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1. 发明专利

TW201023895A 骨髓纖維化症治療劑 A THERAPEUTICAL AGENT FOR TREATING MYELOFIBROSIS 审中-公开
简体标题：骨髓纤维化症治疗剂 A THERAPEUTICAL AGENT FOR TREATING MYELOFIBROSIS
公开(公告)号：TW201023895A
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：TW098129737
申请日：2009-09-03
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：新津洋司郎 , 松永卓也
IPC分类号： A61K , A61P
CPC分类号： C12N15/113 , A61K9/1272 , A61K31/07 , A61K31/7105 , A61K45/06 , A61K47/551 , A61K47/6911 , C12N15/111 , C12N2310/14 , C12N2320/32 , A61K2300/00
摘要：【課題】本發明係提供一種新穎的骨髓纖維化症治療劑。【解決手段】一種物質輸送用攜帶體，其係含有類視色素(retinoid)，並係用以將物質輸送至骨髓中的細胞外間質生成細胞；以及一種骨髓纖維化症治療劑，其係利用控制骨髓中的細胞外間質生成細胞的活性或增殖之藥物而成。
简体摘要：【课题】本发明系提供一种新颖的骨髓纤维化症治疗剂。【解决手段】一种物质输送用携带体，其系含有类视色素(retinoid)，并系用以将物质输送至骨髓中的细胞外间质生成细胞；以及一种骨髓纤维化症治疗剂，其系利用控制骨髓中的细胞外间质生成细胞的活性或增殖之药物而成。

2. 发明专利

TWI296341B 相位差薄膜及其製造方法有权
简体标题：相位差薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI296341B
公开(公告)日：2008-05-01
申请号：TW093101714
申请日：2004-01-27
申请人：日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
发明人：首藤俊介 SHUTO, SHUNSUKE , 小林弘明 KOBAYASHI, HIROAKI , 松永卓也
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/3016
摘要：提供一種相位差層之配向方向受到高精度控制、且製造成本低之相位差薄膜及其製造方法。參照圖1做說明。首先，準備一於透明基材10上積層著光學異向性層11之附基材之光學異向性層12。其次，於光學異向性層11上塗佈溶液(含有液晶性化合物以及會和偏光紫外線反應之聚合物)後加以乾燥。接著照射偏光紫外線使得該液晶性化合物進行配向，進而依必要性照射非偏光紫外線使得該液晶性化合物交聯，以製作出於光學異向性層11上直接形成了相位差層13之相位差薄膜1。
简体摘要：提供一种相位差层之配向方向受到高精度控制、且制造成本低之相位差薄膜及其制造方法。参照图1做说明。首先，准备一于透明基材10上积层着光学异向性层11之附基材之光学异向性层12。其次，于光学异向性层11上涂布溶液(含有液晶性化合物以及会和偏光紫外线反应之聚合物)后加以干燥。接着照射偏光紫外线使得该液晶性化合物进行配向，进而依必要性照射非偏光紫外线使得该液晶性化合物交联，以制作出于光学异向性层11上直接形成了相位差层13之相位差薄膜1。

3. 发明专利

TW520445B 光學擴散層、光學擴散板和光學元件失效
简体标题：光学扩散层、光学扩散板和光学组件
公开(公告)号：TW520445B
公开(公告)日：2003-02-11
申请号：TW090132042
申请日：2001-12-24
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：松永卓也 , 芝田浩 , 重松崇之 , 佐竹正之 , 正田位守
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/0221 , G02B5/0226 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , H04N5/72 , Y10S428/913 , Y10T428/1036 , Y10T428/24355 , Y10T428/24372 , Y10T428/24405 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495 , Y10T428/25 , Y10T428/254 , Y10T428/256
摘要：一種光學擴散層係包含一樹脂塗覆層，此樹脂塗覆層具有一表面細微凹凸結構，其中位於具有細微凹凸結構的表面上之峰值至峰值距離(Sm)的一平均數、中線表面粗糙度(Ra)的一平均數、及十點表面粗糙度(Rz)的一平均數係滿足指定的等式。此光學擴散層當應用於一種需要高解析度的LCD時，能夠令防眩光性質及螢幕眩光同時保持受到控制。
简体摘要：一种光学扩散层系包含一树脂涂覆层，此树脂涂覆层具有一表面细微凹凸结构，其中位于具有细微凹凸结构的表面上之峰值至峰值距离(Sm)的一平均数、中线表面粗糙度(Ra)的一平均数、及十点表面粗糙度(Rz)的一平均数系满足指定的等式。此光学扩散层当应用于一种需要高分辨率的LCD时，能够令防眩光性质及屏幕眩光同时保持受到控制。

4. 发明专利

TW200300499A 光學擴散片、光學元件及視看顯示器 OPTICAL DIFFUSION SHEET, OPTICAL ELEMENT, AND VIEWING DISPLAY 审中-公开
简体标题：光学扩散片、光学组件及视看显示器 OPTICAL DIFFUSION SHEET, OPTICAL ELEMENT, AND VIEWING DISPLAY
公开(公告)号：TW200300499A
公开(公告)日：2003-06-01
申请号：TW091133639
申请日：2002-11-18
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：松永卓也 , 近藤誠司 , 北川篤 ATSUSHI KITAGAWA , 正田位守
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/0226 , G02B5/0278 , G02B5/0284 , G02F1/133504
摘要：一種光學擴散薄板，其包含一透明基板及一表面具有細微凹凸形狀的光學擴散層，其中該細微凹凸形狀表面的60°光澤度為70%或較小、該光學擴散片的霞霧度為30%或更大及在配備著包含於此提供的光學擴散片之光學元件的視看顯示器中，其滿足下列條件；C1/C0≧0.2、C2/C0≧0.1、C3/C0≧0.1，當表面亮度為0勒克斯時為C0、當表面亮度為500勒克斯時為C1、當表面亮度為1000勒克斯時為C2及當表面亮度為2000勒克斯時為C3；該光學擴散薄板可防止從外部環境來的反射、具有優良的防眩性質且可抑制在影像視看顯示器表面中的帶白色顯示而可提供一優良的清晰度，且可進一步防止螢幕眩光。
简体摘要：一种光学扩散薄板，其包含一透明基板及一表面具有细微凹凸形状的光学扩散层，其中该细微凹凸形状表面的60°光泽度为70%或较小、该光学扩散片的霞雾度为30%或更大及在配备着包含于此提供的光学扩散片之光学组件的视看显示器中，其满足下列条件；C1/C0≧0.2、C2/C0≧0.1、C3/C0≧0.1，当表面亮度为0勒克斯时为C0、当表面亮度为500勒克斯时为C1、当表面亮度为1000勒克斯时为C2及当表面亮度为2000勒克斯时为C3；该光学扩散薄板可防止从外部环境来的反射、具有优良的防眩性质且可抑制在影像视看显示器表面中的带白色显示而可提供一优良的清晰度，且可进一步防止屏幕眩光。

5. 发明专利

TW503325B 防閃光層、防閃光薄膜以及光學元件失效
简体标题：防闪光层、防闪光薄膜以及光学组件
公开(公告)号：TW503325B
公开(公告)日：2002-09-21
申请号：TW090109267
申请日：2001-04-18
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：松永卓也 , 佐竹正之 , 小林茂生 , 芝田浩 , 正田位守
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B1/11
摘要：防閃光層包含含有粒子之至少一樹脂塗敷層(a)以及層疊在該樹脂塗敷層(a)上之一樹脂塗敷層(b)。該樹脂塗敷層(b)包含粒子且具有一表面不均勻組態。包含在該樹脂塗敷層(b)中之粒子的平均粒子尺寸小於或等於包含在該樹脂塗敷層(a)中之粒子的平均粒子尺寸，並當維持防閃光性質時，能抑制螢幕閃光現象，且其中的白化現象可降到最低。
简体摘要：防闪光层包含含有粒子之至少一树脂涂敷层(a)以及层叠在该树脂涂敷层(a)上之一树脂涂敷层(b)。该树脂涂敷层(b)包含粒子且具有一表面不均匀组态。包含在该树脂涂敷层(b)中之粒子的平均粒子尺寸小于或等于包含在该树脂涂敷层(a)中之粒子的平均粒子尺寸，并当维持防闪光性质时，能抑制屏幕闪光现象，且其中的白化现象可降到最低。

6. 发明专利

TWI504411B 骨髓纖維化症治療劑有权
简体标题：骨髓纤维化症治疗剂
公开(公告)号：TWI504411B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：TW098129737
申请日：2009-09-03
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：新津洋司郎 , NIITSU, YOSHIRO , 松永卓也 , MATSUNAGA, TAKUYA
IPC分类号： A61K47/10 , A61K9/127 , A61K31/07 , A61K48/00 , A61P19/00 , A61P43/00
CPC分类号： C12N15/113 , A61K9/1272 , A61K31/07 , A61K31/7105 , A61K45/06 , A61K47/551 , A61K47/6911 , C12N15/111 , C12N2310/14 , C12N2320/32 , A61K2300/00

7. 发明专利

TWI296342B 相位差板之製造方法有权
简体标题：相位差板之制造方法
公开(公告)号：TWI296342B
公开(公告)日：2008-05-01
申请号：TW093101836
申请日：2004-01-28
申请人：日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
发明人：首藤俊介 SHUTO, SHUNSUKE , 宮武稔 , 過內直樹 TSUJIUCHI, NAOKI , 宮崎順三 MIYAZAKI, JUNZO , 松永卓也
IPC分类号： G02B , G02F
CPC分类号： G02B5/3016 , G02F1/13363 , G02F2001/133633
摘要：本發明提供可製造薄型且無外觀缺陷之高性能相位差板之製造方法。首先，如圖1A所示，藉由在透明基材1上塗佈液晶性化合物之溶液並使之乾燥，或塗佈熔融之液晶性化合物，來形成液晶性化合物含有層2a。接著，如圖1B所示，使液晶性化合物含有層2a液晶化或液化作為熔融層2b，在其上接觸配向基板，使前述液晶性化合物在特定方向配向。接著，使前述液晶性化合物在特定方向配向後，如圖1C所示，使熔融之液晶性化合物含有層2b固化，去除配向基板3，製造由透明基材1與光學異向性層2所構成之相位差板4。
简体摘要：本发明提供可制造薄型且无外观缺陷之高性能相位差板之制造方法。首先，如图1A所示，借由在透明基材1上涂布液晶性化合物之溶液并使之干燥，或涂布熔融之液晶性化合物，来形成液晶性化合物含有层2a。接着，如图1B所示，使液晶性化合物含有层2a液晶化或液化作为熔融层2b，在其上接触配向基板，使前述液晶性化合物在特定方向配向。接着，使前述液晶性化合物在特定方向配向后，如图1C所示，使熔融之液晶性化合物含有层2b固化，去除配向基板3，制造由透明基材1与光学异向性层2所构成之相位差板4。

8. 发明专利

TW200420919A 相位差板之製造方法审中-公开
简体标题：相位差板之制造方法
公开(公告)号：TW200420919A
公开(公告)日：2004-10-16
申请号：TW093101836
申请日：2004-01-28
申请人：日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
发明人：首藤俊介 SHUTO, SHUNSUKE , 宮武稔 , 過內直樹 , 宮崎順三 , 松永卓也
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/3016 , G02F1/13363 , G02F2001/133633
摘要：本發明提供可製造薄型且無外觀缺陷之高性能相位差板之製造方法。首先，如圖1A所示，藉由在透明基材1上塗佈液晶性化合物之溶液並使之乾燥，或塗佈熔融之液晶性化合物，來形成液晶性化合物含有層2a。接著，如圖1B所示，使液晶性化合物含有層2a液晶化或液化作為熔融層2b，在其上接觸配向基板，使前述液晶性化合物在特定方向配向。接著，使前述液晶性化合物在特定方向配向後，如圖1C所示，使熔融之液晶性化合物含有層2b固化，去除配向基板3，製造由透明基材1與光學異向性層2所構成之相位差板4。
简体摘要：本发明提供可制造薄型且无外观缺陷之高性能相位差板之制造方法。首先，如图1A所示，借由在透明基材1上涂布液晶性化合物之溶液并使之干燥，或涂布熔融之液晶性化合物，来形成液晶性化合物含有层2a。接着，如图1B所示，使液晶性化合物含有层2a液晶化或液化作为熔融层2b，在其上接触配向基板，使前述液晶性化合物在特定方向配向。接着，使前述液晶性化合物在特定方向配向后，如图1C所示，使熔融之液晶性化合物含有层2b固化，去除配向基板3，制造由透明基材1与光学异向性层2所构成之相位差板4。

9. 发明专利

TW200419198A 相位差薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：相位差薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW200419198A
公开(公告)日：2004-10-01
申请号：TW093101714
申请日：2004-01-27
申请人：日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
发明人：首藤俊介 SHUTO, SHUNSUKE , 小林弘明 , 松永卓也
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/3016
摘要：提供一種相位差層之配向方向受到高精度控制、且製造成本低之相位差薄膜及其製造方法。參照圖1做說明。首先，準備一於透明基材10上積層著光學異向性層11之附基材之光學異向性層12。其次，於光學異向性層11上塗佈溶液(含有液晶性化合物以及會和偏光紫外線反應之聚合物)後加以乾燥。接著照射偏光紫外線使得該液晶性化合物進行配向，進而依必要性照射非偏光紫外線使得該液晶性化合物交聯，以製作出於光學異向性層11上直接形成了相位差層13之相位差薄膜1。
简体摘要：提供一种相位差层之配向方向受到高精度控制、且制造成本低之相位差薄膜及其制造方法。参照图1做说明。首先，准备一于透明基材10上积层着光学异向性层11之附基材之光学异向性层12。其次，于光学异向性层11上涂布溶液(含有液晶性化合物以及会和偏光紫外线反应之聚合物)后加以干燥。接着照射偏光紫外线使得该液晶性化合物进行配向，进而依必要性照射非偏光紫外线使得该液晶性化合物交联，以制作出于光学异向性层11上直接形成了相位差层13之相位差薄膜1。

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