低耗能、低成本之彩色滤光片的制造。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式