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1. 发明专利

TW201130561A 離子交換裝置及其塔體以及水處理裝置审中-公开
简体标题：离子交换设备及其塔体以及水处理设备
公开(公告)号：TW201130561A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：TW099132825
申请日：2010-09-28
申请人：栗田工業股份有限公司
发明人：岩崎守 , 石塚諭 , 竹山一 , 宮崎洋一 , 福井長雄 , 北見勝信
IPC分类号： B01J , C02F
CPC分类号： C02F1/42 , B01J47/028 , B01J49/08 , C02F2001/422 , C02F2001/425 , C02F2303/16
摘要：本發明之課題在於提供確實防止於塔內部之陰離子交換樹脂與陽離子交換樹脂的逆再生，即使再生之後也可以立即生產高品質的脫離子水之離子交換裝置與供其所用的塔體。本發明之解決手段，係於再生時，關閉閥(12)，打開閥(7、10)，由上部給排配管(3)供給HCl等酸溶液，同時由第3連通配管(8)供給NaoH等鹼溶液。酸溶液，依序流過集配水構件(4)、非活性樹脂(22)、陽離子交換樹脂(21)、集配水構件(6)、連通配管(5)、閥(7)，使陽離子交換樹脂(21)再生。鹼溶液，依序流過集配水構件(9)、非活性樹脂(32)、陰離子交換樹脂(31)、集配水構件(14)、下部給排配管(13)，使陰離子交換樹脂(31)再生。
简体摘要：本发明之课题在于提供确实防止于塔内部之阴离子交换树脂与阳离子交换树脂的逆再生，即使再生之后也可以立即生产高品质的脱离子水之离子交换设备与供其所用的塔体。本发明之解决手段，系于再生时，关闭阀(12)，打开阀(7、10)，由上部给排配管(3)供给HCl等酸溶液，同时由第3连通配管(8)供给NaoH等碱溶液。酸溶液，依序流过集配水构件(4)、非活性树脂(22)、阳离子交换树脂(21)、集配水构件(6)、连通配管(5)、阀(7)，使阳离子交换树脂(21)再生。碱溶液，依序流过集配水构件(9)、非活性树脂(32)、阴离子交换树脂(31)、集配水构件(14)、下部给排配管(13)，使阴离子交换树脂(31)再生。

2. 发明专利

TWI616944B 矽晶圓清潔方法以及矽晶圓清潔裝置有权
简体标题：硅晶圆清洁方法以及硅晶圆清洁设备
公开(公告)号：TWI616944B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW100141425
申请日：2011-11-14
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：中馬高明 , CHUUMAN, TAKAAKI , 川勝孝博 , KAWAKATSU, TAKAHIRO , 北見勝信 , KITAMI, KATSUNOBU , 森田博志 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/02052 , B08B3/00 , B08B3/02 , B08B3/04 , H01L21/67057

3. 发明专利

TW201234472A 矽晶圓清潔方法以及矽晶圓清潔裝置 METHOD FOR CLEANING SILICON WAFER AND SILICON WAFER-CLEANING APPARATUS 审中-公开
简体标题：硅晶圆清洁方法以及硅晶圆清洁设备 METHOD FOR CLEANING SILICON WAFER AND SILICON WAFER-CLEANING APPARATUS
公开(公告)号：TW201234472A
公开(公告)日：2012-08-16
申请号：TW100141425
申请日：2011-11-14
申请人：栗田工業股份有限公司
发明人：中馬高明 , 川勝孝博 , 北見勝信 , 森田博志
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/02052 , B08B3/00 , B08B3/02 , B08B3/04 , H01L21/67057
摘要：提供一種矽晶圓清潔方法,其藉由碳酸水來對經清洗液清洗的矽晶圓進行沖洗。根據上述矽晶圓清潔方法,不會因沖洗處理而產生靜電,不會產生靜電擊穿,或灰塵不會因靜電而附著於已清洗的矽晶圓表面,可防止矽晶圓的沖洗處理時的金屬雜質的附著,並且亦可顧及成本,此外,可使用不會產生殘渣的潔淨的沖洗液來進行沖洗處理。
简体摘要：提供一种硅晶圆清洁方法,其借由碳酸水来对经清洗液清洗的硅晶圆进行冲洗。根据上述硅晶圆清洁方法,不会因冲洗处理而产生静电,不会产生静电击穿,或灰尘不会因静电而附着于已清洗的硅晶圆表面,可防止硅晶圆的冲洗处理时的金属杂质的附着,并且亦可顾及成本,此外,可使用不会产生残渣的洁净的冲洗液来进行冲洗处理。

4. 发明专利

TWI483778B 離子交換裝置有权
简体标题：离子交换设备
公开(公告)号：TWI483778B
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：TW099132825
申请日：2010-09-28
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：岩崎守 , IWASAKI, MAMORU , 石塚諭 , ISHIZUKA, SATORU , 竹山一 , TAKEYAMA, HAJIME , 宮崎洋一 , MIYAZAKI, YOICHI , 福井長雄 , FUKUI, TAKEO , 北見勝信 , KITAMI, KATSUNOBU
IPC分类号： B01J47/02 , B01J49/02 , C02F1/42
CPC分类号： C02F1/42 , B01J47/028 , B01J49/08 , C02F2001/422 , C02F2001/425 , C02F2303/16

5. 发明专利

TWI408107B 超純水製造裝置及其運轉方法有权
简体标题：超纯水制造设备及其运转方法
公开(公告)号：TWI408107B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：TW094110197
申请日：2005-03-31
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：北見勝信 , KITAMI, KATSUNOBU , 橫井生憲 , YOKOI, IKUNORI , 老沼正芳 , OINUMA, MASAYOSHI
IPC分类号： C02F1/32 , C02F1/44
CPC分类号： B01D61/145 , B01D19/0031 , C02F1/20 , C02F1/32 , C02F1/725 , C02F9/00 , C02F2001/422 , C02F2001/425 , C02F2001/427 , C02F2103/04

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