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1. 发明专利

TW201139901A 調整閥裝置失效
简体标题：调整阀设备
公开(公告)号：TW201139901A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW099138276
申请日：2010-11-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , 富士金股份有限公司 , 國立大學法人東北大學
发明人：金子裕是 , 八木靖司 , 小野裕司 , 谷川毅 , 池田信一 , 大見忠弘 , 白井泰雪 , 山路道雄
IPC分类号： F16K
CPC分类号： F16K31/126 , F16K1/34 , F16K25/005 , Y10T137/776
摘要：本發明係提供一種可提高閥之開閉精度之調整閥裝置。該調整閥裝置係具有:閥體,係具有閥體頭部;動力傳遞構件,係對閥體傳遞動力;閥箱,係將閥體以可滑動之方式內設之;第1波紋管,係相對於動力傳遞構件而在與閥體呈相反側之位置形成有第1空間;第2波紋管,係相對於動力傳遞構件而在閥體側之位置形成有第2空間;第1配管,係與第1空間連通著;以及第2配管,係與第2空間連通著。依照被供給至第1空間與第2空間之工作流體的壓力比率而從動力傳遞構件對閥體傳遞動力,以利用閥體頭部來將形成於閥箱之搬運流路加以開閉。閥體頭部係比該閥體頭部所相接之搬運流路的閥座面之維氏硬度為硬,其硬度差為約200~300Hv。
简体摘要：本发明系提供一种可提高阀之开闭精度之调整阀设备。该调整阀设备系具有:阀体,系具有阀体头部;动力传递构件,系对阀体传递动力;阀箱,系将阀体以可滑动之方式内设之;第1波纹管,系相对于动力传递构件而在与阀体呈相反侧之位置形成有第1空间;第2波纹管,系相对于动力传递构件而在阀体侧之位置形成有第2空间;第1配管,系与第1空间连通着;以及第2配管,系与第2空间连通着。依照被供给至第1空间与第2空间之工作流体的压力比率而从动力传递构件对阀体传递动力,以利用阀体头部来将形成于阀箱之搬运流路加以开闭。阀体头部系比该阀体头部所相接之搬运流路的阀座面之维氏硬度为硬,其硬度差为约200~300Hv。

2. 发明专利

TW201102548A 調整閥裝置失效
简体标题：调整阀设备
公开(公告)号：TW201102548A
公开(公告)日：2011-01-16
申请号：TW099107631
申请日：2010-03-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , 富士金股份有限公司 , 國立大學法人東北大學
发明人：池田信一 , 山路道雄 , 谷川毅 , 金子裕是 , 八木靖司 , 小野裕司 , 大見忠弘 , 白井泰雪
IPC分类号： F16K , C23C
CPC分类号： F16K31/126 , F16K31/1268 , F16K41/10
摘要：本發明提供一種調整閥裝置，其係藉由作動流體來將閥體開閉。閥體為利用閥軸將閥體頭部與閥體身部加以連結之構造。閥箱係可滑動地內建有閥體與動力傳輸組件。第1風箱係藉由固著於動力傳輸組件及閥箱，且相對於動力傳輸組件而在與閥體相反側的位置處形成有第1空間。第2風箱係藉由固著於動力傳輸組件及閥箱，且相對於該動力傳輸組件而在閥體側的位置處形成有第2空間。配合從第1配管供給至第1空間之空氣與從第2配管被供給至第2空間之空氣的比率，而從動力傳輸組件將動力傳輸至閥體頭部，以將搬送通道開閉。
简体摘要：本发明提供一种调整阀设备，其系借由作动流体来将阀体开闭。阀体为利用阀轴将阀体头部与阀体身部加以链接之构造。阀箱系可滑动地内置有阀体与动力传输组件。第1风箱系借由固着于动力传输组件及阀箱，且相对于动力传输组件而在与阀体相反侧的位置处形成有第1空间。第2风箱系借由固着于动力传输组件及阀箱，且相对于该动力传输组件而在阀体侧的位置处形成有第2空间。配合从第1配管供给至第1空间之空气与从第2配管被供给至第2空间之空气的比率，而从动力传输组件将动力传输至阀体头部，以将搬送信道开闭。

3. 发明专利

TWI403657B 調整閥裝置失效
简体标题：调整阀设备
公开(公告)号：TWI403657B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW099107631
申请日：2010-03-16
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED , 國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 谷川毅 , TANIGAWA, TSUYOSHI , 金子裕是 , KANEKO, HIROSHI , 八木靖司 , YAGI, YASUSHI , 小野裕司 , ONO, YUJI , 大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI
IPC分类号： F16K31/122 , F16K51/02 , C23C14/24
CPC分类号： F16K31/126 , F16K31/1268 , F16K41/10

4. 发明专利

TWI451030B 調整閥裝置失效
简体标题：调整阀设备
公开(公告)号：TWI451030B
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW099138276
申请日：2010-11-08
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED , 國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：金子裕是 , KANEKO, HIROSHI , 八木靖司 , YAGI, YASUSHI , 小野裕司 , ONO, YUJI , 谷川毅 , TANIKAWA, TSUYOSHI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO
IPC分类号： F16K31/126
CPC分类号： F16K31/126 , F16K1/34 , F16K25/005 , Y10T137/776

5. 发明专利

TW201131682A 基板處理系統审中-公开
简体标题：基板处理系统
公开(公告)号：TW201131682A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：TW099133452
申请日：2010-10-01
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：戶部康弘 , 西村優 , 八木靖司 , 林輝幸 , 小野裕司 , 下茂文夫
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6776 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67253 , H01L51/56 , H05B33/10
摘要：本發明關於一種基板處理系統、基板處理室及成膜機構,係提供一種可利用既有的搬送技術或模組設備,並更進一步地除了連接各PM彼此之間的TM以外,藉由設置進行壓力調整之直通模組來使壓力調整帶域相異之模組的連接易於進行,以避免產能惡化,並確保充分的生產性之基板處理系統。該基板處理系統係用以進行基板的處理,其中藉由可被抽真空之複數個轉移模組而構成有直線狀搬送路徑,該各轉移模組之側面處連接有用以進行基板處理之處理室,該各轉移模組之間設置有進行壓力調整之直通模組(pass through module)。
简体摘要：本发明关于一种基板处理系统、基板处理室及成膜机构,系提供一种可利用既有的搬送技术或模块设备,并更进一步地除了连接各PM彼此之间的TM以外,借由设置进行压力调整之直通模块来使压力调整带域相异之模块的连接易于进行,以避免产能恶化,并确保充分的生产性之基板处理系统。该基板处理系统系用以进行基板的处理,其中借由可被抽真空之复数个转移模块而构成有直线状搬送路径,该各转移模块之侧面处连接有用以进行基板处理之处理室,该各转移模块之间设置有进行压力调整之直通模块(pass through module)。

6. 发明专利

TW201540865A 成膜裝置审中-公开
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TW201540865A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104102626
申请日：2015-01-27
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小野裕司 , ONO, YUJI , 立花光博 , TACHIBANA, MITSUHIRO , 本間學 , HONMA, MANABU
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/31 , H01L21/205
CPC分类号： C23C16/45565 , C23C16/402 , C23C16/4405 , C23C16/45551
摘要：成膜裝置係具備有：真空容器；旋轉台，係配置於該真空容器內，並用以將基板載置於其一面側所設置之載置區域而加以公轉；處理氣體供給部，係將熱裂解溫度在1大氣壓下為520℃以上的處理氣體供給至基板；以及加熱部，係為了將該基板加熱至600℃以上，以進行成膜處理，而加熱該旋轉台。該處理氣體供給部係具備有：氣體噴淋頭，係具有對向於該基板通過區域而加以設置的複數處理氣體噴出孔；以及冷卻機構，係在成膜處理時，將該氣體噴淋頭中對向於該通過區域的對向部冷卻至較該處理氣體之熱裂解溫度要低的溫度。
简体摘要：成膜设备系具备有：真空容器；旋转台，系配置于该真空容器内，并用以将基板载置於其一面侧所设置之载置区域而加以公转；处理气体供给部，系将热裂解温度在1大气压下为520℃以上的处理气体供给至基板；以及加热部，系为了将该基板加热至600℃以上，以进行成膜处理，而加热该旋转台。该处理气体供给部系具备有：气体喷淋头，系具有对向于该基板通过区域而加以设置的复数处理气体喷出孔；以及冷却机构，系在成膜处理时，将该气体喷淋头中对向于该通过区域的对向部冷却至较该处理气体之热裂解温度要低的温度。

7. 发明专利

TWI391511B 濺鍍裝置有权
简体标题：溅镀设备
公开(公告)号：TWI391511B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW099129189
申请日：2010-08-31
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石川拓 , ISHIKAWA, HIRAKU , 小野裕司 , ONO, YUJI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/352 , H01J37/3408 , H01J37/3414

8. 发明专利

TW201102454A 蒸鍍噴頭以及成膜裝置 VAPOR DEPOSITION HEAD AND FILM FORMATION DEVICE 审中-公开
简体标题：蒸镀喷头以及成膜设备 VAPOR DEPOSITION HEAD AND FILM FORMATION DEVICE
公开(公告)号：TW201102454A
公开(公告)日：2011-01-16
申请号：TW099110349
申请日：2010-04-02
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：小野裕司 , 江面知彥 , 林輝幸 , 田村明威 , 齊藤美佐子
IPC分类号： C23C , B05B
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/24 , H01L51/001 , H01L51/50
摘要：本發明旨在提供一種蒸鍍噴頭及包含該蒸鍍噴頭之成膜裝置，於各部之噴出量不僅在以往的小型基板上，在大型基板上亦可均一化，且噴出可保證均熱性之材料氣體，使均一的薄膜成膜。其中可提供一種蒸鍍噴頭，設於使薄膜成膜於基板之蒸鍍處理裝置內，朝基板噴出材料氣體，其特徵在於包含：外側殼體；及內側殼體，配置於該外側殼體內，可導入材料氣體；且於該內側殼體形成有朝基板噴出材料氣體之開口部，於該外側殼體外面或該外側殼體與該內側殼體間配置有對材料氣體進行加熱之加熱器。
简体摘要：本发明旨在提供一种蒸镀喷头及包含该蒸镀喷头之成膜设备，于各部之喷出量不仅在以往的小型基板上，在大型基板上亦可均一化，且喷出可保证均热性之材料气体，使均一的薄膜成膜。其中可提供一种蒸镀喷头，设于使薄膜成膜于基板之蒸镀处理设备内，朝基板喷出材料气体，其特征在于包含：外侧壳体；及内侧壳体，配置于该外侧壳体内，可导入材料气体；且于该内侧壳体形成有朝基板喷出材料气体之开口部，于该外侧壳体外面或该外侧壳体与该内侧壳体间配置有对材料气体进行加热之加热器。

9. 发明专利

TWI592495B 磁性退火裝置（一）有权
简体标题：磁性退火设备（一）
公开(公告)号：TWI592495B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW103110219
申请日：2014-03-19
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小野裕司 , ONO, YUJI , 石井亨 , ISHII, TORU , 齋藤誠 , SAITO, MAKOTO , 小原美鶴 , OBARA, MITSURU , 竹內靖 , TAKEUCHI, YASUSHI
IPC分类号： C21D1/04 , C21D9/00
CPC分类号： H01L21/67781 , G11C11/16 , H01L21/67754

10. 发明专利

TW201512412A 磁性退火裝置（一）审中-公开
简体标题：磁性退火设备（一）
公开(公告)号：TW201512412A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103110219
申请日：2014-03-19
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小野裕司 , ONO, YUJI , 石井亨 , ISHII, TORU , 齋藤誠 , SAITO, MAKOTO , 小原美鶴 , OBARA, MITSURU , 竹內靖 , TAKEUCHI, YASUSHI
IPC分类号： C21D1/04 , C21D9/00
CPC分类号： H01L21/67781 , G11C11/16 , H01L21/67754
摘要：本揭示之磁性退火裝置，在磁場產生機構方面使用橫型超導磁石，對於保持在被處理體保持具之被處理體進行磁性退火處理；具有：收納容器，係收納磁性退火處理前之該被處理體；以及被處理體搬送機構，係將保持於該收納容器之該被處理體搬送至該被處理體保持具；該被處理體搬送機構可將該被處理體保持於水平狀態、並可保持於垂直狀態。
简体摘要：本揭示之磁性退火设备，在磁场产生机构方面使用横型超导磁石，对于保持在被处理体保持具之被处理体进行磁性退火处理；具有：收纳容器，系收纳磁性退火处理前之该被处理体；以及被处理体搬送机构，系将保持于该收纳容器之该被处理体搬送至该被处理体保持具；该被处理体搬送机构可将该被处理体保持于水平状态、并可保持于垂直状态。

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