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2. 发明专利

TW200404089A 陰離子單偶氮染料 ANIONIC MONOAZO DYES 审中-公开
简体标题：阴离子单偶氮染料 ANIONIC MONOAZO DYES
公开(公告)号：TW200404089A
公开(公告)日：2004-03-16
申请号：TW092120164
申请日：2003-07-24
申请人：汽巴特用化學品控股公司 CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.
发明人：麥可蘭納特茲 LENNARTZ, MICHAEL , 桑卓菈薇絲 WEISS, SANDRA
IPC分类号： C09B
CPC分类号： C09B43/16 , Y10S8/919
摘要：式(1)的陰離子單偶氮染料，092120164p01.bmp其中A表示1–或2–基殘基，其係被總計一個或二個磺酸和／或羧酸基團所取代；R1表示氫或C1–C4烷基；各D1和D2彼此獨立地表示由胺基酸的胺基移去一個氫原子所得到的胺基酸殘基或殘基–NR2R3，其中，各R2和R3彼此獨立地表示：氫，C1–C4烷基，被羥基、鹵素或氰基所取代的C2–C6烷基，未被取代或被羥基、鹵素、SO3H、C1–C4烷基或C1–C4烷氧基所單取代的苯基；或是R2和R3與其所連接的氮原子完成一個飽和的5–或6–元環，除了該氮原子之外，其可包含一個氮原子或氧原子，並可進一步被取代；並且n為0或1，其製備方法，以及這些染料於染整天然或合成材料，特別是紙之用途。
简体摘要：式(1)的阴离子单偶氮染料，092120164p01.bmp其中A表示1–或2–基残基，其系被总计一个或二个磺酸和／或羧酸基团所取代；R1表示氢或C1–C4烷基；各D1和D2彼此独立地表示由氨基酸的胺基移去一个氢原子所得到的氨基酸残基或残基–NR2R3，其中，各R2和R3彼此独立地表示：氢，C1–C4烷基，被羟基、卤素或氰基所取代的C2–C6烷基，未被取代或被羟基、卤素、SO3H、C1–C4烷基或C1–C4烷氧基所单取代的苯基；或是R2和R3与其所连接的氮原子完成一个饱和的5–或6–元环，除了该氮原子之外，其可包含一个氮原子或氧原子，并可进一步被取代；并且n为0或1，其制备方法，以及这些染料于染整天然或合成材料，特别是纸之用途。

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