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1. 发明专利

TWI450780B 用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法及使用該滾輪的相位差膜製造方法與相位差膜有权
简体标题：用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法及使用该滚轮的相位差膜制造方法与相位差膜
公开(公告)号：TWI450780B
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW100124104
申请日：2011-07-07
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP
发明人：吳豐旭 , WU, FUNG HSU , 吳龍海 , WU, LUNG HAI
IPC分类号： B23B5/10 , B44B1/02 , B29C59/04
CPC分类号： B24B1/00 , B24B5/04 , B24B5/37 , B24B19/028 , B24B21/006 , B24B21/02 , G02B5/3083 , G02B27/26

2. 发明专利

TWI428632B 立體影像顯示器有权
简体标题：三維影像显示器
公开(公告)号：TWI428632B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW099141554
申请日：2010-11-30
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP.
发明人：吳豐旭 , WU, FUNG HSU , 徐新翰 , HSU, HSIN HAN
IPC分类号： G02B27/22 , G02F1/1335 , G02F1/13357
CPC分类号： H04N13/351 , H04N13/305 , H04N13/317 , H04N2213/001

3. 发明专利

TW201304942A 用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法审中-公开
简体标题：用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法
公开(公告)号：TW201304942A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW100126474
申请日：2011-07-26
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP
发明人：吳豐旭 , WU, FUNG HSU
IPC分类号： B29D11/00 , B29C33/42 , B29C59/02
CPC分类号： B21D17/04
摘要：一種用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法。用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法包括以下步驟。提供一滾輪。滾輪具有一轉軸及一滾輪表面。提供一雕刻工具。以轉軸為軸心使滾輪滾動，同時雕刻工具以一第一深度雕刻一第一距離。雕刻工具於第一距離內雕刻出數個第一刻紋後離開滾輪表面，以形成一第一雕刻區。以轉軸為軸心使滾輪滾動，同時雕刻工具以一第二深度雕刻一第二距離，雕刻工具於第二距離內雕刻出數個第二刻紋後離開滾輪表面，以形成一第二雕刻區。
简体摘要：一种用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法。用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法包括以下步骤。提供一滚轮。滚轮具有一转轴及一滚轮表面。提供一雕刻工具。以转轴为轴心使滚轮滚动，同时雕刻工具以一第一深度雕刻一第一距离。雕刻工具于第一距离内雕刻出数个第一刻纹后离开滚轮表面，以形成一第一雕刻区。以转轴为轴心使滚轮滚动，同时雕刻工具以一第二深度雕刻一第二距离，雕刻工具于第二距离内雕刻出数个第二刻纹后离开滚轮表面，以形成一第二雕刻区。

4. 发明专利

TW201302354A 用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法及使用該滾輪的相位差膜製造方法與相位差膜审中-公开
简体标题：用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法及使用该滚轮的相位差膜制造方法与相位差膜
公开(公告)号：TW201302354A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW100124104
申请日：2011-07-07
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP
发明人：吳豐旭 , WU, FUNG HSU , 吳龍海 , WU, LUNG HAI
IPC分类号： B23B5/10 , B44B1/02 , B29C59/04
CPC分类号： B24B1/00 , B24B5/04 , B24B5/37 , B24B19/028 , B24B21/006 , B24B21/02 , G02B5/3083 , G02B27/26
摘要：一種相位差薄膜及其製造方法與滾輪的製造方法。相位差薄膜包括一基材、一圖案化結構樹脂層及一相位延遲層。圖案化結構樹脂層位於基材上。圖案化結構樹脂層具有數個第一區域及數個第二區域。圖案化結構樹脂層包括數個微溝槽。此些微溝槽方向與此些第一及第二區域之一帶狀延伸方向實質上呈45度。設置一液晶材料層於該圖案化結構樹脂層上並與該配向微結構配向以形成該相位延遲層，其中位於此些第一區域上方的液晶材料層提供一第一相位延遲值，位於此些第二區域上方的液晶材料層提供一第二相位延遲值。第一相位延遲值與第二相位延遲值之相位差為180°。
简体摘要：一种相位差薄膜及其制造方法与滚轮的制造方法。相位差薄膜包括一基材、一图案化结构树脂层及一相位延迟层。图案化结构树脂层位于基材上。图案化结构树脂层具有数个第一区域及数个第二区域。图案化结构树脂层包括数个微沟槽。此些微沟槽方向与此些第一及第二区域之一带状延伸方向实质上呈45度。设置一液晶材料层于该图案化结构树脂层上并与该配向微结构配向以形成该相位延迟层，其中位于此些第一区域上方的液晶材料层提供一第一相位延迟值，位于此些第二区域上方的液晶材料层提供一第二相位延迟值。第一相位延迟值与第二相位延迟值之相位差为180°。

5. 发明专利

TWI453508B 圖案化相位延遲膜及其製造方法有权
简体标题：图案化相位延迟膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI453508B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW100103990
申请日：2011-02-01
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP
发明人：黃冠豪 , HUANG, KUAN HAO , 吳豐旭 , WU, FUNG HSU
IPC分类号： G02F1/13363 , G02B5/30

6. 发明专利

TWI432851B 圖案化相位延遲膜及其製造方法有权
简体标题：图案化相位延迟膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI432851B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW100103992
申请日：2011-02-01
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP
发明人：吳豐旭 , WU, FUNG HSU
IPC分类号： G02F1/13363 , G02B5/30

7. 发明专利

TWI426965B 用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法有权
简体标题：用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法
公开(公告)号：TWI426965B
公开(公告)日：2014-02-21
申请号：TW100120609
申请日：2011-06-13
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP
发明人：吳豐旭 , WU, FUNG HSU , 吳龍海 , WU, LUNG HAI
IPC分类号： B21D53/26 , B44B3/04 , B23B5/48
CPC分类号： G02B5/3083 , Y10T29/49544

8. 发明专利

TW201302436A 用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法审中-公开
简体标题：用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法
公开(公告)号：TW201302436A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW100124493
申请日：2011-07-11
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP
发明人：吳龍海 , WU, LUNG HAI , 洪群泰 , HONG, CYUN TAI , 吳豐旭 , WU, FUNG HSU
IPC分类号： B29C59/04 , B29L11/00
CPC分类号： B26D3/08 , B31F1/07 , B31F2201/0717 , B31F2201/0733 , B31F2201/0756 , Y10T29/49561 , Y10T83/0341
摘要：一種用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法。用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法包括以下步驟。提供一滾輪。滾輪具有一滾輪表面。提供一壓印工具。壓印工具具有一壓印端。壓印端具有平行排列之數個第一微溝槽以及平行排列之數個第二微溝槽。此些第一微溝槽與此些第二微溝槽對稱於一對稱線。每個第一微溝槽之一端與每個第二微溝槽之一端相接於對稱線且每個第一微溝槽及每個第二微溝槽皆與該對稱線呈45±8度角。以壓印工具重複壓印滾輪表面。
简体摘要：一种用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法。用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法包括以下步骤。提供一滚轮。滚轮具有一滚轮表面。提供一压印工具。压印工具具有一压印端。压印端具有平行排列之数个第一微沟槽以及平行排列之数个第二微沟槽。此些第一微沟槽与此些第二微沟槽对称于一对称线。每个第一微沟槽之一端与每个第二微沟槽之一端相接于对称线且每个第一微沟槽及每个第二微沟槽皆与该对称线呈45±8度角。以压印工具重复压印滚轮表面。

9. 发明专利

TWI526750B 相位差薄膜有权
公开(公告)号：TWI526750B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW100142605
申请日：2011-11-21
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP
发明人：吳豐旭 , WU, FUNG HSU , 吳龍海 , WU, LUNG HAI
IPC分类号： G02F1/13363
CPC分类号： G02B5/3083 , G02B27/26 , G02F1/13363 , G02F2001/133631

10. 发明专利

TWI458623B 用於製造相位差薄膜之滾輪的製造方法有权
简体标题：用于制造相位差薄膜之滚轮的制造方法
公开(公告)号：TWI458623B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW100126474
申请日：2011-07-26
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORP
发明人：吳豐旭 , WU, FUNG HSU
IPC分类号： B29D11/00 , B29C33/42 , B29C59/02
CPC分类号： B21D17/04

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