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1. 发明专利

TWI244140B 熱處理裝置失效
简体标题：热处理设备
公开(公告)号：TWI244140B
公开(公告)日：2005-11-21
申请号：TW091134189
申请日：2002-11-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：齋藤孝規 SAITOM, TAKANORI , 山賀健一 YAMAGA, KENICHI , 中尾賢 KEN NAKAO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109
摘要：本發明係關於一種熱處理裝置；也就是說，本發明之熱處理裝置，其特徵為：具備：筒狀處理容器、呈多段式地保持複數個被處理體同時可自由插卸於前述處理容器內之被處理體保持手段、將既定處理氣體導入至前述處理容器內之處理氣體導入手段、在設置於前述處理容器內部且前述被處理體保持手段插入至前述處理容器內時而對於前述被處理體保持手段所保持之複數個被處理體進行加熱之加熱手段、以及冷卻前述處理容器外壁面之容器冷卻手段。
简体摘要：本发明系关于一种热处理设备；也就是说，本发明之热处理设备，其特征为：具备：筒状处理容器、呈多段式地保持复数个被处理体同时可自由插卸于前述处理容器内之被处理体保持手段、将既定处理气体导入至前述处理容器内之处理气体导入手段、在设置于前述处理容器内部且前述被处理体保持手段插入至前述处理容器内时而对于前述被处理体保持手段所保持之复数个被处理体进行加热之加热手段、以及冷却前述处理容器外壁面之容器冷却手段。

2. 发明专利

TW200936975A 冷卻裝置及使用該冷卻裝置之熱處理裝置审中-公开
简体标题：冷却设备及使用该冷却设备之热处理设备
公开(公告)号：TW200936975A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097144136
申请日：2003-02-27
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：齋藤孝規 SAITOM, TAKANORI , 山賀健一 YAMAGA, KENICHI
IPC分类号： F27B , H01L
CPC分类号： H01L21/67109
摘要：本發明之熱處理裝置(50)具有遮蓋處理容器(56)及加熱器(100)之冷卻筒。冷卻筒具有筒狀的基體構件(110)、及呈螺旋狀捲繞在該外周面之冷卻管(112)。冷卻管(112)則是焊接於基體構件(110)。
简体摘要：本发明之热处理设备(50)具有遮盖处理容器(56)及加热器(100)之冷却筒。冷却筒具有筒状的基体构件(110)、及呈螺旋状卷绕在该外周面之冷却管(112)。冷却管(112)则是焊接于基体构件(110)。

3. 发明专利

TW571336B 熱處理裝置失效
简体标题：热处理设备
公开(公告)号：TW571336B
公开(公告)日：2004-01-11
申请号：TW091121794
申请日：2002-09-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：齋藤孝規 SAITOM, TAKANORI , 長內長榮 OSANAI, HISAEI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109 , F27B5/14 , F27B5/16
摘要：本發明為一種熱處理裝置，其特徵為，具有收容被處理體的反應室，以及以包圍住上述反應室的方式來設置的隔熱體，以及設置於上述隔熱體的多數的孔，以及設置於上述各個孔的內部的多數的環狀隔離材(Spacer)，以及插入於上述各個多數的環狀隔離材內之多數的發熱線管(Heater Element)。
简体摘要：本发明为一种热处理设备，其特征为，具有收容被处理体的反应室，以及以包围住上述反应室的方式来设置的隔热体，以及设置于上述隔热体的多数的孔，以及设置于上述各个孔的内部的多数的环状隔离材(Spacer)，以及插入于上述各个多数的环状隔离材内之多数的发热线管(Heater Element)。

4. 发明专利

TWI310213B 冷卻裝置及使用該冷卻裝置之熱處理裝置有权
简体标题：冷却设备及使用该冷却设备之热处理设备
公开(公告)号：TWI310213B
公开(公告)日：2009-05-21
申请号：TW092104292
申请日：2003-02-27
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：齋藤孝規 SAITOM, TAKANORI , 山賀健一 YAMAGA, KENICHI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109
摘要：本發明之熱處理裝置(50)具有遮蓋處理容器(56)及加熱器(100)之冷卻筒。冷卻筒具有筒狀的基體構件(110)、及呈螺旋狀捲繞在該外周面之冷卻管(112)。冷卻管(112)則是焊接於基體構件(110)。
简体摘要：本发明之热处理设备(50)具有遮盖处理容器(56)及加热器(100)之冷却筒。冷却筒具有筒状的基体构件(110)、及呈螺旋状卷绕在该外周面之冷却管(112)。冷却管(112)则是焊接于基体构件(110)。

5. 发明专利

TWI248129B 熱處理裝置失效
简体标题：热处理设备
公开(公告)号：TWI248129B
公开(公告)日：2006-01-21
申请号：TW091106048
申请日：2002-03-27
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：牧谷敏幸 MAKIYA, TOSHIYUKI , 齋藤孝規 SAITOM, TAKANORI , 香留樹愛克曼 KARUKI, EICKMANN , 珊吉.高紗 KAUSHAL, SANJEEV , 安東尼.迪普 DIP, ANTHONY , 大衛.歐米拉 O'MEARA, DAVID L.
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G01K7/04 , G01K1/20
摘要：在配置於熱處理裝置的處理容器1內的熱電偶42表面配設反射防止膜50，改善熱電偶42的過渡響應特性。在典型的實施形態中，熱電偶42係結合鉑元線43A以及鉑銠合金元線43B而成，反射防止膜50係依次疊層氮化矽層50C、矽層50B以及氮化矽層50A而構成。
简体摘要：在配置于热处理设备的处理容器1内的热电偶42表面配设反射防止膜50，改善热电偶42的过渡响应特性。在典型的实施形态中，热电偶42系结合铂元线43A以及铂铑合金元线43B而成，反射防止膜50系依次叠层氮化硅层50C、硅层50B以及氮化硅层50A而构成。

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