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    • 1. 发明专利
    • 顯像管遮蔽屏用鑄造片、其熱處理方法及顯像管遮蔽屏用材料
    • 显像管屏蔽屏用铸造片、其热处理方法及显像管屏蔽屏用材料
    • TW524856B
    • 2003-03-21
    • TW089110318
    • 2000-05-26
    • 東洋鋼鈑股份有限公司日本冶金工業股份有限公司
    • 森田 俊一佐藤 台三上利 淳大森 勉伊藤 辰哉平田 茂
    • C22C
    • 藉由發現鑄造組織與凝固時的成分偏析之關係、及配合該偏析狀態之熱處理條件,提供出習知技術未能達成的高度減輕偏析技術,亦即條紋斑點品級優越的顯像管遮蔽屏用材料。以供製造由含有30~45%Ni之Ni~Fe合金而成的顯像管遮蔽屏而用的鑄造片之鑄造組織的99%以上作為由柱狀晶及/或激冷細晶体而成者。又,以不含等軸晶之鑄造片較合適。因此,採用不進行電磁攪拌、且保持鑄造片內未凝固部之熔鍛溫度在液相線以上,同時採用操作的連續鑄造法。再者,採用所得的鑄造片,於以K值為150μm以上的溫度及時間,施加熱處理使Ni偏析擴散。
    • 借由发现铸造组织与凝固时的成分偏析之关系、及配合该偏析状态之热处理条件,提供出习知技术未能达成的高度减轻偏析技术,亦即条纹斑点品级优越的显像管屏蔽屏用材料。以供制造由含有30~45%Ni之Ni~Fe合金而成的显像管屏蔽屏而用的铸造片之铸造组织的99%以上作为由柱状晶及/或激冷细晶体而成者。又,以不含等轴晶之铸造片较合适。因此,采用不进行电磁搅拌、且保持铸造片内未凝固部之熔锻温度在液相线以上,同时采用操作的连续铸造法。再者,采用所得的铸造片,于以K值为150μm以上的温度及时间,施加热处理使Ni偏析扩散。