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1. 发明专利

TWI673344B 氧化銦層蝕刻液組合物和利用其製造液晶顯示裝置的陣列基板的方法有权
简体标题：氧化铟层蚀刻液组合物和利用其制造液晶显示设备的数组基板的方法
公开(公告)号：TWI673344B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW104141109
申请日：2015-12-08
申请人：南韓商東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：權五柄 , KWON, O-BYOUNG , 鄭敬燮 , JUNG, KYUNG-SUB , 金相泰 , KIM, SANG-TAE , 朴鏞雲 , PARK, YONG-WOON , 李恩遠 , LEE, EUN-WON , 李智娟 , LEE, JI-YEON , 崔容碩 , CHOI, YONG-SUK
IPC分类号： C09K13/08 , H01L21/465 , H01L21/44 , G02F1/1333 , G02F1/1343

2. 发明专利

TWI681076B 蝕刻劑組合物和利用它形成金屬圖案的方法有权
简体标题：蚀刻剂组合物和利用它形成金属图案的方法
公开(公告)号：TWI681076B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW105104269
申请日：2016-02-15
申请人：南韓商東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：李智娟 , LEE, JI-YEON , 李恩遠 , LEE, EUN-WON , 金童基 , KIM, DONG-KI , 崔容碩 , CHOI, YONG-SUK
IPC分类号： C23F1/16 , C23F1/44 , C09K13/04 , H01L21/3213 , G06F3/041 , H01L27/12 , H01L29/786

3. 发明专利

TW201627473A 氧化銦層蝕刻液組合物和利用其製造液晶顯示裝置的陣列基板的方法审中-公开
简体标题：氧化铟层蚀刻液组合物和利用其制造液晶显示设备的数组基板的方法
公开(公告)号：TW201627473A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104141109
申请日：2015-12-08
申请人：東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：權五柄 , KWON, O-BYOUNG , 鄭敬燮 , JUNG, KYUNG-SUB , 金相泰 , KIM, SANG-TAE , 朴鏞雲 , PARK, YONG-WOON , 李恩遠 , LEE, EUN-WON , 李智娟 , LEE, JI-YEON , 崔容碩 , CHOI, YONG-SUK
IPC分类号： C09K13/08 , H01L21/465 , H01L21/44 , G02F1/1333 , G02F1/1343
摘要：本發明涉及氧化銦層蝕刻液組合物和利用其製造液晶顯示裝置的陣列基板的方法，更具體地說，涉及不包括硫酸鹽或乙酸鹽、而是包括硝酸、唑類化合物、含氟化合物和水的氧化銦層蝕刻液組合物，以及利用其製造液晶顯示裝置的陣列基板的方法。
简体摘要：本发明涉及氧化铟层蚀刻液组合物和利用其制造液晶显示设备的数组基板的方法，更具体地说，涉及不包括硫酸盐或乙酸盐、而是包括硝酸、唑类化合物、含氟化合物和水的氧化铟层蚀刻液组合物，以及利用其制造液晶显示设备的数组基板的方法。

4. 发明专利

TW201518545A 液晶顯示器用陣列基板的製造方法审中-公开
简体标题：液晶显示器用数组基板的制造方法
公开(公告)号：TW201518545A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103135696
申请日：2014-10-15
申请人：東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：權五柄 , KWON, O-BYOUNG , 李恩遠 , LEE, EUN-WON , 李智娟 , LEE, JI-YEON , 曺京花 , CHO, KYUNG-HWA
IPC分类号： C23F1/14 , C09K13/00 , H01L21/302 , H01L29/786
摘要：一種製造液晶顯示器用陣列基板的方法，該方法包括：a)在基板上形成柵線；b)在具有柵線的基板上形成柵絕緣層；c)在柵絕緣層上形成半導體層；d)在半導體層上形成源極和漏極；以及e)形成與漏極連接的像素電極，其中，a)或d)步驟包括：在基板或半導體層上形成Cu基金屬膜，和藉由使用蝕刻劑組合物蝕刻Cu基金屬膜來形成柵線或源極和漏極，並且蝕刻劑組合物是用於Cu基金屬膜的蝕刻劑組合物，基於組合物的總重量，包括：5~25重量%的過氧化氫(H2O2)；0.1~5重量%的亞磷酸；0.01~1.0重量%的含氟化合物；0.1~5重量%的唑化合物；0.1~5重量%的在分子中具有N原子和羧基的水溶性化合物；0.1~5重量%的硫酸鹽化合物；以及餘量的水，以使得組合物的總重量為100重量%。
简体摘要：一种制造液晶显示器用数组基板的方法，该方法包括：a)在基板上形成栅线；b)在具有栅线的基板上形成栅绝缘层；c)在栅绝缘层上形成半导体层；d)在半导体层上形成源极和漏极；以及e)形成与漏极连接的像素电极，其中，a)或d)步骤包括：在基板或半导体层上形成Cu基金属膜，和借由使用蚀刻剂组合物蚀刻Cu基金属膜来形成栅线或源极和漏极，并且蚀刻剂组合物是用于Cu基金属膜的蚀刻剂组合物，基于组合物的总重量，包括：5~25重量%的过氧化氢(H2O2)；0.1~5重量%的亚磷酸；0.01~1.0重量%的含氟化合物；0.1~5重量%的唑化合物；0.1~5重量%的在分子中具有N原子和羧基的水溶性化合物；0.1~5重量%的硫酸盐化合物；以及余量的水，以使得组合物的总重量为100重量%。

5. 发明专利

TWI615508B 用於銅基金屬膜的蝕刻劑組合物、液晶顯示器用陣列基板的製造方法及液晶顯示器用陣列基板有权
简体标题：用于铜基金属膜的蚀刻剂组合物、液晶显示器用数组基板的制造方法及液晶显示器用数组基板
公开(公告)号：TWI615508B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW103135696
申请日：2014-10-15
申请人：東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：權五柄 , KWON, O-BYOUNG , 李恩遠 , LEE, EUN-WON , 李智娟 , LEE, JI-YEON , 曺京花 , CHO, KYUNG-HWA
IPC分类号： C23F1/14 , C09K13/00 , H01L21/302 , H01L29/786

6. 发明专利

TW201638391A 蝕刻劑組合物和利用它形成金屬圖案的方法审中-公开
简体标题：蚀刻剂组合物和利用它形成金属图案的方法
公开(公告)号：TW201638391A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105104269
申请日：2016-02-15
申请人：東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：李智娟 , LEE, JI-YEON , 李恩遠 , LEE, EUN-WON , 金童基 , KIM, DONG-KI , 崔容碩 , CHOI, YONG-SUK
IPC分类号： C23F1/16 , C23F1/44 , C09K13/04 , H01L21/3213 , G06F3/041 , H01L27/12 , H01L29/786
摘要：本發明公開了蝕刻劑組合物和利用它形成金屬圖案的方法，所述蝕刻劑組合物包含磷酸、硝酸、乙酸、硫酸和水以便蝕刻包含鋁合金和鉬合金的多層。所述蝕刻劑組合物能夠一步蝕刻被構造成順序形成鉬合金層、鋁合金層、鉬合金層和鉬合金氧化物層的多層，並可防止光刻膠破裂和尖端形成。
简体摘要：本发明公开了蚀刻剂组合物和利用它形成金属图案的方法，所述蚀刻剂组合物包含磷酸、硝酸、乙酸、硫酸和水以便蚀刻包含铝合金和钼合金的多层。所述蚀刻剂组合物能够一步蚀刻被构造成顺序形成钼合金层、铝合金层、钼合金层和钼合金氧化物层的多层，并可防止光刻胶破裂和尖端形成。

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