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    • 3. 发明专利
    • 聚合性組成物、聚合物、光學用黏著板片、影像顯示裝置及其製造方法
    • 聚合性组成物、聚合物、光学用黏着板片、影像显示设备及其制造方法
    • TW201412872A
    • 2014-04-01
    • TW102121124
    • 2013-06-14
    • 昭和電工股份有限公司SHOWA DENKO K. K.
    • 鈴木快SUZUKI, KAI江夏寬人KOUKA, HIROTO大賀一彥OOGA, KAZUHIKO
    • C08L75/14C08L69/00C08L67/00C08L23/26G02F1/13
    • C09J151/003C08F290/06C09J7/00C09J7/385C09J151/08C09J2203/318C09J2423/00C09J2451/00G02F2001/133331Y10T428/31938
    • 本發明為提供一種聚合性組成物,其係用來製造聚合時之體積收縮率為小、介電常數為低且因熱而著色為少的聚合物,及提供將該組成物聚合而得到的聚合物(包含光學用黏著板片)、使用該聚合物的影像顯示裝置及該影像顯示裝置的製造方法。本發明之聚合性組成物,其係用來製造用以形成聚合物層的聚合物之聚合性組成物,所述該聚合物層為介在於影像顯示裝置的影像顯示部與透光性的保護部之間,其特徵為,該聚合性組成物包含下述成分(1)~(4),成分(1):選自由具有聚烯烴構造單位之含有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有氫化聚烯烴構造單位之含有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有(聚)酯構造單位之含有(甲基)丙烯醯基之化合物、及具有(聚)碳酸酯構造單位之含有(甲基)丙烯醯基之化合物所組成之群之至少一種;成分(2):成分(1)以外之液狀含有(甲基)丙烯醯基之化合物;成分(3):選自由液狀氫化聚丁二烯多元醇、液狀氫化聚異戊二烯多元醇、及氫化二聚物二醇所組成之群之至少一種;及成分(4):光聚合起始劑。
    • 本发明为提供一种聚合性组成物,其系用来制造聚合时之体积收缩率为小、介电常数为低且因热而着色为少的聚合物,及提供将该组成物聚合而得到的聚合物(包含光学用黏着板片)、使用该聚合物的影像显示设备及该影像显示设备的制造方法。本发明之聚合性组成物,其系用来制造用以形成聚合物层的聚合物之聚合性组成物,所述该聚合物层为介在于影像显示设备的影像显示部与透光性的保护部之间,其特征为,该聚合性组成物包含下述成分(1)~(4),成分(1):选自由具有聚烯烃构造单位之含有(甲基)丙烯酰基之化合物、具有氢化聚烯烃构造单位之含有(甲基)丙烯酰基之化合物、具有(聚)酯构造单位之含有(甲基)丙烯酰基之化合物、及具有(聚)碳酸酯构造单位之含有(甲基)丙烯酰基之化合物所组成之群之至少一种;成分(2):成分(1)以外之液状含有(甲基)丙烯酰基之化合物;成分(3):选自由液状氢化聚丁二烯多元醇、液状氢化聚异戊二烯多元醇、及氢化二聚物二醇所组成之群之至少一种;及成分(4):光聚合起始剂。
    • 4. 发明专利
    • 聚合性化合物及含該化合物之硬化性組成物
    • 聚合性化合物及含该化合物之硬化性组成物
    • TW201136959A
    • 2011-11-01
    • TW099143480
    • 2010-12-13
    • 昭和電工股份有限公司
    • 大賀一彥東律子
    • C08FC08GC09DH05K
    • H05K1/0346C08G18/3212C08G18/718C08G18/8019C08G18/8116C09D175/16H05K3/287
    • 本發明在於提供環境負荷少、在低照射量下表面硬化性優、且對基板材料具有高接著性之聚合性化合物、光硬化性組成物及實裝電路板用光硬化性防潮絕緣塗料。本發明的化合物具有由二聚物二醇所衍生構造單元且於末端具有式(1)
      (式中,R 1 為H或CH3,R 2 為碳數2~12之烴基。)所表示的基作為末端基。較佳為於末端具有式(1)所表示的基及式(2)
      (式中,R 3 各自獨立,表示CH3或CH2CH3,R 4 為碳數3~9之烴基。)所表示的基作為末端基。具有由二聚物二醇所衍生構造單元的構造,較佳為以式(3)
      所表示。
    • 本发明在于提供环境负荷少、在低照射量下表面硬化性优、且对基板材料具有高接着性之聚合性化合物、光硬化性组成物及实装电路板用光硬化性防潮绝缘涂料。本发明的化合物具有由二聚物二醇所衍生构造单元且于末端具有式(1) (式中,R 1 为H或CH3,R 2 为碳数2~12之烃基。)所表示的基作为末端基。较佳为于末端具有式(1)所表示的基及式(2) (式中,R 3 各自独立,表示CH3或CH2CH3,R 4 为碳数3~9之烃基。)所表示的基作为末端基。具有由二聚物二醇所衍生构造单元的构造,较佳为以式(3) 所表示。