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1. 发明专利

TWI264042B 乾燥空氣供給裝置及處理裝置失效
简体标题：干燥空气供给设备及处理设备
公开(公告)号：TWI264042B
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：TW092126021
申请日：2003-09-19
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED , 霓佳斯股份有限公司 NICHIAS CORPORATION
发明人：棚橋隆司 TAKASHI TANAHASHI , 淺野貴庸 ASANO, TAKANOBU , 中尾賢 KEN NAKAO , 山下勝宏 KATSUHIRO YAMASHITA
IPC分类号： H01L
CPC分类号： F24F3/1423 , B01D53/06 , B01D53/261 , B01D2253/108 , B01D2253/25 , B01D2253/3425 , B01D2257/70 , B01D2257/80 , B01D2259/40007 , B01D2259/40052 , B01D2259/4009 , F24F2203/1032 , F24F2203/1056 , F24F2203/1072 , F24F2203/1084 , F24F2203/1088 , F24F2203/1096
摘要：內裝承載吸附劑的蜂巢構造體25的兩個轉子18a，18b藉共用馬達19旋轉驅動。間隔構件17按照該間隔構件17與對應於該間隔構件的轉子間的旋轉位置關係劃分成吸附區S與再生區U。於吸附區S吸附劑自通過此處的空氣除去水份及有機物。於再生區U，使用加熱的乾燥空氣吸附水份及有機物，進行劣化的吸附劑的再生。自處理裝置1的搬送空間10抽吸的空氣通過循環路徑20，並依序通過二轉子的吸附區，此後，回到前述目的空間。將通過二轉子的吸附區的乾淨空氣的一部份導入排氣路徑21，藉加熱器加熱，通過二轉子的再生區。
简体摘要：内装承载吸附剂的蜂巢构造体25的两个转子18a，18b藉共享马达19旋转驱动。间隔构件17按照该间隔构件17与对应于该间隔构件的转子间的旋转位置关系划分成吸附区S与再生区U。于吸附区S吸附剂自通过此处的空气除去水份及有机物。于再生区U，使用加热的干燥空气吸附水份及有机物，进行劣化的吸附剂的再生。自处理设备1的搬送空间10抽吸的空气通过循环路径20，并依序通过二转子的吸附区，此后，回到前述目的空间。将通过二转子的吸附区的干净空气的一部份导入排气路径21，藉加热器加热，通过二转子的再生区。

2. 发明专利

TW200416782A 乾燥空氣供給裝置及處理裝置失效
简体标题：干燥空气供给设备及处理设备
公开(公告)号：TW200416782A
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：TW092126021
申请日：2003-09-19
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED , 霓佳斯股份有限公司 NICHIAS CORPORATION
发明人：棚橋隆司 , 淺野貴庸 , 中尾賢 KEN NAKAO , 山下勝宏 KATSUHIRO YAMASHITA
IPC分类号： H01L
CPC分类号： F24F3/1423 , B01D53/06 , B01D53/261 , B01D2253/108 , B01D2253/25 , B01D2253/3425 , B01D2257/70 , B01D2257/80 , B01D2259/40007 , B01D2259/40052 , B01D2259/4009 , F24F2203/1032 , F24F2203/1056 , F24F2203/1072 , F24F2203/1084 , F24F2203/1088 , F24F2203/1096
摘要：內裝承載吸附劑的蜂巢構造體25的兩個轉子18a，18b藉共用馬達19旋轉驅動。間隔構件17按照該間隔構件17與對應於該間隔構件的轉子間的旋轉位置關係劃分成吸附S與再生區L1。於吸附區S吸附劑自通過此處的空氣除去水份及有機物。於再生區，使用加熱的乾燥空氣吸附水份及有機物，進行劣化的吸附劑的再生。自處理裝置1的搬送空間10抽吸的空氣通過循環路徑20，並依序通過二轉子的吸附區，此後，回到前述目的空間。將通過二轉子的吸附區的乾淨空氣的一部份導入排氣路徑21，藉加熱器加熱，通過二轉子的再生區。
简体摘要：内装承载吸附剂的蜂巢构造体25的两个转子18a，18b藉共享马达19旋转驱动。间隔构件17按照该间隔构件17与对应于该间隔构件的转子间的旋转位置关系划分成吸附S与再生区L1。于吸附区S吸附剂自通过此处的空气除去水份及有机物。于再生区，使用加热的干燥空气吸附水份及有机物，进行劣化的吸附剂的再生。自处理设备1的搬送空间10抽吸的空气通过循环路径20，并依序通过二转子的吸附区，此后，回到前述目的空间。将通过二转子的吸附区的干净空气的一部份导入排气路径21，藉加热器加热，通过二转子的再生区。

3. 发明专利

TWI244140B 熱處理裝置失效
简体标题：热处理设备
公开(公告)号：TWI244140B
公开(公告)日：2005-11-21
申请号：TW091134189
申请日：2002-11-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：齋藤孝規 SAITOM, TAKANORI , 山賀健一 YAMAGA, KENICHI , 中尾賢 KEN NAKAO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109
摘要：本發明係關於一種熱處理裝置；也就是說，本發明之熱處理裝置，其特徵為：具備：筒狀處理容器、呈多段式地保持複數個被處理體同時可自由插卸於前述處理容器內之被處理體保持手段、將既定處理氣體導入至前述處理容器內之處理氣體導入手段、在設置於前述處理容器內部且前述被處理體保持手段插入至前述處理容器內時而對於前述被處理體保持手段所保持之複數個被處理體進行加熱之加熱手段、以及冷卻前述處理容器外壁面之容器冷卻手段。
简体摘要：本发明系关于一种热处理设备；也就是说，本发明之热处理设备，其特征为：具备：筒状处理容器、呈多段式地保持复数个被处理体同时可自由插卸于前述处理容器内之被处理体保持手段、将既定处理气体导入至前述处理容器内之处理气体导入手段、在设置于前述处理容器内部且前述被处理体保持手段插入至前述处理容器内时而对于前述被处理体保持手段所保持之复数个被处理体进行加热之加热手段、以及冷却前述处理容器外壁面之容器冷却手段。

4. 发明专利

TW200305226A 縱型熱處理裝置失效
简体标题：纵型热处理设备
公开(公告)号：TW200305226A
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：TW091134645
申请日：2002-11-28
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：門部雅人 , 中尾賢 KEN NAKAO , 山賀健一
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109 , C23C16/46
摘要：本發明使加熱器元件之更換等之維護作業容易，達到維護性之提昇。本發明之裝置具備為了收納多數之被處理體w而熱處理之處理容器4、覆蓋該處理容器4之周圍之筒狀之加熱器6、設置該加熱器6之加熱器設置部7和從一側可維護地收納前述加熱器6之框體11，前述加熱器具有各個可更換之複數加熱器元件31，在前數加熱器設置部7設置著可旋轉地支持加熱部6之旋轉支持機構40。
简体摘要：本发明使加热器组件之更换等之维护作业容易，达到维护性之提升。本发明之设备具备为了收纳多数之被处理体w而热处理之处理容器4、覆盖该处理容器4之周围之筒状之加热器6、设置该加热器6之加热器设置部7和从一侧可维护地收纳前述加热器6之框体11，前述加热器具有各个可更换之复数加热器组件31，在前数加热器设置部7设置着可旋转地支持加热部6之旋转支持机构40。

5. 发明专利

TWI256087B 熱處理裝置有权
简体标题：热处理设备
公开(公告)号：TWI256087B
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：TW092126326
申请日：2003-09-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：齋藤孝規 SAITO, TAKANORI , 山賀健一 YAMAGA, KENICHI , 中尾賢 KEN NAKAO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109
摘要：本發明之熱處理裝置具備加熱爐本體，其於上端具有開口部；反應管，其收容於上述加熱爐本體內部，由單一管構成；排氣機構連接部，其以狹徑狀形成於上述反應管上部；被處理基板支持構件，其收容於上述加熱爐本體內部，支持被處理基板；及加熱機構，其加熱由上述被處理基板支持構件支持之被處理基板。上述加熱機構具有第1加熱部，其配置於上述反應管周圍；第2加熱部，其配置於上述排氣機構連接部周圍；第3加熱部，其配置於上述反應管上方部周圍；第4加熱部，其配置於上述反應管下方部周圍；及第5加熱部，其配置於上述被處理基板支持構件下部。
简体摘要：本发明之热处理设备具备加热炉本体，其于上端具有开口部；反应管，其收容于上述加热炉本体内部，由单一管构成；排气机构连接部，其以狭径状形成于上述反应管上部；被处理基板支持构件，其收容于上述加热炉本体内部，支持被处理基板；及加热机构，其加热由上述被处理基板支持构件支持之被处理基板。上述加热机构具有第1加热部，其配置于上述反应管周围；第2加热部，其配置于上述排气机构连接部周围；第3加热部，其配置于上述反应管上方部周围；第4加热部，其配置于上述反应管下方部周围；及第5加热部，其配置于上述被处理基板支持构件下部。

6. 发明专利

TW200303586A 熱處理裝置失效
简体标题：热处理设备
公开(公告)号：TW200303586A
公开(公告)日：2003-09-01
申请号：TW091134189
申请日：2002-11-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：齋藤孝規 TAKANORI SAITO , 山賀健一 , 中尾賢 KEN NAKAO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109
摘要：本發明係關於一種熱處理裝置；也就是說，本發明之熱處理裝置，其特徵為：具備：筒狀處理容器、呈多段式地保持複數個被處理體同時可自由插卸於前述處理容器內之被處理體保持手段、將既定處理氣體導入至前述處理容器內之處理氣體導入手段、在設置於前述處理容器內部且前述被處理體保持手段插入至前述處理容器內時而對於前述被處理體保持手段所保持之複數個被處理體進行加熱之加熱手段、以及冷卻前述處理容器外壁面之容器冷卻手段。
简体摘要：本发明系关于一种热处理设备；也就是说，本发明之热处理设备，其特征为：具备：筒状处理容器、呈多段式地保持复数个被处理体同时可自由插卸于前述处理容器内之被处理体保持手段、将既定处理气体导入至前述处理容器内之处理气体导入手段、在设置于前述处理容器内部且前述被处理体保持手段插入至前述处理容器内时而对于前述被处理体保持手段所保持之复数个被处理体进行加热之加热手段、以及冷却前述处理容器外壁面之容器冷却手段。

7. 发明专利

TWI256691B 縱型熱處理裝置失效
简体标题：纵型热处理设备
公开(公告)号：TWI256691B
公开(公告)日：2006-06-11
申请号：TW091134645
申请日：2002-11-28
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：門部雅人 , 中尾賢 KEN NAKAO , 山賀健一 YAMAGA, KENICHI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109 , C23C16/46
摘要：本發明使加熱器元件之更換等之維護作業容易，達到維護性之提昇。
本發明之裝置具備為了收納多數之被處理體w而熱處理之處理容器4、覆蓋該處理容器4之周圍之筒狀之加熱器6、設置該加熱器6之加熱器設置部7和從一側可維護地收納前述加熱器6之框體11，前述加熱器具有各個可更換之複數加熱器元件31，在前述加熱器設置部7設置著可旋轉地支持加熱器6之旋轉支持機構40。
简体摘要：本发明使加热器组件之更换等之维护作业容易，达到维护性之提升。本发明之设备具备为了收纳多数之被处理体w而热处理之处理容器4、覆盖该处理容器4之周围之筒状之加热器6、设置该加热器6之加热器设置部7和从一侧可维护地收纳前述加热器6之框体11，前述加热器具有各个可更换之复数加热器组件31，在前述加热器设置部7设置着可旋转地支持加热器6之旋转支持机构40。

8. 发明专利

TW200408009A 熱處理裝置审中-公开
简体标题：热处理设备
公开(公告)号：TW200408009A
公开(公告)日：2004-05-16
申请号：TW092126326
申请日：2003-09-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：齋藤孝規 SAITO, TAKANORI , 山賀健一 YAMAGA, KENICHI , 中尾賢 KEN NAKAO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109
摘要：本發明之熱處理裝置具備加熱爐本體，其於上端具有開口部；反應管，其收容於上述加熱爐本體內部，由單一管構成；排氣機構連接部，其以狹徑狀形成於上述反應管上部；被處理基板支持構件，其收容於上述加熱爐本體內部，支持被處理基板；及加熱機構，其加熱由上述被處理基板支持構件支持之被處理基板。上述加熱機構具有第1加熱部，其配置於上述反應管周圍；第2加熱部，其配置於上述排氣機構連接部周圍；第3加熱部，其配置於上述反應管上方部周圍；第4加熱部，其配置於上述反應管下方部周圍；及第5加熱部，其配置於上述被處理基板支持構件下部。
简体摘要：本发明之热处理设备具备加热炉本体，其于上端具有开口部；反应管，其收容于上述加热炉本体内部，由单一管构成；排气机构连接部，其以狭径状形成于上述反应管上部；被处理基板支持构件，其收容于上述加热炉本体内部，支持被处理基板；及加热机构，其加热由上述被处理基板支持构件支持之被处理基板。上述加热机构具有第1加热部，其配置于上述反应管周围；第2加热部，其配置于上述排气机构连接部周围；第3加热部，其配置于上述反应管上方部周围；第4加热部，其配置于上述反应管下方部周围；及第5加热部，其配置于上述被处理基板支持构件下部。

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