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1. 发明专利

TW201920550A 補強膜审中-公开
简体标题：补强膜
公开(公告)号：TW201920550A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107134008
申请日：2018-09-27
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：仲野武史 , NAKANO, TAKESHI , 林圭治 , HAYASHI, KEIJI , 徐創矢 , JO, SOUYA , 佐佐木翔悟 , SASAKI, SHOGO , 片岡賢一 , KATAOKA, KENICHI
IPC分类号： C09J7/20 , C09J133/08 , C09J11/06 , G09F9/00
摘要：本發明之補強膜(10)具備固著積層於膜基材(1)之一主面上之黏著劑層(2)。黏著劑層包含含有基礎聚合物及光硬化劑之光硬化性組合物。黏著劑層較佳為藉由摩擦力顯微鏡所測得之頻率5 Hz下之摩擦力為頻率0.1 Hz下之摩擦力之2～5倍。光硬化後之黏著劑層較佳為藉由摩擦力顯微鏡所測得之頻率5 Hz下之摩擦力為頻率0.1 Hz下之摩擦力之5倍以上。
简体摘要：本发明之补强膜(10)具备固着积层于膜基材(1)之一主面上之黏着剂层(2)。黏着剂层包含含有基础聚合物及光硬化剂之光硬化性组合物。黏着剂层较佳为借由摩擦力显微镜所测得之频率5 Hz下之摩擦力为频率0.1 Hz下之摩擦力之2～5倍。光硬化后之黏着剂层较佳为借由摩擦力显微镜所测得之频率5 Hz下之摩擦力为频率0.1 Hz下之摩擦力之5倍以上。

2. 发明专利

TW201402762A 黏著帶审中-公开
简体标题：黏着带
公开(公告)号：TW201402762A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102114686
申请日：2013-04-24
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：內田翔 , UCHIDA, SHOU , 澤崎良平 , SAWAZAKI, RYOHEI , 林圭治 , HAYASHI, KEIJI
IPC分类号： C09J7/02
摘要：本發明提供一種可平衡良好地表現良好之回捲性、良好之貼合性、良好之黏著力、剝離後之低污染性等，並且魚眼充分減少，透明性及映像性優異的新穎黏著帶。本發明之黏著帶係包含基材層及黏著劑層者，該基材層具有背面層作為與該黏著劑層相反側之最外層，霧度為8%以下，總光線透過率為85%以上，光頻梳之寬度為2 mm下之MD方向及TD方向之圖像清晰度均為85%以上，且直徑為200 μm以上之魚眼之數為1個/10 m2以下。
简体摘要：本发明提供一种可平衡良好地表现良好之回卷性、良好之贴合性、良好之黏着力、剥离后之低污染性等，并且鱼眼充分减少，透明性及图像性优异的新颖黏着带。本发明之黏着带系包含基材层及黏着剂层者，该基材层具有背面层作为与该黏着剂层相反侧之最外层，雾度为8%以下，总光线透过率为85%以上，光频梳之宽度为2 mm下之MD方向及TD方向之图像清晰度均为85%以上，且直径为200 μm以上之鱼眼之数为1个/10 m2以下。

3. 发明专利

TW201307518A 黏著片材审中-公开
简体标题：黏着片材
公开(公告)号：TW201307518A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101121640
申请日：2012-06-15
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：木戶章文 , KIDO, AKIFUMI , 內田翔 , UCHIDA, SHOU , 澤崎良平 , SAWAZAKI, RYOHEI , 森本政和 , MORIMOTO, MASAKAZU , 林圭治 , HAYASHI, KEIJI
IPC分类号： C09J7/02 , B32B27/06
CPC分类号： B32B27/32 , B32B27/08 , B32B27/306 , B32B2250/24 , B32B2250/246 , B32B2270/00 , B32B2405/00 , C08F299/00 , C08L23/02 , C09J7/29 , C09J2201/162 , C09J2423/00 , C09J2423/006 , C09J2425/00 , C09J2453/006 , Y10T428/2839 , Y10T428/2848
摘要：本發明提供一種適合於表面保護膜等之黏著片材，其自捲繞體等之退捲性良好，且具有優異之抗靜電性。本發明之黏著片材係包含背面層(A)、基材層(B)及黏著劑層(C)，且該背面層(A)與該黏著劑層(C)為最外層者，該背面層(A)之剝離力為0.1~3.5 N/20 mm，該背面層(A)之表面電阻值未達1×1014 Ω/□。
简体摘要：本发明提供一种适合于表面保护膜等之黏着片材，其自卷绕体等之退卷性良好，且具有优异之抗静电性。本发明之黏着片材系包含背面层(A)、基材层(B)及黏着剂层(C)，且该背面层(A)与该黏着剂层(C)为最外层者，该背面层(A)之剥离力为0.1~3.5 N/20 mm，该背面层(A)之表面电阻值未达1×1014 Ω/□。

4. 发明专利

TW201114594A 積層膜及黏著帶审中-公开
简体标题：积层膜及黏着带
公开(公告)号：TW201114594A
公开(公告)日：2011-05-01
申请号：TW099120779
申请日：2010-06-25
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：內田翔 , 武田公平 , 花木一康 , 林圭治 , 生島伸祐 , 林直人 , 大山高輝
IPC分类号： B32B , C09J
摘要：本發明提供一種不使積層膜或黏著帶整體的機械物性發生變動，而對霧度值和表面粗糙度進行了調整的積層膜和黏著帶。本發明的積層膜係具有基材層和表面層，其中，該基材層包含熱可塑性樹脂，該表面層的算術平均表面粗糙度Ra為0.5μm~2.0μm，該積層膜的霧度值為13.5％~80％。
简体摘要：本发明提供一种不使积层膜或黏着带整体的机械物性发生变动，而对雾度值和表面粗糙度进行了调整的积层膜和黏着带。本发明的积层膜系具有基材层和表面层，其中，该基材层包含热可塑性树脂，该表面层的算术平均表面粗糙度Ra为0.5μm~2.0μm，该积层膜的雾度值为13.5％~80％。

5. 发明专利

TW201311854A 黏著片材审中-公开
简体标题：黏着片材
公开(公告)号：TW201311854A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101128508
申请日：2012-08-07
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：木戶章文 , KIDO, AKIFUMI , 內田翔 , UCHIDA, SHOU , 澤崎良平 , SAWAZAKI, RYOHEI , 森本政和 , MORIMOTO, MASAKAZU , 林圭治 , HAYASHI, KEIJI
IPC分类号： C09J7/02 , B32B27/06
CPC分类号： C08L23/0853 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/306 , B32B27/32 , B32B2250/03 , B32B2250/246 , B32B2270/00 , B32B2307/21 , B32B2405/00 , C08L23/04 , C08L2205/02 , C09J7/29 , C09J125/04 , C09J2201/622 , C09J2203/318 , C09J2423/00 , C09J2423/006 , C09J2425/00 , C09J2453/005 , C09J2453/006 , G02F2202/22 , G02F2202/28
摘要：本發明提供一種具有優異之抗靜電性且具有優異之像清晰度平衡性的適用於表面保護膜等之黏著片材。本發明之黏著片材係包含背面層(A)、基材層(B)及黏著劑層(C)，且該背面層(A)與該黏著劑層(C)為最外層者，並且該背面層(A)之表面電阻值未達1×1014 Ω/□，於將該背面層(A)之於狹縫寬度0.25 mm在MD方向之像清晰度設為X%，且將該背面層(A)之於狹縫寬度0.25 mm在TD方向之像清晰度設為Y%時，0.6X≦Y≦1.4X。
简体摘要：本发明提供一种具有优异之抗静电性且具有优异之像清晰度平衡性的适用于表面保护膜等之黏着片材。本发明之黏着片材系包含背面层(A)、基材层(B)及黏着剂层(C)，且该背面层(A)与该黏着剂层(C)为最外层者，并且该背面层(A)之表面电阻值未达1×1014 Ω/□，于将该背面层(A)之于狭缝宽度0.25 mm在MD方向之像清晰度设为X%，且将该背面层(A)之于狭缝宽度0.25 mm在TD方向之像清晰度设为Y%时，0.6X≦Y≦1.4X。

6. 发明专利

TWI374174B 加工材、表面保護片、以及加工方法有权
简体标题：加工材、表面保护片、以及加工方法
公开(公告)号：TWI374174B
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：TW094126323
申请日：2005-08-03
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：林圭治 , 奧村和人 , 田中良和 , 原英夫 , 稻益亨
IPC分类号： C09J , B32B , B21D
CPC分类号： B21D28/24 , B21D5/02 , B21D28/00 , Y10T428/1471 , Y10T428/24942 , Y10T428/24967 , Y10T428/24975 , Y10T428/28 , Y10T428/2804 , Y10T428/2852 , Y10T428/2891
摘要：本發明為一種加工材，係在衝孔加工及/或彎曲加工所用的金屬板貼合表面保護片而成者；其特徵在於，該表面保護片係由支持基材所構成，並於單面有黏著層，該表面保護片之由下式(I)＝支持基材的厚度(mm)×表面保護片之破裂伸長率(%)(II)＝支持基材的厚度(mm)×表面保護片之破裂強度(N/20mm)得到之係數(I)為21.0以下、係數(II)為4.0以上。
简体摘要：本发明为一种加工材，系在冲孔加工及/或弯曲加工所用的金属板贴合表面保护片而成者；其特征在于，该表面保护片系由支持基材所构成，并於单面有黏着层，该表面保护片之由下式(I)＝支持基材的厚度(mm)×表面保护片之破裂伸长率(%)(II)＝支持基材的厚度(mm)×表面保护片之破裂强度(N/20mm)得到之系数(I)为21.0以下、系数(II)为4.0以上。

7. 发明专利

TW201202042A 黏著帶 PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE TAPE 审中-公开
简体标题：黏着带 PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE TAPE
公开(公告)号：TW201202042A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW100113028
申请日：2011-04-14
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：生島伸祐 , 林直人 , 大山高輝 , 林圭治 , 內田翔 , 武田公平 , 澤崎良平
IPC分类号： B32B
CPC分类号： B32B7/12 , B32B7/02 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B27/302 , B32B27/304 , B32B27/306 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B27/40 , B32B2274/00 , B32B2307/732 , B32B2405/00 , C09J7/381 , C09J2201/36 , C09J2453/00 , Y10T428/24967 , Y10T428/269
摘要：本發明提供一種新穎之黏著帶，其從製造步驟(製造中)至因製造結束而產品完成時(剛製造後)為止，具有適度地較弱之黏著力，藉此可充分地抑制製造時因黏著劑層對輥等之牢固黏著而引起之剝離不良等，結果可進行穩定之產品供給，另外，即使在剛製造後經過約半天後，亦可容易地退繞，另一方面，在製造後經過特定時間後(例如，使用時)，對被黏附體可表現出足夠強之黏著力。本發明之黏著帶係依序具有基材層(A)、第一黏著劑層(B1)、及第二黏著劑層(B2)之至少包含三層者，該基材層(A)含有熱塑性樹脂，該第一黏著劑層(B1)中之黏著賦予劑之含有比例為12重量%以上，該第二黏著劑層(B2)中之黏著賦予劑之含有比例為10重量%以下，該第二黏著劑層(B2)厚度為10μm以上。
简体摘要：本发明提供一种新颖之黏着带，其从制造步骤(制造中)至因制造结束而产品完成时(刚制造后)为止，具有适度地较弱之黏着力，借此可充分地抑制制造时因黏着剂层对辊等之牢固黏着而引起之剥离不良等，结果可进行稳定之产品供给，另外，即使在刚制造后经过约半天后，亦可容易地退绕，另一方面，在制造后经过特定时间后(例如，使用时)，对被黏附体可表现出足够强之黏着力。本发明之黏着带系依序具有基材层(A)、第一黏着剂层(B1)、及第二黏着剂层(B2)之至少包含三层者，该基材层(A)含有热塑性树脂，该第一黏着剂层(B1)中之黏着赋予剂之含有比例为12重量%以上，该第二黏着剂层(B2)中之黏着赋予剂之含有比例为10重量%以下，该第二黏着剂层(B2)厚度为10μm以上。

8. 发明专利

TW201119855A 積層膜及黏著帶审中-公开
简体标题：积层膜及黏着带
公开(公告)号：TW201119855A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW099123257
申请日：2010-07-15
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：生島伸祐 , 林直人 , 大山高輝 , 林圭治 , 內田翔 , 武田公平 , 花木一康
IPC分类号： B32B , C09J , G02B
摘要：本發明提供一種在不使積層膜或黏著帶整體的機械物性改變之下調整成可以同時具有穿透性優良的低霧度性與難以辨視魚眼等異物之程度的高表面粗糙度的積層膜與黏著帶。另外,本發明提供一種能夠保護表面具有凹凸之構件的凹凸面的黏著帶,其同時具有對該構件的充分黏著性與充分剝離性,並且將用該黏著帶保護的該構件作成為積層或長卷等而變形時,該凹凸形狀亦不變形,而且不劃傷該黏著帶中的基材層,另外,在不使黏著帶整體的機械物性改變化之下,調整到能夠同時具有穿透性優良的低霧度性與難以辨視魚眼等異物之程度的高表面粗糙度。另外,本發明提供黏著帶,其係在使用表面固定有複數個三角柱狀稜鏡的稜鏡片作為上述表面具有凹凸之構件時,發揮能夠有效保護透鏡面的作為表面保護膜之作用,同時具有對稜鏡片的充分黏著性與充分剝離性,並且將用該黏著帶保護的稜鏡片作成為積層或長卷等狀態時,可以抑制貼合有該黏著帶的稜鏡片的外觀產生不均(壓痕)。本發明的積層膜係依次具有基材層、粗糙表現層與微細凹凸消除層,其中,該基材層包含熱可塑性樹脂,該粗糙表現層包含選自聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、丙烯系聚合物與烯烴系熱可塑性彈性體的至少一種之樹脂成分(A),該微細凹凸消除層包含熱可塑性樹脂(B),該微細凹凸消除層側表面的算術平均表面粗糙度Ra為1.0��m~3.0��m,該積層膜的霧度値為30%以下。
简体摘要：本发明提供一种在不使积层膜或黏着带整体的机械物性改变之下调整成可以同时具有穿透性优良的低雾度性与难以辨视鱼眼等异物之程度的高表面粗糙度的积层膜与黏着带。另外,本发明提供一种能够保护表面具有凹凸之构件的凹凸面的黏着带,其同时具有对该构件的充分黏着性与充分剥离性,并且将用该黏着带保护的该构件作成为积层或长卷等而变形时,该凹凸形状亦不变形,而且不划伤该黏着带中的基材层,另外,在不使黏着带整体的机械物性改变化之下,调整到能够同时具有穿透性优良的低雾度性与难以辨视鱼眼等异物之程度的高表面粗糙度。另外,本发明提供黏着带,其系在使用表面固定有复数个三角柱状棱镜的棱镜片作为上述表面具有凹凸之构件时,发挥能够有效保护透镜面的作为表面保护膜之作用,同时具有对棱镜片的充分黏着性与充分剥离性,并且将用该黏着带保护的棱镜片作成为积层或长卷等状态时,可以抑制贴合有该黏着带的棱镜片的外观产生不均(压痕)。本发明的积层膜系依次具有基材层、粗糙表现层与微细凹凸消除层,其中,该基材层包含热可塑性树脂,该粗糙表现层包含选自聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、丙烯系聚合物与烯烃系热可塑性弹性体的至少一种之树脂成分(A),该微细凹凸消除层包含热可塑性树脂(B),该微细凹凸消除层侧表面的算术平均表面粗糙度Ra为1.0��m~3.0��m,该积层膜的雾度値为30%以下。

9. 发明专利

TWI698332B 積層體之製造方法有权
简体标题：积层体之制造方法
公开(公告)号：TWI698332B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW107147157
申请日：2018-12-26
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：設樂浩司 , SHITARA, KOJI , 野呂弘司 , NORO, HIROSHI , 仲野武史 , NAKANO, TAKESHI , 林圭治 , HAYASHI, KEIJI
IPC分类号： B32B27/00 , B32B37/12 , B32B38/10

10. 发明专利

TWI508859B 表面保護片材有权
简体标题：表面保护片材
公开(公告)号：TWI508859B
公开(公告)日：2015-11-21
申请号：TW099140723
申请日：2010-11-25
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：內田翔 , UCHIDA, SHOU , 澤崎良平 , SAWAZAKI, RYOHEI , 林圭治 , HAYASHI, KEIJI , 武田公平 , TAKEDA, KOUHEI
IPC分类号： B32B27/30 , C09J201/00
CPC分类号： C09J153/025 , B32B7/12 , B32B27/30 , B32B27/32 , B32B2571/00 , C09J7/243 , C09J2201/16 , C09J2423/006 , Y10T428/24355 , Y10T428/265 , Y10T428/2848

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