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    • 7. 发明专利
    • 半導體裝置之製造方法及製造裝置
    • 半导体设备之制造方法及制造设备
    • TW201711118A
    • 2017-03-16
    • TW105106193
    • 2016-03-01
    • 東芝股份有限公司KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
    • 松浦永悟MATSUURA, EIGO
    • H01L21/603H01L21/67
    • H01L24/83H01L2224/32145H01L2224/48091H01L2224/48145H01L2224/73265H01L2924/00014H01L2924/00012
    • 本發明之實施形態提供一種可抑制半導體晶片彎曲之半導體裝置之製造方法及製造裝置。 於實施形態之半導體裝置之製造方法中,將作為第1半導體晶片之控制器晶片11載置於基板10。將貼合有接著層12之作為第2半導體晶片之NAND晶片21以將接著層12朝向基板10側之狀態載置於基板10。在將第2半導體晶片載置於基板10時,以接著層12中第1部分之黏度低於第2部分之黏度之狀態,將第1半導體晶片埋入接著層12。第1部分係接著層12中位於載置於第1半導體晶片上之範圍之部分。第2部分係接著層12中位於第1部分之周圍之部分。介隔接著層12將第2半導體晶片接著於基板10。
    • 本发明之实施形态提供一种可抑制半导体芯片弯曲之半导体设备之制造方法及制造设备。 于实施形态之半导体设备之制造方法中,将作为第1半导体芯片之控制器芯片11载置于基板10。将贴合有接着层12之作为第2半导体芯片之NAND芯片21以将接着层12朝向基板10侧之状态载置于基板10。在将第2半导体芯片载置于基板10时,以接着层12中第1部分之黏度低于第2部分之黏度之状态,将第1半导体芯片埋入接着层12。第1部分系接着层12中位于载置于第1半导体芯片上之范围之部分。第2部分系接着层12中位于第1部分之周围之部分。介隔接着层12将第2半导体芯片接着于基板10。