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1. 发明专利

TW201825432A 附介電體多層膜之玻璃板之製造方法及附介電體多層膜之玻璃板审中-公开
简体标题：附介电体多层膜之玻璃板之制造方法及附介电体多层膜之玻璃板
公开(公告)号：TW201825432A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106128237
申请日：2017-08-21
申请人：日商日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：佐原啓一 , SAHARA, KEIICHI , 今村努 , IMAMURA, TSUTOMU , 田邉泰崇 , TANABE, YASUTAKA
IPC分类号： C03C17/23 , H01L21/76 , C23C14/08 , C23C14/34 , C23C14/54
摘要：本發明提供一種耐擦傷性優異之附介電體多層膜之玻璃板之製造方法。本發明之特徵在於：其係製造如下附介電體多層膜之玻璃板1之方法，該附介電體多層膜之玻璃板1具備玻璃板2、及積層於玻璃板2上之介電體多層膜3，且介電體多層膜3具有包含氧化矽之第1膜4、及包含折射率較氧化矽高之材料之第2膜5，該方法包括準備玻璃板2之步驟、及於玻璃板2上藉由濺鍍而成膜介電體多層膜3之步驟，且於藉由濺鍍而成膜第1膜4時，將第1膜4之成膜壓力設為0.4 Pa以下。
简体摘要：本发明提供一种耐擦伤性优异之附介电体多层膜之玻璃板之制造方法。本发明之特征在于：其系制造如下附介电体多层膜之玻璃板1之方法，该附介电体多层膜之玻璃板1具备玻璃板2、及积层于玻璃板2上之介电体多层膜3，且介电体多层膜3具有包含氧化硅之第1膜4、及包含折射率较氧化硅高之材料之第2膜5，该方法包括准备玻璃板2之步骤、及于玻璃板2上借由溅镀而成膜介电体多层膜3之步骤，且于借由溅镀而成膜第1膜4时，将第1膜4之成膜压力设为0.4 Pa以下。

2. 发明专利

TW201834995A 附有介電質多層膜的玻璃板及其製造方法审中-公开
简体标题：附有介电质多层膜的玻璃板及其制造方法
公开(公告)号：TW201834995A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106143659
申请日：2017-12-13
申请人：日商日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：佐原啓一 , SAHARA, KEIICHI , 今村努 , IMAMURA, TSUTOMU , 田邊泰崇 , TANABE, YASUTAKA
IPC分类号： C03C17/34 , H05K5/00
摘要：附有介電質多層膜的玻璃板（11）的玻璃板（12）具有至少其中一方的主面（12a）和側面（12b）之間的稜面（12c）。附有介電質多層膜的玻璃板（11）的介電質多層膜（13）具有被覆玻璃板（12）的主面（12a）的主面被覆部（13a）、以及被覆玻璃板（12）的稜面（12c）的稜面被覆部（13b）。附有介電質多層膜的玻璃板（11）的製造方法具備在玻璃板材形成稜面（12c）而得到玻璃板（12）的製程、以及在玻璃板（12）的主面（12a）和玻璃板（12）的稜面（12c）設置介電質多層膜（13）的製程。
简体摘要：附有介电质多层膜的玻璃板（11）的玻璃板（12）具有至少其中一方的主面（12a）和侧面（12b）之间的棱面（12c）。附有介电质多层膜的玻璃板（11）的介电质多层膜（13）具有被覆玻璃板（12）的主面（12a）的主面被覆部（13a）、以及被覆玻璃板（12）的棱面（12c）的棱面被覆部（13b）。附有介电质多层膜的玻璃板（11）的制造方法具备在玻璃板材形成棱面（12c）而得到玻璃板（12）的制程、以及在玻璃板（12）的主面（12a）和玻璃板（12）的棱面（12c）设置介电质多层膜（13）的制程。

3. 发明专利

TWI576604B 展示物或陳列物用蓋材構件有权
简体标题：展示物或陈列物用盖材构件
公开(公告)号：TWI576604B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW102107701
申请日：2013-03-05
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：今村努 , IMAMURA, TSUTOMU , 齊藤隆義 , SAITOH, TAKAYOSHI , 池上耕司 , IKEGAMI, KOJI , 尾岡利之 , KAJIOKA, TOSHIYUKI
IPC分类号： G02B1/11
CPC分类号： G02B1/115 , A01K63/003 , A47F3/005 , A47F11/08 , A47G1/16 , C03C17/3417 , C03C2217/734 , Y10T428/24942

4. 发明专利

TW201625987A 反射抑制膜及反射抑制構件审中-公开
简体标题：反射抑制膜及反射抑制构件
公开(公告)号：TW201625987A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW103133633
申请日：2014-09-26
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：福井悅二 , FUKUI, ETSUJI , 今村努 , IMAMURA, TSUTOMU
IPC分类号： G02B1/115
摘要：本發明提供一種具有較寬之反射抑制波長區域之反射抑制膜。本發明之反射抑制膜(11)具備：具有相對較高之折射率之高折射率層(12H)、及具有相對較低之折射率之低折射率層(12L)。高折射率層(12H)與低折射率層(12L)係以使最外層成為低折射率層(12L1)之方式交替地積層。反射抑制膜(11)進而具備中間折射率層(12M)。中間折射率層(12M)係配置於構成最外層之低折射率層(12L1)與位於其接下之高折射率層(12H1)之間。中間折射率層(12M)具有較構成最外層之低折射率層(12L1)之折射率高、且較位於其接下之高折射率層(12H1)之折射率低的折射率。
简体摘要：本发明提供一种具有较宽之反射抑制波长区域之反射抑制膜。本发明之反射抑制膜(11)具备：具有相对较高之折射率之高折射率层(12H)、及具有相对较低之折射率之低折射率层(12L)。高折射率层(12H)与低折射率层(12L)系以使最外层成为低折射率层(12L1)之方式交替地积层。反射抑制膜(11)进而具备中间折射率层(12M)。中间折射率层(12M)系配置于构成最外层之低折射率层(12L1)与位于其接下之高折射率层(12H1)之间。中间折射率层(12M)具有较构成最外层之低折射率层(12L1)之折射率高、且较位于其接下之高折射率层(12H1)之折射率低的折射率。

5. 发明专利

TWI432386B 附薄膜之玻璃基板的製造方法有权
简体标题：附薄膜之玻璃基板的制造方法
公开(公告)号：TWI432386B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW098128637
申请日：2009-08-26
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：岸本曉 , KISHIMOTO, AKIRA , 田部昌志 , TABE, MASASHI , 今村努 , IMAMURA, TSUTOMU
IPC分类号： C03B23/023 , C03C17/00 , C23C14/02 , G02B5/20
CPC分类号： C03B23/0252 , C03C17/002 , C03C17/3417 , C23C14/083 , C23C14/10 , G02B5/282

6. 发明专利

TW201341836A 展示物或陳列物用蓋材構件审中-公开
简体标题：展示物或陈列物用盖材构件
公开(公告)号：TW201341836A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW102107701
申请日：2013-03-05
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：今村努 , IMAMURA, TSUTOMU , 齊藤隆義 , SAITOH, TAKAYOSHI , 池上耕司 , IKEGAMI, KOJI , 尾岡利之 , KAJIOKA, TOSHIYUKI
IPC分类号： G02B1/11
CPC分类号： G02B1/115 , A01K63/003 , A47F3/005 , A47F11/08 , A47G1/16 , C03C17/3417 , C03C2217/734 , Y10T428/24942
摘要：本發明提供一種可使鑒賞者猶如與展示物或陳列物之間不存在任何事物般視認展示物或陳列物，並且可保護展示物或陳列物之展示物或陳列物用蓋材構件。展示物或陳列物用蓋材構件3包括透明基材31a、及形成於透明基材之至少一面之抗反射膜31b。展示物或陳列物用蓋材構件3之視感反射率為0.5%以下。
简体摘要：本发明提供一种可使鉴赏者犹如与展示物或陈列物之间不存在任何事物般视认展示物或陈列物，并且可保护展示物或陈列物之展示物或陈列物用盖材构件。展示物或陈列物用盖材构件3包括透明基材31a、及形成于透明基材之至少一面之抗反射膜31b。展示物或陈列物用盖材构件3之视感反射率为0.5%以下。

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