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1. 发明专利

TW200616944A 新穎之被氟化金剛烷衍生物审中-公开
简体标题：新颖之被氟化金刚烷衍生物
公开(公告)号：TW200616944A
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：TW094118763
申请日：2005-06-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：大春一也 OHARU, KAZUYA , 岡添隆 OKAZOE, TAKASHI , 室谷英介 MUROTANI, EISUKE , 渡邊邦夫 WATANABE, KUNIO , 伊藤昌宏 ITO, MASAHIRO
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C61/15 , C07C51/58 , C07C2603/74
摘要：本發明為提供新穎之被氟化金剛烷衍生物。以A^F(－COF)n所表示之化合物。但A^F及n表示下述之意義。A^F：係自金剛烷去除n個氫原子(但n為2以上時，被去除之氫原子係與不同碳原子結合之氫原子)之n價基，殘餘之氫原子之至少一個被氟原子取代，再者殘餘之氫原子亦可被碳數為1～6之烷基或氟化烷基所取代之含氟金剛烷殘基。n：為1～4之整數。但n為1時，上述之A^F至少具有1個氫原子。094118763-p01.bmp094118763-p02.bmp
简体摘要：本发明为提供新颖之被氟化金刚烷衍生物。以A^F(－COF)n所表示之化合物。但A^F及n表示下述之意义。A^F：系自金刚烷去除n个氢原子(但n为2以上时，被去除之氢原子系与不同碳原子结合之氢原子)之n价基，残余之氢原子之至少一个被氟原子取代，再者残余之氢原子亦可被碳数为1～6之烷基或氟化烷基所取代之含氟金刚烷残基。n：为1～4之整数。但n为1时，上述之A^F至少具有1个氢原子。094118763-p01.bmp094118763-p02.bmp

2. 发明专利

TWI296615B 含氟酮之製造方法 PROCESS FOR PREPARATION OF FLUORINATED KETONES 有权
简体标题：含氟酮之制造方法 PROCESS FOR PREPARATION OF FLUORINATED KETONES
公开(公告)号：TWI296615B
公开(公告)日：2008-05-11
申请号：TW090121506
申请日：2001-08-30
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：岡添隆 OKAZOE, TAKASHI , 渡邊邦夫 WATANABE, KUNIO , 伊藤昌宏 ITO, MASAHIRO , 白川大祐 , 立松伸 TATEMATSU, SHIN , 高木洋一
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C69/708 , C07C45/54 , C07C51/09 , C07C67/287 , C07C2601/14 , C07C49/16 , C07C49/463 , C07C49/167 , C07C53/50
摘要：本發明之目的在提供可用短步驟製造種種構造之含氟酮的工業製造上有用之方法。亦，含氟量30質量%以上，且係將下式(3)之化合物於液相中與氟反應成下式(4)之化合物，其次經該式(4)化合物之酯結合的分解反應而成之下式(5)的含氟酮之製造方法 RCCOOCHRARB (3) RCFCOOCFRAFRBF (4) RAFRBFC=O (5)其中RA及RB係烷基等之1價有機基，或RA與RB互相結合形成烯基等2價有機基亦可，RAF及RBF係RA及 RB氟化形成之全氟烷基等之1價有機基，或互相結合而成之全氟烯基等之2價有機基，RC及RCF各係或含醚式氧原子之全氟烷基等之1價有機基。
简体摘要：本发明之目的在提供可用短步骤制造种种构造之含氟酮的工业制造上有用之方法。亦，含氟量30质量%以上，且系将下式(3)之化合物于液相中与氟反应成下式(4)之化合物，其次经该式(4)化合物之酯结合的分解反应而成之下式(5)的含氟酮之制造方法 RCCOOCHRARB (3) RCFCOOCFRAFRBF (4) RAFRBFC=O (5)其中RA及RB系烷基等之1价有机基，或RA与RB互相结合形成烯基等2价有机基亦可，RAF及RBF系RA及 RB氟化形成之全氟烷基等之1价有机基，或互相结合而成之全氟烯基等之2价有机基，RC及RCF各系或含醚式氧原子之全氟烷基等之1价有机基。

3. 发明专利

TW200613242A 氟化金剛烷衍生物审中-公开
简体标题：氟化金刚烷衍生物
公开(公告)号：TW200613242A
公开(公告)日：2006-05-01
申请号：TW094120024
申请日：2005-06-16
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：王舒鐘 WANG, SHU-ZHONG , 星野泰輝 HOSHINO, TAIKI , 柏木王明 KASHIWAGI, KIMIAKI , 岡添隆 OKAZOE, TAKASHI , 室谷英介 MUROTANI, EISUKE , 伊藤昌宏 ITO, MASAHIRO , 渡邊邦夫 WATANABE, KUNIO
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C69/653 , C07C29/095 , C07C35/52 , C07C67/14 , C07C67/287 , C07C2603/74 , C07C69/708
摘要：本發明係提供一種從容易取得的原料以有利於經濟的方法，製造可成為耐蝕刻性優異、短波長的光的透過性提高的聚合物的原料化合物之金剛烷衍生物。使化合物(10)與化合物(11)進行酯化反應成為化合物(12)化合物，然後於液相中經氟化成為化合物(13)，然後進行水解反應或加醇分解反應成為化合物(2)，然後使其與化合物(15)反應，得到化合物(1)。其中，A～J為－CFH－或－CF2－；R^F為全氟烷基等；X^10為F等；Y^2為H或OH；Y^3為H或R^FCOO－；Y^4為H、F或R^FCOO－；Y^5為H、F、R^FCOO－或OH；Y^0為H、F、－OCOCR^1＝CH2或OH；R^1為氫原子或甲基等；X^11為OH或鹵原子。094120024-p01.bmp094120024-p02.bmp094120024-p01.bmp
简体摘要：本发明系提供一种从容易取得的原料以有利于经济的方法，制造可成为耐蚀刻性优异、短波长的光的透过性提高的聚合物的原料化合物之金刚烷衍生物。使化合物(10)与化合物(11)进行酯化反应成为化合物(12)化合物，然后于液相中经氟化成为化合物(13)，然后进行水解反应或加醇分解反应成为化合物(2)，然后使其与化合物(15)反应，得到化合物(1)。其中，A～J为－CFH－或－CF2－；R^F为全氟烷基等；X^10为F等；Y^2为H或OH；Y^3为H或R^FCOO－；Y^4为H、F或R^FCOO－；Y^5为H、F、R^FCOO－或OH；Y^0为H、F、－OCOCR^1＝CH2或OH；R^1为氢原子或甲基等；X^11为OH或卤原子。094120024-p01.bmp094120024-p02.bmp094120024-p01.bmp

4. 发明专利

TW200909597A 含氟聚合物薄膜與其製造方法审中-公开
简体标题：含氟聚合物薄膜与其制造方法
公开(公告)号：TW200909597A
公开(公告)日：2009-03-01
申请号：TW097114323
申请日：2008-04-18
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：民慎哉 TAMITSUJI, CHIKAYA , 渡邊邦夫 WATANABE, KUNIO , 根好彥 SAKANE, YOSHIHIKO , 南純 MINAMIDATE, JUN
IPC分类号： C23C , C08F
CPC分类号： C23C14/12 , B05D1/60 , B05D5/083 , B05D2506/10 , C08F216/1408 , C08F216/38
摘要：本發明係提供一種與基材之密著性及膜强度優異之含氟聚合物薄膜之製造方法。含氟聚合物薄膜之製造方法,其特徵係藉由將主鏈上具有含氟脂肪族環構造,重量平均分子量為3,000~80,000之含氟聚合物作為蒸鍍源之物理蒸鍍法,在基材上形成含氟聚合物薄膜。
简体摘要：本发明系提供一种与基材之密着性及膜强度优异之含氟聚合物薄膜之制造方法。含氟聚合物薄膜之制造方法,其特征系借由将主链上具有含氟脂肪族环构造,重量平均分子量为3,000~80,000之含氟聚合物作为蒸镀源之物理蒸镀法,在基材上形成含氟聚合物薄膜。

5. 发明专利

TW200422280A 被氟化之金剛烷衍生物审中-公开
简体标题：被氟化之金刚烷衍生物
公开(公告)号：TW200422280A
公开(公告)日：2004-11-01
申请号：TW092135070
申请日：2003-12-11
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：岡添隆 OKAZOE, TAKASHI , 渡邊邦夫 WATANABE, KUNIO , 伊藤昌宏 ITO, MASAHIRO , 室谷英介 MUROTANI, EISUKE
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C69/753 , C07C35/52 , C07C69/708 , C07C2603/74
摘要：本發明係提供一種具有優良耐蝕刻性，且適用於製造微影術用材料等之被氟化的金剛烷衍生物用之新穎化合物。即，本發明係提供下列式(3)所示化合物及下列式(4)所示化合物A(–G–Q–R)n(3)A^f(–G^f–Q–R^f)n(4)式中記號如下所示。A：金剛烷中n個氫原子成為鍵結手之n價基，且未成為鍵結手之氫原子可受烷基取代。R：含氟1價有機基。n：1以上4以下之整數。G：–CH2–或單鍵。Q：–COO–或–OCO–。A^f：鍵結於金剛烷之碳原子的n個氫原子成為鍵結手之n價基，且未成為鍵結手之氫原子可受烷基取代的基(A)中，至少1個形成C–H鍵之氫原子受氟原子取代的基。R^f：含氟1價有機基。G^f：–CF2–或單鍵。
简体摘要：本发明系提供一种具有优良耐蚀刻性，且适用于制造微影术用材料等之被氟化的金刚烷衍生物用之新颖化合物。即，本发明系提供下列式(3)所示化合物及下列式(4)所示化合物A(–G–Q–R)n(3)A^f(–G^f–Q–R^f)n(4)式中记号如下所示。A：金刚烷中n个氢原子成为键结手之n价基，且未成为键结手之氢原子可受烷基取代。R：含氟1价有机基。n：1以上4以下之整数。G：–CH2–或单键。Q：–COO–或–OCO–。A^f：键结于金刚烷之碳原子的n个氢原子成为键结手之n价基，且未成为键结手之氢原子可受烷基取代的基(A)中，至少1个形成C–H键之氢原子受氟原子取代的基。R^f：含氟1价有机基。G^f：–CF2–或单键。

6. 发明专利

TW200902458A 合成石英玻璃體、製造其之方法、光學元件、及光學裝置 SYNTHETIC QUARTZ GLASS BODY, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL APPARATUS 审中-公开
简体标题：合成石英玻璃体、制造其之方法、光学组件、及光学设备 SYNTHETIC QUARTZ GLASS BODY, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL APPARATUS
公开(公告)号：TW200902458A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097115495
申请日：2008-04-25
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：民十慎哉 TAMITSUJI, CHIKAYA , 渡邊邦夫 WATANABE, KUNIO , 岡田要 OKADA, KANAME , 小林大介 KOBAYASHI, DAISUKE
IPC分类号： C03B , G02B
CPC分类号： C03C3/06 , C03C15/00 , C03C21/007 , C03C25/607 , C03C2201/12 , C03C2201/80 , Y10T428/24479 , Y10T428/249921 , Y10T428/24997
摘要：本發明係為提供一種具有高透光率之合成石英玻璃體。本發明係提供一種具有孔隙在其表面部份中之合成石英玻璃體。
简体摘要：本发明系为提供一种具有高透光率之合成石英玻璃体。本发明系提供一种具有孔隙在其表面部份中之合成石英玻璃体。

7. 发明专利

TW593301B 氟化環狀醚之製造方法及其用途失效
简体标题：氟化环状醚之制造方法及其用途
公开(公告)号：TW593301B
公开(公告)日：2004-06-21
申请号：TW091103039
申请日：2002-02-21
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：岡本秀一 OKAMOTO, HIDEKAZU , 岡添隆 OKAZOE, TAKASHI , 渡邊邦夫 WATANABE, KUNIO , 伊藤昌宏 ITO, MASAHIRO
IPC分类号： C07D
CPC分类号： C07D307/30
摘要：本發明係提供一種由廉價原料製造有用之氟化環狀不飽和環醚及氟化飽和環狀醚之方法。更提供一種氟化環狀不飽醚和及氟化飽和環狀醚有用之用途及做為此等製造中間體有用之新穎化合物者。
亦即，本發明係使下記化合物進行熱分解後，取得1種以上選自下記化合物(6a)及下記化合物(6b)之氟化不飽和環狀醚者。更進行氟化不飽和環狀醚之還原反應後，取得1種以上選自下記化合物(7a)及下記化合物(7b)之氟化飽和環狀醚者。惟，AF。代表全氟四氫喃基，X代表氟原子或-O-M+(惟，M+為對離子者。)。
简体摘要：本发明系提供一种由廉价原料制造有用之氟化环状不饱和环醚及氟化饱和环状醚之方法。更提供一种氟化环状不饱醚和及氟化饱和环状醚有用之用途及做为此等制造中间体有用之新颖化合物者。亦即，本发明系使下记化合物进行热分解后，取得1种以上选自下记化合物(6a)及下记化合物(6b)之氟化不饱和环状醚者。更进行氟化不饱和环状醚之还原反应后，取得1种以上选自下记化合物(7a)及下记化合物(7b)之氟化饱和环状醚者。惟，AF。代表全氟四氢喃基，X代表氟原子或-O-M+(惟，M+为对离子者。)。

8. 发明专利

TW584628B 含氟羰基化合物之製造方法失效
简体标题：含氟羰基化合物之制造方法
公开(公告)号：TW584628B
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：TW091114439
申请日：2002-06-27
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：大春一也 OHARU, KAZUYA , 岡添隆 OKAZOE, TAKASHI , 渡邊邦夫 WATANABE, KUNIO , 白川大祐 SHIRAKAWA, DAISUKE
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C67/14 , C07C45/54 , C07C51/58 , C07C67/287 , C07C55/40 , C07C69/63
摘要：本發明製造方法，係由醇化合物、特別為低分子量的醇化合物中製造具有種種構造的含氟羰基化合物及其衍生物化合物。
即，本發明將R1CHR2OH(1)與Qf(COF)n(2)進行酯反應，得到含有1種以上的Qf(COOCHR1R2)m(COF)n-m(3)之酯化反應生成物，再經全氟化後得到含有1種以上的Qf(COOCFR1fR2f)m(COF)n-m，再由進行酯鍵的分解反應之反應生成物得到化合物(2)與R1fCOR2(5)等含氟羰基化合物。R1表示氫原子等、R2表示烷基等、R1f表示氟原子等、R2f表示全氟烷基等，Qf表示全氟化的伸烷基等，n表示2以上的整數，m表示2以上且n以下的整數。
简体摘要：本发明制造方法，系由醇化合物、特别为低分子量的醇化合物中制造具有种种构造的含氟羰基化合物及其衍生物化合物。即，本发明将R1CHR2OH(1)与Qf(COF)n(2)进行酯反应，得到含有1种以上的Qf(COOCHR1R2)m(COF)n-m(3)之酯化反应生成物，再经全氟化后得到含有1种以上的Qf(COOCFR1fR2f)m(COF)n-m，再由进行酯键的分解反应之反应生成物得到化合物(2)与R1fCOR2(5)等含氟羰基化合物。R1表示氢原子等、R2表示烷基等、R1f表示氟原子等、R2f表示全氟烷基等，Qf表示全氟化的伸烷基等，n表示2以上的整数，m表示2以上且n以下的整数。

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