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1. 发明专利

TWI437287B 複合薄膜之製造方法及複合薄膜有权
简体标题：复合薄膜之制造方法及复合薄膜
公开(公告)号：TWI437287B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW099106274
申请日：2010-03-04
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：宮崎順三 , MIYAZAKI, JUNZO , 井上徹雄 , INOUE, TETSUO
IPC分类号： G02B5/30 , C09B31/08 , C09K19/24
CPC分类号： C09K19/601 , C08J7/06 , C08J2300/22 , G02B5/3016

2. 发明专利

TWI398678B 耐水性偏光膜之製造方法失效
简体标题：耐水性偏光膜之制造方法
公开(公告)号：TWI398678B
公开(公告)日：2013-06-11
申请号：TW098104375
申请日：2009-02-11
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：梅本徹 , UMEMOTO, TORU , 宮崎順三 , MIYAZAKI, JUNZO , 松田祥一 , MATSUDA, SHOICHI , 中西貞裕 , NAKANISHI, SADAHIRO
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3033

3. 发明专利

TWI407160B 耐水性偏光膜之製造方法失效
简体标题：耐水性偏光膜之制造方法
公开(公告)号：TWI407160B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW098103563
申请日：2009-02-04
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：宮崎順三 , MIYAZAKI, JUNZO , 松田祥一 , MATSUDA, SHOICHI , 西口恭子 , NISHIGUCHI, KYOKO
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/10 , C09B31/08
CPC分类号： B29D11/00644 , C09B31/072 , C09B31/08 , C09B63/005 , G02B5/3033

4. 发明专利

TW200420919A 相位差板之製造方法审中-公开
简体标题：相位差板之制造方法
公开(公告)号：TW200420919A
公开(公告)日：2004-10-16
申请号：TW093101836
申请日：2004-01-28
申请人：日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
发明人：首藤俊介 SHUTO, SHUNSUKE , 宮武稔 , 過內直樹 , 宮崎順三 , 松永卓也
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/3016 , G02F1/13363 , G02F2001/133633
摘要：本發明提供可製造薄型且無外觀缺陷之高性能相位差板之製造方法。首先，如圖1A所示，藉由在透明基材1上塗佈液晶性化合物之溶液並使之乾燥，或塗佈熔融之液晶性化合物，來形成液晶性化合物含有層2a。接著，如圖1B所示，使液晶性化合物含有層2a液晶化或液化作為熔融層2b，在其上接觸配向基板，使前述液晶性化合物在特定方向配向。接著，使前述液晶性化合物在特定方向配向後，如圖1C所示，使熔融之液晶性化合物含有層2b固化，去除配向基板3，製造由透明基材1與光學異向性層2所構成之相位差板4。
简体摘要：本发明提供可制造薄型且无外观缺陷之高性能相位差板之制造方法。首先，如图1A所示，借由在透明基材1上涂布液晶性化合物之溶液并使之干燥，或涂布熔融之液晶性化合物，来形成液晶性化合物含有层2a。接着，如图1B所示，使液晶性化合物含有层2a液晶化或液化作为熔融层2b，在其上接触配向基板，使前述液晶性化合物在特定方向配向。接着，使前述液晶性化合物在特定方向配向后，如图1C所示，使熔融之液晶性化合物含有层2b固化，去除配向基板3，制造由透明基材1与光学异向性层2所构成之相位差板4。

5. 发明专利

TW200949318A 耐水性偏光膜之製造方法失效
简体标题：耐水性偏光膜之制造方法
公开(公告)号：TW200949318A
公开(公告)日：2009-12-01
申请号：TW098103563
申请日：2009-02-04
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：宮崎順三 , 松田祥一 , 西口恭子
IPC分类号： G02B , C09B
CPC分类号： B29D11/00644 , C09B31/072 , C09B31/08 , C09B63/005 , G02B5/3033
摘要：先前之使有機色素配向之偏光膜中，使用具有磺酸離子與一價陽離子鍵結而成之磺酸鹽基的有機色素。此種偏光膜由於有機色素之磺酸鹽基溶於水而缺乏耐水性。相對於此，可將磺酸鹽基之一價陽離子取代為不溶於水之二價陽離子，而獲得耐水性偏光膜。但若進行耐水性處理則有二色比降低之問題。為獲得二色比不降低之耐水性偏光膜，較為重要的是進行耐水化處理之偏光膜中所用有機色素內相鄰磺酸基或磺酸鹽基的位置關係。本發明之耐水性偏光膜之製造方法的特徵在於：耐水化處理前之偏光膜含有包含下述通式(1)或(2)所示之偶氮化合物20的有機色素：
[化1]
[化2]
简体摘要：先前之使有机色素配向之偏光膜中，使用具有磺酸离子与一价阳离子键结而成之磺酸盐基的有机色素。此种偏光膜由于有机色素之磺酸盐基溶于水而缺乏耐水性。相对于此，可将磺酸盐基之一价阳离子取代为不溶于水之二价阳离子，而获得耐水性偏光膜。但若进行耐水性处理则有二色比降低之问题。为获得二色比不降低之耐水性偏光膜，较为重要的是进行耐水化处理之偏光膜中所用有机色素内相邻磺酸基或磺酸盐基的位置关系。本发明之耐水性偏光膜之制造方法的特征在于：耐水化处理前之偏光膜含有包含下述通式(1)或(2)所示之偶氮化合物20的有机色素： [化1] [化2]

6. 发明专利

TW201102686A 複合薄膜之製造方法及複合薄膜审中-公开
简体标题：复合薄膜之制造方法及复合薄膜
公开(公告)号：TW201102686A
公开(公告)日：2011-01-16
申请号：TW099106274
申请日：2010-03-04
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：宮崎順三 , 井上徹雄
IPC分类号： G02B , C09B , C09K
CPC分类号： C09K19/601 , C08J7/06 , C08J2300/22 , G02B5/3016
摘要：本發明所欲解決之產業課題在於：依據傾斜延伸法，可獲得吸收軸朝薄膜之寬度方向傾斜的偏光膜。然而，難以獲得薄的偏光薄膜。依據習知之於支持薄膜35上將液晶化合物31塗佈成薄膜狀，使液晶化合物31進行配向，並使薄膜成為偏光膜40之製法，可容易獲得薄的偏光膜40。然而，無法獲得吸收軸32朝支持薄膜35之寬度方向39傾斜的偏光膜40。本發明之解決手段在於：將支持薄膜11之表面朝兩方向進行配向處理。於支持薄膜11之表面上塗佈含有溶致型液晶化合物14之溶液。溶致型液晶化合物14之柱狀凝聚體15係朝第一配向處理方向12與第二配向處理方向13之向量和方向(配向方向16)進行配向。藉此，可獲得吸收軸17朝寬度方向19傾斜且薄的偏光膜18。
简体摘要：本发明所欲解决之产业课题在于：依据倾斜延伸法，可获得吸收轴朝薄膜之宽度方向倾斜的偏光膜。然而，难以获得薄的偏光薄膜。依据习知之于支持薄膜35上将液晶化合物31涂布成薄膜状，使液晶化合物31进行配向，并使薄膜成为偏光膜40之制法，可容易获得薄的偏光膜40。然而，无法获得吸收轴32朝支持薄膜35之宽度方向39倾斜的偏光膜40。本发明之解决手段在于：将支持薄膜11之表面朝两方向进行配向处理。于支持薄膜11之表面上涂布含有溶致型液晶化合物14之溶液。溶致型液晶化合物14之柱状凝聚体15系朝第一配向处理方向12与第二配向处理方向13之矢量和方向(配向方向16)进行配向。借此，可获得吸收轴17朝宽度方向19倾斜且薄的偏光膜18。

7. 发明专利

TW201000970A 耐水性偏光膜之製造方法失效
简体标题：耐水性偏光膜之制造方法
公开(公告)号：TW201000970A
公开(公告)日：2010-01-01
申请号：TW098104375
申请日：2009-02-11
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：梅本徹 , 宮崎順三 , 松田祥一 , 中西貞裕
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/3033
摘要：於含有具有磺酸基之有機色素之有機薄膜上塗佈含有多價金屬鹽或胺基化合物鹽之溶液而獲得耐水性有機薄膜之方法為已知。含有胺基化合物鹽之溶液比含有多價金屬鹽之溶液之毒性低且操作性優異。然而使用胺基化合物鹽所得之有機薄膜之耐水性遠低於使用多價金屬鹽所得者，並不滿足偏光膜用途所必需之水準。藉由使含有陽離子性聚合物之液體與含有具有陰離子性基團之有機色素之偏光膜之表面接觸，可獲得耐水性較先前明顯優異之偏光膜。
简体摘要：于含有具有磺酸基之有机色素之有机薄膜上涂布含有多价金属盐或胺基化合物盐之溶液而获得耐水性有机薄膜之方法为已知。含有胺基化合物盐之溶液比含有多价金属盐之溶液之毒性低且操作性优异。然而使用胺基化合物盐所得之有机薄膜之耐水性远低于使用多价金属盐所得者，并不满足偏光膜用途所必需之水准。借由使含有阳离子性聚合物之液体与含有具有阴离子性基团之有机色素之偏光膜之表面接触，可获得耐水性较先前明显优异之偏光膜。

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