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1. 发明专利

TW201704388A 易剝離性保護用樹脂薄膜形成組成物审中-公开
简体标题：易剥离性保护用树脂薄膜形成组成物
公开(公告)号：TW201704388A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105102803
申请日：2016-01-27
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： C09D175/16 , C09D4/02 , C09D7/12 , C09D5/20
CPC分类号： C09D7/40 , C08F290/067 , C08G18/4854 , C08G18/672 , C09D4/00 , C09D5/20 , C09D175/16 , C08G18/48
摘要：一種易剝離性保護用樹脂薄膜形成組成物，其特徵為含有以聚四亞甲基甘醇骨架作為主骨架之胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物、至少含有單官能(甲基)丙烯酸酯之(甲基)丙烯酸酯、與自由基聚合起始劑，前述單官能(甲基)丙烯酸酯之含量，相對於前述(甲基)丙烯酸酯之全量為50質量%以上。
简体摘要：一种易剥离性保护用树脂薄膜形成组成物，其特征为含有以聚四亚甲基甘醇骨架作为主骨架之胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物、至少含有单官能(甲基)丙烯酸酯之(甲基)丙烯酸酯、与自由基聚合起始剂，前述单官能(甲基)丙烯酸酯之含量，相对于前述(甲基)丙烯酸酯之全量为50质量%以上。

2. 发明专利

TW201437171A 經薄壁化之玻璃基板之製造方法审中-公开
简体标题：经薄壁化之玻璃基板之制造方法
公开(公告)号：TW201437171A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW103103702
申请日：2014-01-28
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： C03C25/68
CPC分类号： C03C15/00 , C03C27/10
摘要：本發明之課題係提供一種藉由蝕刻而薄壁化之玻璃基板之製造方法，其包含使用同時具有優異之氫氟酸阻隔性與優異之浸透性的樹脂組成物，於玻璃外周部形成密封之步驟。本發明之藉由蝕刻而薄壁化之玻璃基板之製造方法之特徵係包含下列步驟：將含有樹脂作為(A)成分之組成物塗佈於玻璃板之外周部，形成外周部密封之步驟，與進行蝕刻加工而薄壁化之步驟，其中該樹脂係使選自聚丁二烯多元醇、氫化聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇及氫化聚異戊二烯多元醇之多元醇(a1)與交聯劑(a2)反應而得。
简体摘要：本发明之课题系提供一种借由蚀刻而薄壁化之玻璃基板之制造方法，其包含使用同时具有优异之氢氟酸阻隔性与优异之浸透性的树脂组成物，于玻璃外周部形成密封之步骤。本发明之借由蚀刻而薄壁化之玻璃基板之制造方法之特征系包含下列步骤：将含有树脂作为(A)成分之组成物涂布于玻璃板之外周部，形成外周部密封之步骤，与进行蚀刻加工而薄壁化之步骤，其中该树脂系使选自聚丁二烯多元醇、氢化聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇及氢化聚异戊二烯多元醇之多元醇(a1)与交联剂(a2)反应而得。

3. 发明专利

TW201817833A 易剝離性保護膜形成用組成物审中-公开
简体标题：易剥离性保护膜形成用组成物
公开(公告)号：TW201817833A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106125156
申请日：2017-07-26
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： C09D175/14 , C09D4/02 , C09D7/12 , C09D5/20
摘要：一種易剝離性保護膜形成用組成物，其特徵係包含將聚己內酯骨架作為主骨架的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物、至少包含單官能(甲基)丙烯酸酯的(甲基)丙烯酸酯、與自由基聚合起始劑，前述單官能(甲基)丙烯酸酯之含量，相對於前述(甲基)丙烯酸酯之全量為50質量%以上。
简体摘要：一种易剥离性保护膜形成用组成物，其特征系包含将聚己内酯骨架作为主骨架的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物、至少包含单官能(甲基)丙烯酸酯的(甲基)丙烯酸酯、与自由基聚合起始剂，前述单官能(甲基)丙烯酸酯之含量，相对于前述(甲基)丙烯酸酯之全量为50质量%以上。

4. 发明专利

TW201500844A 鍍敷阻劑用樹脂組成物及使用其之基板之製造方法审中-公开
简体标题：镀敷阻剂用树脂组成物及使用其之基板之制造方法
公开(公告)号：TW201500844A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103108150
申请日：2014-03-10
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/035 , G03F7/075 , G03F7/027 , H05K3/18 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/035 , C08F36/14 , C09J115/00 , H05K1/0306 , H05K3/184 , H05K2201/0179
摘要：本發明之課題為提供使用了適於形成將配線基板予以無電解鍍敷加工時的阻劑膜之樹脂組成物的各種基板之製造方法。其解決手段為，一種具有藉由無電解鍍敷加工所形成之圖型的基板之製造方法，其特徵在於包含：將含有作為(A)成分之使由聚丁二烯多元醇、氫化聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇及氫化聚異戊二烯多元醇中選出之多元醇(a1)與交聯劑(a2)反應而得之樹脂的組成物塗佈於基板上而形成阻劑膜之步驟；與對形成有該阻劑膜之基板進行無電解鍍敷加工而圖型化之步驟。
简体摘要：本发明之课题为提供使用了适于形成将配线基板予以无电解镀敷加工时的阻剂膜之树脂组成物的各种基板之制造方法。其解决手段为，一种具有借由无电解镀敷加工所形成之图型的基板之制造方法，其特征在于包含：将含有作为(A)成分之使由聚丁二烯多元醇、氢化聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇及氢化聚异戊二烯多元醇中选出之多元醇(a1)与交联剂(a2)反应而得之树脂的组成物涂布于基板上而形成阻剂膜之步骤；与对形成有该阻剂膜之基板进行无电解镀敷加工而图型化之步骤。

5. 发明专利

TWI670397B 一種樹脂薄膜形成用組成物用於氟酸蝕刻之使用方法，及使用該方法之具有圖型之基板之製造方法有权
简体标题：一种树脂薄膜形成用组成物用于氟酸蚀刻之使用方法，及使用该方法之具有图型之基板之制造方法
公开(公告)号：TWI670397B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW104125064
申请日：2015-07-30
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： C23F1/04 , C08F299/06 , C09D109/00 , C09K13/08 , G03F7/027

6. 发明专利

TWI647246B 具有圖型之基板之製造方法及氫氟酸蝕刻用樹脂組成物有权
简体标题：具有图型之基板之制造方法及氢氟酸蚀刻用树脂组成物
公开(公告)号：TWI647246B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW103103395
申请日：2014-01-28
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： C08G18/69 , C08G63/40 , C08F290/06 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/033 , G03F7/40

7. 发明专利

TW201619440A 氟酸蝕刻所使用之樹脂薄膜形成用組成物及氟酸蝕刻所使用之樹脂薄膜审中-公开
简体标题：氟酸蚀刻所使用之树脂薄膜形成用组成物及氟酸蚀刻所使用之树脂薄膜
公开(公告)号：TW201619440A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW104125064
申请日：2015-07-30
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： C23F1/04 , C08L47/00 , C08J5/18
CPC分类号： C09D151/003 , C03C15/00 , C08F290/048 , C08F290/06 , C08F299/06 , C08L9/00 , C09D109/00 , C09D133/08 , C09D133/10 , C09K13/08 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/40
摘要：本發明提供一種包含具有(甲基)丙烯酸基之氫化聚丁二烯化合物與自由基聚合起始劑之氟酸蝕刻所使用之樹脂薄膜形成用組成物。
简体摘要：本发明提供一种包含具有(甲基)丙烯酸基之氢化聚丁二烯化合物与自由基聚合起始剂之氟酸蚀刻所使用之树脂薄膜形成用组成物。

8. 发明专利

TW201523161A 光阻圖型之形成方法以及光阻圖型形成用組成物审中-公开
简体标题：光阻图型之形成方法以及光阻图型形成用组成物
公开(公告)号：TW201523161A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103130060
申请日：2014-08-29
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： G03F7/16 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/028 , G03F7/027 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/40
摘要：本發明係使用光阻圖型形成用組成物之光阻圖型之形成方法，該光阻圖型形成用組成物中至少包含在室溫下為液狀之聚合性單體、與有機膠化劑、與光聚合起始劑，並具有：調製光阻圖型形成用組成物之步驟、與於基板上塗布調製之光阻圖型形成用組成物，並形成塗膜之步驟、與使塗膜中之有機膠化劑膠化之步驟、與將使有機膠化劑膠化後之塗膜進行圖型化之步驟。
简体摘要：本发明系使用光阻图型形成用组成物之光阻图型之形成方法，该光阻图型形成用组成物中至少包含在室温下为液状之聚合性单体、与有机胶化剂、与光聚合起始剂，并具有：调制光阻图型形成用组成物之步骤、与于基板上涂布调制之光阻图型形成用组成物，并形成涂膜之步骤、与使涂膜中之有机胶化剂胶化之步骤、与将使有机胶化剂胶化后之涂膜进行图型化之步骤。

9. 发明专利

TW201817824A 易剝離性保護用樹脂薄膜之形成方法及易剝離性保護用樹脂薄膜形成組成物审中-公开
简体标题：易剥离性保护用树脂薄膜之形成方法及易剥离性保护用树脂薄膜形成组成物
公开(公告)号：TW201817824A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106125158
申请日：2017-07-26
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： C09D5/20 , C09D167/04 , C09D133/08 , C09D133/14 , C08K5/378 , C08K5/08
摘要：經由下述步驟來形成易剝離性保護用樹脂薄膜：調製易剝離性保護用樹脂薄膜形成組成物之步驟，該易剝離性保護用樹脂薄膜形成組成物包含胺基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物、至少包含單官能（甲基）丙烯酸酯的（甲基）丙烯酸酯、與分子末端不具有羥基的自由基聚合起始劑或分子末端具有羥基且具有受阻構造的自由基聚合起始劑，及將易剝離性保護用樹脂薄膜形成組成物塗佈於玻璃基板上形成易剝離性保護用樹脂薄膜之步驟。
简体摘要：经由下述步骤来形成易剥离性保护用树脂薄膜：调制易剥离性保护用树脂薄膜形成组成物之步骤，该易剥离性保护用树脂薄膜形成组成物包含胺基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物、至少包含单官能（甲基）丙烯酸酯的（甲基）丙烯酸酯、与分子末端不具有羟基的自由基聚合起始剂或分子末端具有羟基且具有受阻构造的自由基聚合起始剂，及将易剥离性保护用树脂薄膜形成组成物涂布于玻璃基板上形成易剥离性保护用树脂薄膜之步骤。

10. 发明专利

TW201700512A 易解體性樹脂薄膜形成組成物及易解體性樹脂薄膜审中-公开
简体标题：易解体性树脂薄膜形成组成物及易解体性树脂薄膜
公开(公告)号：TW201700512A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105102804
申请日：2016-01-27
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：佐藤哲夫 , SATO, TETSUO
IPC分类号： C08F220/18 , C08F212/14 , C08F232/04 , C08L33/14 , C08J5/18 , C09J7/00 , B32B7/12
CPC分类号： C09J7/00 , C08F220/18 , C08F222/10 , C09D5/20 , C09D133/24 , C09J4/06 , C09J5/00 , C09J7/24 , C09J133/08 , C09J133/24 , C09J135/02 , C09J157/00 , C09J175/16 , C09J2433/00 , C08F2222/1086 , C08F2220/1825 , C08F212/06
摘要：本發明為一種易解體性樹脂薄膜形成組成物，其特徵為包含第1聚合性組成物或第2聚合性組成物之聚合物、與胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，該第1聚合性組成物包含含三級丁氧基之乙烯性不飽和單體以及自由基聚合起始劑，該第2聚合性組成物之聚合物包含前述含三級丁氧基之乙烯性不飽和單體，前述第1聚合性組成物或前述第2聚合性組成物中的單體之總量與前述胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物之合計質量中，前述含三級丁氧基之乙烯性不飽和單體的量為5質量%以上且未滿95質量%。
简体摘要：本发明为一种易解体性树脂薄膜形成组成物，其特征为包含第1聚合性组成物或第2聚合性组成物之聚合物、与胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，该第1聚合性组成物包含含三级丁氧基之乙烯性不饱和单体以及自由基聚合起始剂，该第2聚合性组成物之聚合物包含前述含三级丁氧基之乙烯性不饱和单体，前述第1聚合性组成物或前述第2聚合性组成物中的单体之总量与前述胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物之合计质量中，前述含三级丁氧基之乙烯性不饱和单体的量为5质量%以上且未满95质量%。

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