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1. 发明专利

TWI673573B 阻劑圖型形成裝置及阻劑圖型形成方法有权
简体标题：阻剂图型形成设备及阻剂图型形成方法
公开(公告)号：TWI673573B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW104126991
申请日：2015-08-19
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/40 , H01L21/027

2. 发明专利

TW201843699A 紫外線照射裝置及紫外線照射方法审中-公开
简体标题：紫外线照射设备及紫外线照射方法
公开(公告)号：TW201843699A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107100605
申请日：2018-01-08
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 小西清孝 , KONISHI, KIYOTAKA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/027
摘要：本發明的課題是在於提供一種可效率佳地照射紫外線之紫外線照射裝置及紫外線照射方法。　　其解決手段是有關紫外線照射裝置，具備：　　基板收容部，其係可在密閉空間收容基板；　　照射部，其係將預定的波長域的紫外線照射至基板；　　透光性構件，其係被設在基板收容部，使從照射部照射的紫外線透過；　　保持構件，其係將透光性構件保持於基板收容部；及　　驅動裝置，其係使基板收容部與照射部相對移動，　　保持構件與透光性構件所平面性重疊的比例為透光性基板的面積的10%以下。
简体摘要：本发明的课题是在于提供一种可效率佳地照射紫外线之紫外线照射设备及紫外线照射方法。　　其解决手段是有关紫外线照射设备，具备：　　基板收容部，其系可在密闭空间收容基板；　　照射部，其系将预定的波长域的紫外线照射至基板；　　透光性构件，其系被设在基板收容部，使从照射部照射的紫外线透过；　　保持构件，其系将透光性构件保持于基板收容部；及　　驱动设备，其系使基板收容部与照射部相对移动，　　保持构件与透光性构件所平面性重叠的比例为透光性基板的面积的10%以下。

3. 发明专利

TWI680358B 光阻圖型形成裝置及光阻圖型形成方法有权
简体标题：光阻图型形成设备及光阻图型形成方法
公开(公告)号：TWI680358B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW104126990
申请日：2015-08-19
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/38

4. 发明专利

TW201631412A 阻劑圖型形成裝置及阻劑圖型形成方法审中-公开
简体标题：阻剂图型形成设备及阻剂图型形成方法
公开(公告)号：TW201631412A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104126990
申请日：2015-08-19
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/38
摘要：本發明課題為提供一種可形成耐熱性及耐久性優異的負型阻劑圖型之阻劑圖型形成裝置及阻劑圖型形成方法。課題解決手段關於一種阻劑圖型形成裝置，其係具備：塗佈負型阻劑組成物而在基板上形成阻劑膜之塗佈裝置；進行阻劑膜的顯像處理而形成預圖型之顯像裝置；將顯像後的預圖型加熱之加熱裝置；在低氧氣體環境內，對加熱後的預圖型進行照光處理之照光裝置。
简体摘要：本发明课题为提供一种可形成耐热性及耐久性优异的负型阻剂图型之阻剂图型形成设备及阻剂图型形成方法。课题解决手段关于一种阻剂图型形成设备，其系具备：涂布负型阻剂组成物而在基板上形成阻剂膜之涂布设备；进行阻剂膜的显像处理而形成预图型之显像设备；将显像后的预图型加热之加热设备；在低氧气体环境内，对加热后的预图型进行照光处理之照光设备。

5. 发明专利

TW201735123A 紫外線照射裝置及紫外線照射方法审中-公开
简体标题：紫外线照射设备及紫外线照射方法
公开(公告)号：TW201735123A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105139930
申请日：2016-12-02
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 小針倫 , KOBARI, SATOSHI , 小西清孝 , KONISHI, KIYOTAKA , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/263 , H01L21/027 , H01L21/31
摘要：本發明是關於紫外線照射裝置及紫外線照射方法。本發明的課題是提高將照射部的熱排出的配管的壽命。實施方式的紫外線照射裝置包括：照射部，所述照射部能向基板照射紫外線；排氣部，所述排氣部具有能排出所述照射部的熱的配管；和移動部，所述移動部能使所述照射部及所述配管同步移動。
简体摘要：本发明是关于紫外线照射设备及紫外线照射方法。本发明的课题是提高将照射部的热排出的配管的寿命。实施方式的紫外线照射设备包括：照射部，所述照射部能向基板照射紫外线；排气部，所述排气部具有能排出所述照射部的热的配管；和移动部，所述移动部能使所述照射部及所述配管同步移动。

6. 发明专利

TWI570826B 貼附裝置有权
简体标题：贴附设备
公开(公告)号：TWI570826B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW102107269
申请日：2013-03-01
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：島井太 , SHIMAI, FUTOSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 丸山健治 , MARUYAMA, KENJI , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 千葉正樹 , CHIBA, MASAKI
IPC分类号： H01L21/67 , B30B15/00 , B65H37/04
CPC分类号： B65H35/0013 , B65H37/002 , B65H37/04 , B65H2301/5143 , H01L21/67132

7. 发明专利

TW201520057A 貼合裝置审中-公开
简体标题：贴合设备
公开(公告)号：TW201520057A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103119060
申请日：2014-05-30
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 千葉正樹 , CHIBA, MASAKI
IPC分类号： B32B41/00 , B05C13/02
摘要：本發明係關於一種貼合裝置，其係具備：薄膜搬送部、塗佈部、貼合部、位置檢測部、以及位置修正機構，該塗佈部係將塗佈液塗佈於薄膜；該貼合部係將薄膜貼合於基板；該位置檢測部，係檢測於貼合前的薄膜之在與搬送方向交叉的薄膜寬度方向上相對於基板的相對位置；該位置修正機構，係於薄膜之貼合時，至少根據位置檢測部的檢測結果來修正前述相對位置；及一種貼合裝置，其係具備：送出部、貼合部、捲取部、驅動部、檢測部、以及控制部，該送出部係將包含主薄膜材與保護材的長條狀薄膜送出；該貼合部，係於薄膜貼合位置將保護材從主薄膜材剝離並且僅將主薄膜材貼合於基板；該捲取部係將剝離後的保護材捲取；該驅動部係使捲取部旋轉驅動；該檢測部係檢測保護材之捲取直徑；該控制部，係根據檢測結果來控制驅動部以調整捲取部的旋轉轉矩；以及一種貼合裝置，其係具備：搬送部、塗佈部、刀具部、貼合部、以及抵接部，該搬送部係將包含主薄膜材與保護材的薄膜進行搬送；該塗佈部係將塗佈液塗佈於主薄膜材上；該刀具部係將塗佈有塗佈液的主薄膜材切斷成既定的長度；該貼合部，係於薄膜貼合位置將保護材剝離並且僅將主薄膜材透過塗佈液貼合於基板上面；該抵接部，係設置於薄膜貼合位置的附近且比位於薄膜貼合位置之基板的上面更低的位置，並抵接於貼合有主薄膜材的基板上面。
简体摘要：本发明系关于一种贴合设备，其系具备：薄膜搬送部、涂布部、贴合部、位置检测部、以及位置修正机构，该涂布部系将涂布液涂布于薄膜；该贴合部系将薄膜贴合于基板；该位置检测部，系检测于贴合前的薄膜之在与搬送方向交叉的薄膜宽度方向上相对于基板的相对位置；该位置修正机构，系于薄膜之贴合时，至少根据位置检测部的检测结果来修正前述相对位置；及一种贴合设备，其系具备：送出部、贴合部、卷取部、驱动部、检测部、以及控制部，该送出部系将包含主薄膜材与保护材的长条状薄膜送出；该贴合部，系于薄膜贴合位置将保护材从主薄膜材剥离并且仅将主薄膜材贴合于基板；该卷取部系将剥离后的保护材卷取；该驱动部系使卷取部旋转驱动；该检测部系检测保护材之卷取直径；该控制部，系根据检测结果来控制驱动部以调整卷取部的旋转转矩；以及一种贴合设备，其系具备：搬送部、涂布部、刀具部、贴合部、以及抵接部，该搬送部系将包含主薄膜材与保护材的薄膜进行搬送；该涂布部系将涂布液涂布于主薄膜材上；该刀具部系将涂布有涂布液的主薄膜材切断成既定的长度；该贴合部，系于薄膜贴合位置将保护材剥离并且仅将主薄膜材透过涂布液贴合于基板上面；该抵接部，系设置于薄膜贴合位置的附近且比位于薄膜贴合位置之基板的上面更低的位置，并抵接于贴合有主薄膜材的基板上面。

8. 发明专利

TWI688994B 紫外線照射裝置及紫外線照射方法有权
简体标题：紫外线照射设备及紫外线照射方法
公开(公告)号：TWI688994B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW105119004
申请日：2016-06-16
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO , 小西清孝 , KONISHI, KIYOTAKA , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/263 , H01L21/31

9. 发明专利

TWI663488B 阻劑圖型形成裝置及阻劑圖型形成方法有权
简体标题：阻剂图型形成设备及阻剂图型形成方法
公开(公告)号：TWI663488B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW104126989
申请日：2015-08-19
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/40

10. 发明专利

TW201709285A 紫外線照射裝置及紫外線照射方法审中-公开
简体标题：紫外线照射设备及紫外线照射方法
公开(公告)号：TW201709285A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105119004
申请日：2016-06-16
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO , 小西清孝 , KONISHI, KIYOTAKA , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/263 , H01L21/31
摘要：可抑制收容部內的顆粒的產生，將基板保持清淨。包含：可將基板以密閉空間而收容的收容部；設於前述收容部的外部，並可對前述基板照射紫外線的照射部；以及設於前述收容部的外部，並以前述紫外線從前述收容部的外部照射在收容於前述收容部的內部的前述基板的方式而使前述照射部在前述收容部的外部移動的移動部。
简体摘要：可抑制收容部内的颗粒的产生，将基板保持清净。包含：可将基板以密闭空间而收容的收容部；设于前述收容部的外部，并可对前述基板照射紫外线的照射部；以及设于前述收容部的外部，并以前述紫外线从前述收容部的外部照射在收容于前述收容部的内部的前述基板的方式而使前述照射部在前述收容部的外部移动的移动部。

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