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1. 发明专利

TWI438171B 燒結體、濺鍍標靶及成形模以及使用它的燒結體製造方法有权
简体标题：烧结体、溅镀标靶及成形模以及使用它的烧结体制造方法
公开(公告)号：TWI438171B
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：TW101104357
申请日：2006-01-27
申请人：東曹股份有限公司 , TOSOH CORPORATION
发明人：伊藤謙一 , ITOH, KENICHI , 召田雅實 , MESUDA, MASAMI , 永山仁士 , NAGAYAMA, HITOSHI , 澀田見哲夫 , SHIBUTAMI, TETSUO , 八波俊祐 , YATSUNAMI, SHUNSUKE
IPC分类号： C04B35/594 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/00 , B22F2998/10 , B28B3/003 , B28B7/0097 , B30B15/024 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B35/4682 , C04B35/47 , C04B2235/3213 , C04B2235/3217 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/604 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/721 , C04B2235/77 , C23C14/086 , H01J37/3426 , Y10T428/266 , B22F5/007 , B22F3/04 , B22F3/10

2. 发明专利

TWI385139B 燒結體、濺鍍標靶及成形模以及使用它的燒結體製造方法有权
简体标题：烧结体、溅镀标靶及成形模以及使用它的烧结体制造方法
公开(公告)号：TWI385139B
公开(公告)日：2013-02-11
申请号：TW095103530
申请日：2006-01-27
申请人：東曹股份有限公司 , TOSOH CORPORATION
发明人：伊藤謙一 , ITOH, KENICHI , 召田雅實 , MESUDA, MASAMI , 永山仁士 , NAGAYAMA, HITOSHI , 澀田見哲夫 , SHIBUTAMI, TETSUO , 八波俊祐 , YATSUNAMI, SHUNSUKE
IPC分类号： C04B35/594 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/00 , B22F2998/10 , B28B3/003 , B28B7/0097 , B30B15/024 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B35/4682 , C04B35/47 , C04B2235/3213 , C04B2235/3217 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/604 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/721 , C04B2235/77 , C23C14/086 , H01J37/3426 , Y10T428/266 , B22F5/007 , B22F3/04 , B22F3/10

3. 发明专利

TW201250030A 氧化鋅系圓筒標靶及其製造方法 CYLINDRICAL TARGET OF ZINC OXIDE SERIES AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：氧化锌系圆筒标靶及其制造方法 CYLINDRICAL TARGET OF ZINC OXIDE SERIES AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201250030A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW100123543
申请日：2011-07-04
申请人：東曹股份有限公司
发明人：津吉徹 , 八波俊祐 , 高橋小彌太 , 益子仁
IPC分类号： C23C
摘要：本發明之目的，在於降低濺鍍成膜時之電弧或結核發生的同時，提供一種在高輸出成膜中亦具有高生產力之高密度、且可厚壁化之氧化鋅系圓筒標靶及其製造方法。在抑制高溫之電漿噴流中氧化鋅粉末之昇華的範圍內，使氧化鋅系粉末盡可能長時間停留，謀求該粉末之熔程度的提升，在熔融粉末之熔接堆積後，以裝設有可冷卻而迅速使噴敷標靶之表面溫度降為既定溫度以下的基板冷卻構造之噴槍噴敷氧化鋅系粉末，藉以獲得高密度且厚壁化之氧化鋅系圓筒標靶。
简体摘要：本发明之目的，在于降低溅镀成膜时之电弧或结核发生的同时，提供一种在高输出成膜中亦具有高生产力之高密度、且可厚壁化之氧化锌系圆筒标靶及其制造方法。在抑制高温之等离子喷流中氧化锌粉末之升华的范围内，使氧化锌系粉末尽可能长时间停留，谋求该粉末之熔程度的提升，在熔融粉末之熔接堆积后，以装设有可冷却而迅速使喷敷标靶之表面温度降为既定温度以下的基板冷却构造之喷枪喷敷氧化锌系粉末，借以获得高密度且厚壁化之氧化锌系圆筒标靶。

4. 发明专利

TW201228993A 燒結體、濺鍍標靶及成形模以及使用它的燒結體製造方法审中-公开
简体标题：烧结体、溅镀标靶及成形模以及使用它的烧结体制造方法
公开(公告)号：TW201228993A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW101104357
申请日：2006-01-27
申请人：東曹股份有限公司
发明人：伊藤謙一 , 召田雅實 , 永山仁士 , 澀田見哲夫 , 八波俊祐
IPC分类号： C04B , C23C
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/00 , B22F2998/10 , B28B3/003 , B28B7/0097 , B30B15/024 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B35/4682 , C04B35/47 , C04B2235/3213 , C04B2235/3217 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/604 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/721 , C04B2235/77 , C23C14/086 , H01J37/3426 , Y10T428/266 , B22F5/007 , B22F3/04 , B22F3/10
摘要：提供濺鍍標靶時的放電特性或所得到的薄膜的特性良好的大型濺鍍標靶。又，提供使用冷靜水壓壓機，未施以預備成形，就可直接得到形狀精度優異的大型成形體，而將可得到上述良好濺鍍標靶的燒結體加以可低成本地有效率地製造的燒結體的製造方法。將作為不純物所含有的碳的含有量使用作為不足0.005重量%的燒結體來製造濺鍍標靶。又，此種燒結體，是未添加含有有機物的黏結劑或成形助劑而直接藉由冷靜水壓壓機施以成形原料粉末之後，藉由施以燒成可得到。又，藉由使用具有在加壓壓縮時對於填充的原料粉末實質上僅從一軸方向施以加壓，在結束加壓後的減壓時對於成形體各向同性地可開放壓力的構造的成形模，成為可製造上述燒結體。又，良品率優異而容易地可製造將腐蝕領域的厚度加以加厚的大型標靶，而可提高標靶的使用效率。
简体摘要：提供溅镀标靶时的放电特性或所得到的薄膜的特性良好的大型溅镀标靶。又，提供使用冷静水压压机，未施以预备成形，就可直接得到形状精度优异的大型成形体，而将可得到上述良好溅镀标靶的烧结体加以可低成本地有效率地制造的烧结体的制造方法。将作为不纯物所含有的碳的含有量使用作为不足0.005重量%的烧结体来制造溅镀标靶。又，此种烧结体，是未添加含有有机物的黏结剂或成形助剂而直接借由冷静水压压机施以成形原料粉末之后，借由施以烧成可得到。又，借由使用具有在加压压缩时对于填充的原料粉末实质上仅从一轴方向施以加压，在结束加压后的减压时对于成形体各向同性地可开放压力的构造的成形模，成为可制造上述烧结体。又，良品率优异而容易地可制造将腐蚀领域的厚度加以加厚的大型标靶，而可提高标靶的使用效率。

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