专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201600183A 元件用Ｇｅ基板之洗淨方法，洗淨水供給裝置及洗淨裝置审中-公开
简体标题：组件用Ｇｅ基板之洗净方法，洗净水供给设备及洗净设备
公开(公告)号：TW201600183A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW103120711
申请日：2014-06-16
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：床嶋裕人 , TOKOSHIMA, HIROTO , 正岡融 , MASAOKA, TORU
IPC分类号： B08B3/14 , C02F1/58
摘要：提供一種可在Ge基板的洗淨工程或清洗工程中，一邊抑制Ge氧化、溶解及因溶解而起的表面粗糙，一邊進行有效的洗淨或清洗洗淨的方法及裝置。使用將DO及過氧化氫去除後的水來將Ge基板進行洗淨，藉此抑制洗淨時的Ge的氧化、溶解。洗淨水可為使氫氣、氮氣等非氧化性氣體溶解的氣體溶解水，亦可添加有藥品。洗淨亦可藉由超音波洗淨、高壓噴射洗淨或二流體洗淨進行。
简体摘要：提供一种可在Ge基板的洗净工程或清洗工程中，一边抑制Ge氧化、溶解及因溶解而起的表面粗糙，一边进行有效的洗净或清洗洗净的方法及设备。使用将DO及过氧化氢去除后的水来将Ge基板进行洗净，借此抑制洗净时的Ge的氧化、溶解。洗净水可为使氢气、氮气等非氧化性气体溶解的气体溶解水，亦可添加有药品。洗净亦可借由超音波洗净、高压喷射洗净或二流体洗净进行。

2. 发明专利

TW201417905A 洗淨方法及洗淨裝置审中-公开
简体标题：洗净方法及洗净设备
公开(公告)号：TW201417905A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102133938
申请日：2013-09-18
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：正岡融 , MASAOKA, TORU
IPC分类号： B08B3/12 , H01L21/304 , C25B1/22
CPC分类号： H01L21/67057 , B08B3/12 , G03F7/42 , H01L21/31133
摘要：本發明可有效地進行經高摻雜植入的半導體材料等的洗淨。本發明提供洗淨裝置等，對將硫酸溶液電解而生成的電解硫酸溶液賦予超音波，利用賦予了超音波的電解硫酸溶液進行被洗淨材料的表面洗淨，藉此不會降低超音波的直線流、空蝕效果，即便對附著經硬化的抗蝕劑的半導體材料亦可發揮充分的洗淨效果，上述洗淨裝置包括：電解裝置，對硫酸溶液進行電解；洗淨部，將由電解裝置電解而生成的電解硫酸溶液作為洗淨液而將被洗淨材料洗淨；洗淨液供給管線，將由電解裝置電解的電解硫酸溶液供給至洗淨部；以及超音波賦予裝置，對洗淨部中使用的電解硫酸溶液賦予超音波。
简体摘要：本发明可有效地进行经高掺杂植入的半导体材料等的洗净。本发明提供洗净设备等，对将硫酸溶液电解而生成的电解硫酸溶液赋予超音波，利用赋予了超音波的电解硫酸溶液进行被洗净材料的表面洗净，借此不会降低超音波的直线流、空蚀效果，即便对附着经硬化的抗蚀剂的半导体材料亦可发挥充分的洗净效果，上述洗净设备包括：电解设备，对硫酸溶液进行电解；洗净部，将由电解设备电解而生成的电解硫酸溶液作为洗净液而将被洗净材料洗净；洗净液供给管线，将由电解设备电解的电解硫酸溶液供给至洗净部；以及超音波赋予设备，对洗净部中使用的电解硫酸溶液赋予超音波。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式