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    • 9. 发明专利
    • 嵌段共聚物之製造方法及嵌段共聚物或其氫添加物
    • 嵌段共聚物之制造方法及嵌段共聚物或其氢添加物
    • TWI343393B
    • 2011-06-11
    • TW095131593
    • 2006-08-28
    • 旭化成化學股份有限公司
    • 世川雅弘仁田克德
    • C08FC08L
    • C08F297/04C08F8/04
    • 本發明之目的在於提供一種製造方法,其係於使用鋰起始劑之陰離子聚合中,以高生產率獲得嵌段共聚物之製造方法,上述嵌段共聚物係具有乙烯基鍵結量較高之共軛二烯嵌段部分、與分子量分佈狹窄之乙烯基芳香族嵌段部分,並且分子量分佈狹窄且高強度者;並且,可提供一種該嵌段共聚物或其氫添加物。
      使用鋰起始劑嵌段共聚合共軛二烯系單體與乙烯基芳香族系單體時,使(1)第三胺化合物以及(2)醇鈉按照(2)/(1)=0.01以上且不到0.1(莫耳比)共存。
    • 本发明之目的在于提供一种制造方法,其系于使用锂起始剂之阴离子聚合中,以高生产率获得嵌段共聚物之制造方法,上述嵌段共聚物系具有乙烯基键结量较高之共轭二烯嵌段部分、与分子量分布狭窄之乙烯基芳香族嵌段部分,并且分子量分布狭窄且高强度者;并且,可提供一种该嵌段共聚物或其氢添加物。 使用锂起始剂嵌段共聚合共轭二烯系单体与乙烯基芳香族系单体时,使(1)第三胺化合物以及(2)醇钠按照(2)/(1)=0.01以上且不到0.1(莫耳比)共存。
    • 10. 发明专利
    • 氫化嵌段共聚物組合物及使用其之成形體
    • 氢化嵌段共聚物组合物及使用其之成形体
    • TW201020289A
    • 2010-06-01
    • TW098127007
    • 2009-08-11
    • 旭化成化學股份有限公司
    • 久末隆寬荒木祥文仁田克德
    • C08LC08F
    • C08L53/025C08F8/04C08L23/02C08L35/06C08F297/04C08L2666/24C08L2666/04C08L2666/02
    • 本發明提供一種氫化嵌段共聚物組合物,其含有(I)為乙烯基芳香族化合物與共軛二烯之共聚物之氫化物且具有下述(1)~(4)之特性之氫化嵌段共聚物:5~95質量%;及(II)至少一種烯烴系樹脂:5~95質量%;(1)具有至少一個下述(b)、(c)之聚合物嵌段,(b)包含乙烯基芳香族化合物與共軛二烯之氫化共聚物嵌段,(c)以共軛二烯作為主體之氫化聚合物嵌段,(2)上述(b)中之乙烯基芳香族化合物之含量為40~80質量%,(3)上述(I)中之上述(c)之含量為20~80質量%,(4)氫化嵌段共聚物(I)之黏彈性測定圖表中之tan���(損耗正切)之波峰於0℃以上且60℃以下存在至少一個,且於未達0℃存在至少一個。
    • 本发明提供一种氢化嵌段共聚物组合物,其含有(I)为乙烯基芳香族化合物与共轭二烯之共聚物之氢化物且具有下述(1)~(4)之特性之氢化嵌段共聚物:5~95质量%;及(II)至少一种烯烃系树脂:5~95质量%;(1)具有至少一个下述(b)、(c)之聚合物嵌段,(b)包含乙烯基芳香族化合物与共轭二烯之氢化共聚物嵌段,(c)以共轭二烯作为主体之氢化聚合物嵌段,(2)上述(b)中之乙烯基芳香族化合物之含量为40~80质量%,(3)上述(I)中之上述(c)之含量为20~80质量%,(4)氢化嵌段共聚物(I)之黏弹性测定图表中之tan���(损耗正切)之波峰于0℃以上且60℃以下存在至少一个,且于未达0℃存在至少一个。