专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW200932431A 研磨墊之製造方法审中-公开
简体标题：研磨垫之制造方法
公开(公告)号：TW200932431A
公开(公告)日：2009-08-01
申请号：TW097118661
申请日：2008-05-21
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司 TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
发明人：佐藤彰則 SATO, AKINORI , 廣瀨純司 HIROSE, JUNJI , 中村賢治 NAKAMURA, KENJI , 福田武司 FUKUDA, TAKESHI , 堂浦真人 DOURA, MASATO
IPC分类号： B24D , B32B
CPC分类号： B24D18/00 , B24B37/205 , Y10T428/24322 , Y10T428/24331 , Y10T428/24364
摘要：本發明之目的係於提供一種研磨墊之製造方法,該研磨墊可防止來自研磨區與透光區之間研磨漿之漏出,具有優異的光學檢測精度。本發明係有關於一種研磨墊之製造方法,包含有以下步驟,即:藉機械發泡法,調製氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物;一邊送出面材,或一邊移動輸送帶,一邊在該面材上或輸送帶上之預定位置配置透光區;朝未配置前述透光區之前述面材或輸送帶上,連續吐出前述氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物;在所吐出之前述氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物上堆疊另一面材或輸送帶;一邊調整厚度使其均勻,一邊使前述氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物固化,形成由聚胺酯發泡體構成之研磨區,製作研磨薄片;在前述研磨薄片之一面塗佈含有脂肪族/或脂環族聚異氰酸酯之聚胺酯樹脂塗料,使其固化,形成不透水性膜;及,裁斷前述研磨墊。
简体摘要：本发明之目的系于提供一种研磨垫之制造方法,该研磨垫可防止来自研磨区与透光区之间研磨浆之漏出,具有优异的光学检测精度。本发明系有关于一种研磨垫之制造方法,包含有以下步骤,即:借机械发泡法,调制气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物;一边送出面材,或一边移动输送带,一边在该面材上或输送带上之预定位置配置透光区;朝未配置前述透光区之前述面材或输送带上,连续吐出前述气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物;在所吐出之前述气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物上堆栈另一面材或输送带;一边调整厚度使其均匀,一边使前述气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物固化,形成由聚胺酯发泡体构成之研磨区,制作研磨薄片;在前述研磨薄片之一面涂布含有脂肪族/或脂环族聚异氰酸酯之聚胺酯树脂涂料,使其固化,形成不透水性膜;及,裁断前述研磨垫。

2. 发明专利

TW200906926A 研磨墊之製造方法审中-公开
简体标题：研磨垫之制造方法
公开(公告)号：TW200906926A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097117539
申请日：2008-05-13
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司 TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
发明人：堂浦真人 DOURA, MASATO , 廣純司 HIROSE, JUNJI , 中村賢治 NAKAMURA, KENJI , 福田武司 FUKUDA, TAKESHI , 佐藤彰則 SATO, AKINORI
IPC分类号： C08J , H01L
CPC分类号： B24B37/205
摘要：本發明之目的係於提供一種製造研磨墊之方法,該研磨墊可防止研磨漿漏出,且光學檢測精度優異者。本發明之研磨墊之製造方法包含有以下步驟,即:在研磨層之研磨背面側形成用以注入透光區形成材料之凹槽;藉於前述凹槽注入透光區形成材料,使其固化,形成透光區;及,藉對研磨層之研磨表面側進行拋光,使前述透光區裸露於研磨表面。
简体摘要：本发明之目的系于提供一种制造研磨垫之方法,该研磨垫可防止研磨浆漏出,且光学检测精度优异者。本发明之研磨垫之制造方法包含有以下步骤,即:在研磨层之研磨背面侧形成用以注入透光区形成材料之凹槽;藉于前述凹槽注入透光区形成材料,使其固化,形成透光区;及,藉对研磨层之研磨表面侧进行抛光,使前述透光区裸露于研磨表面。

3. 发明专利

TW200902577A 研磨墊及其製造方法审中-公开
简体标题：研磨垫及其制造方法
公开(公告)号：TW200902577A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW096146036
申请日：2007-12-04
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司 TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
发明人：福田武司 FUKUDA, TAKESHI , 廣瀨純司 HIROSE, JUNJI , 中村賢治 NAKAMURA, KENJI , 堂浦真人 DOURA, MASATO , 佐藤彰則 SATO, AKINORI
IPC分类号： C08G , B24B , H01L
CPC分类号： B24B37/24 , B24D3/26 , B24D11/001
摘要：本發明之目的係提供一種耐久性優異且研磨層與基材層之接著性良好之研磨墊。第1之本發明係關於一種研磨墊,其係於基材層上設有研磨層者,其特徵在於:前述研磨層由具有平均氣泡徑為20~300��m之大致球狀連續氣泡之熱硬化性聚胺基甲酸酯發泡體構成,前述聚胺基甲酸酯發泡體含有異氰酸酯成分及含活性氫之化合物作為原料成分,前述含活性氫之化合物含有30~85重量%之官能基數2~4、羥價20~100mgKOH/g之高分子量多元醇。
简体摘要：本发明之目的系提供一种耐久性优异且研磨层与基材层之接着性良好之研磨垫。第1之本发明系关于一种研磨垫,其系于基材层上设有研磨层者,其特征在于:前述研磨层由具有平均气泡径为20~300��m之大致球状连续气泡之热硬化性聚胺基甲酸酯发泡体构成,前述聚胺基甲酸酯发泡体含有异氰酸酯成分及含活性氢之化合物作为原料成分,前述含活性氢之化合物含有30~85重量%之官能基数2~4、羟价20~100mgKOH/g之高分子量多元醇。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式