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1. 发明专利

TWI625604B 穿透式雷射直接成像系統有权
简体标题：穿透式激光直接成像系统
公开(公告)号：TWI625604B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW105143997
申请日：2016-12-29
申请人：旭東機械工業股份有限公司 , SHUZ TUNG MACHINERY INDUSTRIAL CO.,LTD.
发明人：洪國書 , HUNG, KUO-SHU , 吳松峻 , WU, SUNG-CHUN , 廖述政 , LIAO, SHU-CHENG , 張明宏 , CHANG, MING-HUNG
IPC分类号： G03F7/20 , H05K13/00

2. 发明专利

TW201918801A 無光罩雷射直寫曝光機审中-公开
简体标题：无光罩激光直写曝光机
公开(公告)号：TW201918801A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106137625
申请日：2017-10-31
申请人：旭東機械工業股份有限公司 , SHUZ TUNG MACHINERY INDUSTRIAL CO.,LTD.
发明人：洪國書 , HUNG, KUO-SHU , 劉俊賢 , LIU, CHUN-HSUEN , 張明宏 , CHANG, MING-HUNG , 廖述政 , LIAO, SHU-CHENG
IPC分类号： G03F7/207 , G02B26/08 , H01S3/101
摘要：本發明關於一種無光罩雷射直寫曝光機，其包括可在一Y方向上相對位移的一載台及一雷射曝光裝置，且在相對位移過程中，該雷射曝光裝置可在一X方向上對該載台上之待曝光基板進行掃描，以在該待曝光基板上形成一潛像圖案。該雷射曝光裝置具有一雷射模組，其包括一線性雷射光源、一穿透式掃描器、複數聚焦透鏡以及修正像差的一補償透鏡。該線性雷射光源之長度方向傾斜於X方向。該穿透式掃描器具有一多稜鏡，其轉軸平行於該線性雷射光源之長度方向。該轉動的過程中，該多稜鏡之刻面允許每一雷射光束穿透並在該待曝光基板上形成傾斜的一條狀曝光光斑，且相鄰之兩雷射光束所形成之曝光光斑在X方向上之投影存在部分重疊。
简体摘要：本发明关于一种无光罩激光直写曝光机，其包括可在一Y方向上相对位移的一载台及一激光曝光设备，且在相对位移过程中，该激光曝光设备可在一X方向上对该载台上之待曝光基板进行扫描，以在该待曝光基板上形成一潜像图案。该激光曝光设备具有一激光模块，其包括一线性激光光源、一穿透式扫描仪、复数聚焦透镜以及修正像差的一补偿透镜。该线性激光光源之长度方向倾斜于X方向。该穿透式扫描仪具有一多棱镜，其转轴平行于该线性激光光源之长度方向。该转动的过程中，该多棱镜之刻面允许每一激光光束穿透并在该待曝光基板上形成倾斜的一条状曝光光斑，且相邻之两激光光束所形成之曝光光斑在X方向上之投影存在部分重叠。

3. 发明专利

TW201823871A 穿透式雷射直接成像系統审中-公开
简体标题：穿透式激光直接成像系统
公开(公告)号：TW201823871A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105143997
申请日：2016-12-29
申请人：旭東機械工業股份有限公司 , SHUZ TUNG MACHINERY INDUSTRIAL CO.,LTD.
发明人：洪國書 , HUNG, KUO-SHU , 吳松峻 , WU, SUNG-CHUN , 廖述政 , LIAO, SHU-CHENG , 張明宏 , CHANG, MING-HUNG
IPC分类号： G03F7/20 , H05K13/00
摘要：本發明係關於一種穿透式雷射直接成像系統，其主要包括可在一Y方向上相對位移的一載台及一雷射曝光裝置，且在位移過程中，該雷射曝光裝置可在一X方向上對該載台上之基板進行掃描，以在該基板上形成一潛像圖案。詳言之，該雷射曝光裝置具有一雷射模組，其包括一線性雷射光源及一穿透式掃描器。該線性雷射光源之長度方向傾斜於X方向。該穿透式掃描器具有一多稜鏡，其轉軸平行於該線性雷射光源之長度方向。此外，該轉動的過程中，該多稜鏡之刻面允許每一雷射光束穿透並在該基板上形成傾斜的一條狀曝光光斑，且相鄰之兩雷射光束所形成之曝光光斑在X方向上之投影存在部分重疊。
简体摘要：本发明系关于一种穿透式激光直接成像系统，其主要包括可在一Y方向上相对位移的一载台及一激光曝光设备，且在位移过程中，该激光曝光设备可在一X方向上对该载台上之基板进行扫描，以在该基板上形成一潜像图案。详言之，该激光曝光设备具有一激光模块，其包括一线性激光光源及一穿透式扫描仪。该线性激光光源之长度方向倾斜于X方向。该穿透式扫描仪具有一多棱镜，其转轴平行于该线性激光光源之长度方向。此外，该转动的过程中，该多棱镜之刻面允许每一激光光束穿透并在该基板上形成倾斜的一条状曝光光斑，且相邻之两激光光束所形成之曝光光斑在X方向上之投影存在部分重叠。

4. 发明专利

TWI666526B 無光罩雷射直寫曝光機有权
简体标题：无光罩激光直写曝光机
公开(公告)号：TWI666526B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW106137625
申请日：2017-10-31
申请人：旭東機械工業股份有限公司 , SHUZ TUNG MACHINERY INDUSTRIAL CO.,LTD.
发明人：洪國書 , HUNG, KUO-SHU , 劉俊賢 , LIU, CHUN-HSUEN , 張明宏 , CHANG, MING-HUNG , 廖述政 , LIAO, SHU-CHENG
IPC分类号： G03F7/207 , G02B26/08 , H01S3/101

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