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1. 发明专利

TWI491629B 聚合物之製造方法、聚合物溶液、及聚合物有权
简体标题：聚合物之制造方法、聚合物溶液、及聚合物
公开(公告)号：TWI491629B
公开(公告)日：2015-07-11
申请号：TW102117630
申请日：2013-05-17
申请人：旭化成化學股份有限公司 , ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION
发明人：清水大助 , SHIMIZU, DAISUKE , 涉谷健太 , SHIBUYA, KENTA , 鈴木琢哉 , SUZUKI, TAKUYA
IPC分类号： C08F6/08 , C08F8/04 , C08C2/04 , C08C19/02
CPC分类号： C08F299/02 , C08F6/008 , C08F6/02 , C08F6/06

2. 发明专利

TW201418301A 聚合物之製造方法、聚合物溶液、及聚合物审中-公开
简体标题：聚合物之制造方法、聚合物溶液、及聚合物
公开(公告)号：TW201418301A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102117630
申请日：2013-05-17
申请人：旭化成化學股份有限公司 , ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION
发明人：清水大助 , SHIMIZU, DAISUKE , 涉谷健太 , SHIBUYA, KENTA , 鈴木琢哉 , SUZUKI, TAKUYA
IPC分类号： C08F6/08 , C08F8/04 , C08C2/04 , C08C19/02
CPC分类号： C08F299/02 , C08F6/008 , C08F6/02 , C08F6/06
摘要：本發明提供一種可自含有鈦、鋁、鋰等金屬殘渣之聚合物溶液中有效率地去除該等金屬殘渣，獲得金屬殘渣較少、色調或透明性良好之精製聚合物溶液的聚合物之製造方法、藉由該製造方法所獲得之聚合物溶液、及聚合物。本發明之聚合物之製造方法包括：步驟1，其係製備含有選自由鋁、鋰、及鈦所組成之群中之1種以上之金屬的聚合物溶液；及步驟2，其係將上述聚合物溶液與相對於該聚合物溶液為0.1~10體積倍率之水進行混合，獲得混合液；於上述步驟1中，上述聚合物溶液所含之聚合物中之鋁含量未達30 ppm之情形時，於上述步驟2中將上述混合液之水相之pH值調整為10以下；於上述步驟1中，上述聚合物溶液所含之聚合物中之鋁含量為30 ppm以上200 ppm以下之情形時，於上述步驟2中將上述混合液之水相之pH值調整為5.5以下、或7~10。
简体摘要：本发明提供一种可自含有钛、铝、锂等金属残渣之聚合物溶液中有效率地去除该等金属残渣，获得金属残渣较少、色调或透明性良好之精制聚合物溶液的聚合物之制造方法、借由该制造方法所获得之聚合物溶液、及聚合物。本发明之聚合物之制造方法包括：步骤1，其系制备含有选自由铝、锂、及钛所组成之群中之1种以上之金属的聚合物溶液；及步骤2，其系将上述聚合物溶液与相对于该聚合物溶液为0.1~10体积倍率之水进行混合，获得混合液；于上述步骤1中，上述聚合物溶液所含之聚合物中之铝含量未达30 ppm之情形时，于上述步骤2中将上述混合液之水相之pH值调整为10以下；于上述步骤1中，上述聚合物溶液所含之聚合物中之铝含量为30 ppm以上200 ppm以下之情形时，于上述步骤2中将上述混合液之水相之pH值调整为5.5以下、或7~10。

3. 发明专利

TW201302829A 氫化共軛二烯系共聚物之製造方法审中-公开
简体标题：氢化共轭二烯系共聚物之制造方法
公开(公告)号：TW201302829A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101118604
申请日：2012-05-24
申请人：旭化成化學股份有限公司 , ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION
发明人：荒木祥文 , ARAKI, YOSHIFUMI , 世谷榮治 , SASAYA, EIJI , 涉谷健太 , SHIBUYA, KENTA
IPC分类号： C08F4/48 , C08F8/04 , C08F236/10
CPC分类号： C08F236/10 , C08C19/02 , C08F212/08 , C08F4/48
摘要：本發明係提供一種氫化共軛二烯系共聚物之製造方法，其於聚合步驟中，可製作共軛二烯嵌段部分之乙烯基鍵結量較高、分子量分佈較窄之共軛二烯系共聚物，且於氫化步驟中，氫化速度較快，生產性優異。本發明之氫化共軛二烯系共聚物之製造方法包括：聚合步驟，係使用含有機鋰化合物之起始劑，使共軛二烯系單體與乙烯基芳香族單體進行共聚合；及氫化步驟，係對藉由上述聚合步驟而獲得之共軛二烯系共聚物進行氫化；且於上述聚合步驟中，使上述有機鋰化合物、具有2個以上氧原子之醚系化合物(A)、及鹼金屬醇鹽(B)以下述莫耳比共存：(A)/有機鋰化合物為0.2以上且未達3.0；(B)/有機鋰化合物為0.01以上0.3以下。
简体摘要：本发明系提供一种氢化共轭二烯系共聚物之制造方法，其于聚合步骤中，可制作共轭二烯嵌段部分之乙烯基键结量较高、分子量分布较窄之共轭二烯系共聚物，且于氢化步骤中，氢化速度较快，生产性优异。本发明之氢化共轭二烯系共聚物之制造方法包括：聚合步骤，系使用含有机锂化合物之起始剂，使共轭二烯系单体与乙烯基芳香族单体进行共聚合；及氢化步骤，系对借由上述聚合步骤而获得之共轭二烯系共聚物进行氢化；且于上述聚合步骤中，使上述有机锂化合物、具有2个以上氧原子之醚系化合物(A)、及碱金属醇盐(B)以下述莫耳比共存：(A)/有机锂化合物为0.2以上且未达3.0；(B)/有机锂化合物为0.01以上0.3以下。

4. 发明专利

TWI515206B 聚合物之製造方法有权
简体标题：聚合物之制造方法
公开(公告)号：TWI515206B
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW102115158
申请日：2013-04-26
申请人：旭化成化學股份有限公司 , ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION
发明人：清水大助 , SHIMIZU, DAISUKE , 涉谷健太 , SHIBUYA, KENTA
IPC分类号： C08C2/04 , C08C19/02 , C08F6/08 , C08F8/04
CPC分类号： C08F293/00 , C08C2/04 , C08C19/02 , C08F6/02 , C08F8/04 , C08F2800/20 , C08F297/04

5. 发明专利

TWI506047B 氫化共軛二烯系共聚物之製造方法有权
简体标题：氢化共轭二烯系共聚物之制造方法
公开(公告)号：TWI506047B
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW101118604
申请日：2012-05-24
申请人：旭化成化學股份有限公司 , ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION
发明人：荒木祥文 , ARAKI, YOSHIFUMI , 世谷榮治 , SASAYA, EIJI , 涉谷健太 , SHIBUYA, KENTA
IPC分类号： C08F4/48 , C08F8/04 , C08F236/10
CPC分类号： C08F236/10 , C08C19/02 , C08F212/08 , C08F4/48

6. 发明专利

TW201350510A 聚合物之製造方法审中-公开
简体标题：聚合物之制造方法
公开(公告)号：TW201350510A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102115158
申请日：2013-04-26
申请人：旭化成化學股份有限公司 , ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION
发明人：清水大助 , SHIMIZU, DAISUKE , 涉谷健太 , SHIBUYA, KENTA
IPC分类号： C08C2/04 , C08C19/02 , C08F6/08 , C08F8/04
CPC分类号： C08F293/00 , C08C2/04 , C08C19/02 , C08F6/02 , C08F8/04 , C08F2800/20 , C08F297/04
摘要：本發明之目的在於提供一種聚合物之製造方法，其可自至少含有鋰及/或鈦之聚合物溶液中有效地去除該等金屬殘渣，而獲得金屬殘渣較少之精製聚合物溶液。本發明之聚合物之製造方法包括：步驟1，其係製備至少包含鋰及/或鈦之聚合物溶液；步驟2，其係對上述聚合物溶液添加混合0.1~20體積倍之水、及選自下述式(1)所表示之化合物中之酸化合物，藉此而獲得混合液；及步驟3，其係自上述混合液中去除水相，而獲得精製聚合物溶液。 (式(1)中，R1、R2、及R3相互獨立，為由選自C、H、O、及N中之元素構成之取代基，於分子內包含4個以上之氧原子)。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种聚合物之制造方法，其可自至少含有锂及/或钛之聚合物溶液中有效地去除该等金属残渣，而获得金属残渣较少之精制聚合物溶液。本发明之聚合物之制造方法包括：步骤1，其系制备至少包含锂及/或钛之聚合物溶液；步骤2，其系对上述聚合物溶液添加混合0.1~20体积倍之水、及选自下述式(1)所表示之化合物中之酸化合物，借此而获得混合液；及步骤3，其系自上述混合液中去除水相，而获得精制聚合物溶液。 (式(1)中，R1、R2、及R3相互独立，为由选自C、H、O、及N中之元素构成之取代基，于分子内包含4个以上之氧原子)。

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