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1. 发明专利

TW201716624A 使用矽原料的成膜裝置审中-公开
简体标题：使用硅原料的成膜设备
公开(公告)号：TW201716624A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105129015
申请日：2016-09-08
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：奈良井哲 , NARAI, AKIRA , 川上信之 , KAWAKAMI, NOBUYUKI , 慈幸範洋 , JIKO, NORIHIRO
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/455 , C23C16/42
摘要：本發明提供一種成膜裝置，其在成為試樣的基材上形成薄膜層，成膜裝置的特徵在於：具有具備試樣保持機構及排氣機構的反應室，反應室包括：原料供給部件，將矽原料與氧化性氣體混合；能量供給部件，施加能量使矽原料氧化而形成薄膜層；以及未反應的原料回收部件，使未反應的原料在排氣機構中分解或者吸附於分解物上；並且矽原料為含有矽、氧及碳的至少一種有機化合物，以在將矽原料1分子化學計量性地完全氧化的情況下所生成的全氧化物的合計分子數A與矽原料中所含的矽的原子數B滿足（A-B）/B≦6.75的關係的方式來調整供給量。
简体摘要：本发明提供一种成膜设备，其在成为试样的基材上形成薄膜层，成膜设备的特征在于：具有具备试样保持机构及排气机构的反应室，反应室包括：原料供给部件，将硅原料与氧化性气体混合；能量供给部件，施加能量使硅原料氧化而形成薄膜层；以及未反应的原料回收部件，使未反应的原料在排气机构中分解或者吸附于分解物上；并且硅原料为含有硅、氧及碳的至少一种有机化合物，以在将硅原料1分子化学计量性地完全氧化的情况下所生成的全氧化物的合计分子数A与硅原料中所含的硅的原子数B满足（A-B）/B≦6.75的关系的方式来调整供给量。

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