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2. 发明专利

TW201009983A 半導體製造裝置之洗淨裝置及洗淨方法审中-公开
简体标题：半导体制造设备之洗净设备及洗净方法
公开(公告)号：TW201009983A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW098125137
申请日：2009-07-27
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：小久保峰幸 , 山涌純 , 守屋剛
IPC分类号： H01L , B08B
CPC分类号： B08B3/10 , B08B13/00 , B08B2230/01
摘要：本發明係提供一種較習知技術可更有效率地進行洗淨作業，且可獲得更高洗淨效果的半導體製造裝置之洗淨裝置及洗淨方法，半導體製造裝置之洗淨裝置係具備有：由純水產生純水蒸氣的純水蒸氣產生容器、將純水蒸氣供給至被洗淨部位的供給口、連接該純水蒸氣產生容器與該供給口的供給管線、將已用於洗淨的使用後蒸氣自被洗淨部位處回收的回收口、將該使用後蒸氣凝結而回收的回收容器、以及連接該回收口與該回收容器的回收管線。
简体摘要：本发明系提供一种较习知技术可更有效率地进行洗净作业，且可获得更高洗净效果的半导体制造设备之洗净设备及洗净方法，半导体制造设备之洗净设备系具备有：由纯水产生纯水蒸气的纯水蒸气产生容器、将纯水蒸气供给至被洗净部位的供给口、连接该纯水蒸气产生容器与该供给口的供给管线、将已用于洗净的使用后蒸气自被洗净部位处回收的回收口、将该使用后蒸气凝结而回收的回收容器、以及连接该回收口与该回收容器的回收管线。

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